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To provide a polishing pad for CMP polishing and a polishing method excellent in view points of polishing flaw, surface roughness, surface undulation of a plane being machined, and machining speed and in which clogging and drawback of polishing are retarded.例文帳に追加
被加工面の研磨傷、被加工面の表面粗さ、被加工面の表面うねり、加工速度、等の点で優れ、かつ、目詰まりが生じにくく、研磨欠点を生じさせにくいＣＭＰ研磨用研磨パッドおよび研磨方法の提供。 - 特許庁
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