The processor 18 performs extrapolation by using an equation of John so as to determine omitted cone beam data.例文帳に追加

プロセッサ１８は、欠落しているコーン・ビーム・データが決定されるように、ジョンの方程式を用いることにより補外を行う。 - 特許庁

In this case, to raise the accuracy of the dimension of the beam, a relational equation for restricting the position of the guiding hole is introduced.例文帳に追加

この際にハリの寸法精度を高めるために、先導孔の位置を限定する関係式を導出した。 - 特許庁

In this microscope, the following conditional equation is satisfied: A≤D/2, where A is the diameter of the field stop, and D is a beam diameter of light incident on the field stop.例文帳に追加

A≦D／２ ただし、Aは前記視野絞りの径、Dは前記視野絞りに入射するビームのビーム径とする。 - 特許庁

As the wavelength of the laser beam 2, a larger value than a wavelength λ calculated from the equation is adopted; λ=h×c/Eg (h: Planck constant; C: light velocity; Eg: band gap).例文帳に追加

レーザー光２の波長には、λ＝ｈ・ｃ／Ｅｇ（ｈ：プランク定数、ｃ：光の速さ、Ｅｇ：バンドギャップ）で算出される波長λよりも大きい値が採用される。 - 特許庁

When analyzing charge distribution or potential distribution of a material to which charged particle beam or electromagnetic wave is projected, movement of charged particles is tracked by combining a Monte Carlo method and a method for resolving a diffusion equation of charged particles.例文帳に追加

荷電粒子線または電磁波が照射された物質における電荷分布またはポテンシャル分布を解析するに当たり、モンテカルロ法と荷電粒子の拡散方程式を解く方法とを組み合わせて荷電粒子の運動を追跡する。 - 特許庁

The beam length index is determined by an approximate expression including the pixel pitch as a parameter obtained from the equation of temperature resolution in response to the type of the stepper used for pixel patterning and the thermal conductivity of the material of the wiring 6.例文帳に追加

梁長指数は、温度分解能の式に基づいて、画素のパターニングに用いられるステッパの種類及び配線６の材料の熱伝導率に応じて求められた、画素ピッチをパラメータとする近似式で与える。 - 特許庁

The speed vector including the speed component in the direction of the ultrasonic beam and the speed component in a direction orthogonal to the direction of the ultrasonic beam and the pressure are calculated with respect to each calculation point by repeatedly operating a numerical value calculation formula based on a Navier-Stokes equation with speed information on the direction of the ultrasonic beam at each calculation point in an analyte as an initial value for each time step.例文帳に追加

被検体内の各計算点の超音波ビーム方向についての速度情報を初期値として、ナビエ・ストークス方程式に基づく数値計算式を時間ステップごとに反復演算することにより、各計算点について、超音波ビーム方向の速度成分と超音波ビーム方向に直交する方向の速度成分とを含む速度ベクトル及び圧力、を計算する。 - 特許庁

In the exposing method employing a charged particle beam as exposing light, an electromagnetic equation of motion is solved based on the potential distribution on the exposure surface immediately before a next exposing position is exposed in order to determine the orbital shift of the charged particle beam caused by charging on the exposure surface, and deflection angle of the charged particle beam is corrected before starting exposure at the next exposing position.例文帳に追加

露光光として荷電粒子線を用いる露光方法であって、次の露光位置に対して露光を行う直前における露光表面の表面電位分布に基づいて電磁気学的運動方程式を解くことにより、この露光表面の帯電に起因する荷電粒子線の軌跡ずれを求め、この軌跡ずれに基づいて荷電粒子線の偏向角度を補正して次の露光位置に対する露光を行う。 - 特許庁

Then, a recording power Pw1 of a laser beam from a semiconductor laser element emitted from an objective lens of an optical head at the recording time and the coefficient n are added to the above detected values Sp, Ss to obtain the index Rm for detecting the recorded state of the optical disk by equation Rm=Sp/Ss/Pw1^n.例文帳に追加

そして、これらの検出値Ｓｐ，Ｓｓに、記録時に半導体レーザ素子からのレーザ光が光ヘッドの対物レンズから出射される記録パワーＰｗ１と係数ｎとを加え、Ｒｍ＝Ｓｐ／Ｓｓ／Ｐｗ１^ｎによって光ディスクの記録状態を検出する指数Ｒｍを求める。 - 特許庁

In the disk having different the depth of the groove/pit, the difference d3 between the height d1 from the bottom surface to the upper surface of the groove and the height d2 from the bottom surface to the upper surface of the pit satisfies equation λ/8n≤d3≤λ/5n (λ: the wavelength of the laser beam, n: refractive index of the disk).例文帳に追加

グルーブ／ピットの深さが異なるディスクは、底面からグルーブの上部面までの高さｄ_1及び底面からピットの上部面までの高さｄ_2間の差ｄ_3が式λ／８ｎ≦ｄ_3≦λ／５ｎ（λ：レーザービームの波長、ｎ：ディスクの屈折率）を満足する。 - 特許庁

A thermal conduction equation regarding a silicon film is solve on the basis of not only basic parameter including a central position, disctribution and energy density of a laser beam and overlapping ratio when multiplex laser beam irradiation is performed, but also fluctuation components including the center position and energy density, and growth of crystals in the object is statistically calculated.例文帳に追加

レーザビームの中心位置、分布、及びエネルギ密度、並びにレーザビームを多重照射する際の重複率を含む基本パラメータのみならず、中心位置、及びエネルギ密度を含むゆらぎ成分に基づいてシリコン膜に関する熱伝導方程式を解いて、対象物中における結晶の成長を統計的に計算する。 - 特許庁