Radical 150とは 意味・読み方・使い方

Here, the copolymer (A) is obtained by polymerizing a radical-polymerizable monomer at a polymerization temperature of from 150 to 350°C and has a hydroxyl value of from 5 to 35 mg KOH/g, a glass transition temperature of -70 to 10°C and a number average molecular weight of 500 to 20,000.例文帳に追加

共重合体（Ａ）は、ラジカル重合性単量体を１５０〜３５０℃の重合温度で重合することにより得られ、水酸基価５〜３５ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度−７０〜１０℃及び数平均分子量５００〜２０，０００である。 - 特許庁

The radiation-curable dry film for forming an optical waveguide comprises (A) a copolymer having 20-150°C glass transition temperature obtained from a radical polymerizable compound having a carboxy group and another radical polymerizable compound, (B) a compound having two or more polymerizable reactive groups per molecule and (C) a radiation polymerization initiator.例文帳に追加

（Ａ）カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物とそれ以外のラジカル重合性化合物から得られ、そのガラス転移温度が２０℃以上１５０℃以下である共重合体 （Ｂ）分子中に２個以上の重合性反応基を有する化合物および （Ｃ）放射線重合開始剤、 を含有することを特徴とする光導波路形成用放射線硬化性ドライフィルム。 - 特許庁

This can realize a high workability of resist stripping at a high etching rate of 500 nm/min in etching speed within a range of 150-250°C in substrate temperature when a density of hydrogen radical (H^*) is appropriately selected in a range of 10^13 cm^-3 to 10^15 cm^-3 in high density.例文帳に追加

これにより、水素ラジカル（Ｈ^*）の密度が１０^13cm^-3〜１０^15cm^-3の高密度の範囲で適宜選定すると、基板温度１５０〜２５０℃の範囲でエッチング速度５００ｎｍ／ｍｉｎ．以上の高エッチングレートによるレジスト剥離の高作業性を実現することができる。 - 特許庁

The film is produced by irradiating a mixture mainly comprising a urethane polymer and a radical-copolymerizable monomer with radioactive rays, and has not less than 5 N/mm^2 in 100% modulus, not less than 150% in elongation at break, and not more than 200 seconds in stress relaxation time.例文帳に追加

複合フィルムは、ウレタンポリマーとラジカル重合性系モノマーとを主成分とする混合物に、放射線を照射して硬化させてなる、１００％ｍｏｄが５Ｎ／ｍｍ^2以上、破断伸度が１５０％以上、応力緩和時間が２００秒以下の複合フィルムである。 - 特許庁

A mixture of materials comprising 2-70 pts.wt. of a polyolefin, 30-98 pts.wt. of a vinyl monomer, and 0.01-5 pts.wt. of a radical polymerization initiator is brought into a reaction at 150-300°C in a continuous and complete agitation bath type process for an average retention time of 1-60 minutes.例文帳に追加

ポリオレフィン２〜７０質量部、ビニル単量体３０〜９８質量部およびラジカル重合開始剤０．０１〜５質量部を含有する原料混合物を１５０〜３００℃の温度において連続完全攪拌槽型プロセスを用いて平均滞留時間１〜６０分間で反応させる。 - 特許庁

Thermosetting resin coated particles comprise core particles composed of spherical particles in the surfaces of which hydrophobic substituents have been introduced, a thermosetting resin layer comprising a radically polymerizable acrylate type prepolymer having a softening point of 40-150°C which covers the surfaces of the core particles through the hydrophobic substituents, and a radical polymerization initiator which generates radicals by heating at 60-150°C.例文帳に追加

表面に疎水性置換基が導入されたコア粒子と、その表面を該疎水性置換基を介して被覆する軟化点４０〜１５０℃のラジカル重合性アクリート系プレポリマーおよび６０〜１５０℃の温度に加熱することでラジカルを発生する開始剤を含む熱硬化性樹脂層とからなる熱硬化性樹脂被覆粒子、およびこの被覆粒子を特定の数段階の工程で製造する方法である。 - 特許庁

The transparent conductive substrate is obtained by performing formation of a transparent conductive film of indium oxide tin at 150°C or above on a cured surface of a three dimensionally bridged radical reactive resin composition wherein a flat plate-like inorganic material with a specific nature is distributed, suitably in particular, on the cured surface of an allyl ester resin composition.例文帳に追加

特定の性状を有する平板状の無機物質が分散しているラジカル反応性３次元架橋型樹脂組成物、特に好適にはアリルエステル樹脂組成物の硬化物表面に１５０℃以上で酸化インジウムスズなどの透明導電膜を成膜して得られた透明導電性基板。 - 特許庁

The dye-sensitized solar cell spacer consisting of an acid-radical containing polymer with a melting point within the range of 85 to 150°C, (A) a 5 to 100 weight parts of polymers selected from a silane degenerated polymer and a epoxy-group containing olefin polymer, and (B) 0 to 95 weight parts of olefin polymers as well as a dye-sensitized solar cell is provided.例文帳に追加

融点が８５〜１５０℃の範囲にある酸基含有ポリマー、シラン変性ポリマー及びエポキシ基含有オレフィン重合体から選ばれる重合体（Ａ）５〜１００重量部及びオレフィン重合体（Ｂ）０〜９５重量部からなる色素増感型太陽電池用スペーサー、及び該スペーサーを備えた色素増感型太陽電池。 - 特許庁