dry removal methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a manufacturing method of an information display panel in which a satisfactory production efficiency can be obtained by performing a short-circuit removal process of removing inter-electrode short-circuit of a completed dry information display panel.例文帳に追加

完成した乾式の情報表示用パネルの電極間ショートを除去するショート除去工程を行うことにより、生産効率の良い情報表示用パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a decomposition and removal apparatus and a decomposition and removal method using the same capable of attaining a higher decomposition rate of a VOC (volatile organic compound) in the presence of steam as well as in a dry gas condition and further capable of reducing its operating cost compared with an apparatus and a method wherein a noble metal supported catalyst is used.例文帳に追加

ドライガス条件下だけでなく、水蒸気存在条件下においても高いＶＯＣ（揮発性有機化合物）分解率を発揮でき、さらに貴金属担持触媒を用いたものよりも低コスト化を実現することができる揮発性有機化合物の分解除去装置及びそれを用いた分解除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a resist stripper capable of rapidly removing photosensitive materials, such as a photoresist and dry film resist, without causing the residue of removal to remain on a substrate and a removing method using the composition.例文帳に追加

フォトレジスト、ドライフィルムレジスト等の感光性材料に対して、基体に剥離残渣を残さず迅速に剥離することができるレジスト剥離液用組成物およびこの組成物を用いた剥離方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method in a stacked film structural body capable of efficiently etching a removal part in which a layer suited for dry etching is interposed into a space between layers suited for wet etching, and to provide a wafer used for the etching method.例文帳に追加

ウェットエッチングに適した層の間にドライエッチングに適した層が介在されている除去部を効率よくエッチングすることができる、積層膜構造体におけるエッチング方法、並びに、当該エッチング方法に使用されるウエハを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid composition for a semiconductor substrate that improves removal force of residue during cleaning of a metal layer after dry etching and reduces damage of the metal layer to a minimum, a cleaning method of the semiconductor substrate using the composition, and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

ドライエッチング後の金属層の洗浄時、残留物の除去力を向上させ、金属層の損傷を最小化することができる半導体基板用洗浄液組成物、これを用いた半導体基板の洗浄方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an earthworm extract hardly causing insufficient recovery of supernatant liquid due to clogging in filtration and in centrifugation, also good in operability, easy in removal of water-insoluble matter, and a method for producing an earthworm dry powder from the earthworm extract.例文帳に追加

ろ過における目詰まりや遠心における上清液の回収不良を生じ難く、加えて操作性が良く、水不溶物の除去も容易なミミズ抽出液の製造方法及びそれによって得られたミミズ抽出液からミミズ乾燥粉末を製造する方法の提供を目的とする。 - 特許庁

In the removal process of the semiconductor layer 14, a dry etching method is used so that even an electrode film 19 hidden under a resist 20 can be prevented from being removed, and that any level in difference can be prevented from being generated between the electrode 15 and 16 and the semiconductor layer 14.例文帳に追加

半導体層１４の除去工程では、ドライエッチング法を用いているので、レジスト２０の下に隠れている電極膜１９まで除去されることがなく、電極１５，１６と半導体層１４との間で段差は生じない。 - 特許庁

To provide a new paving-material cut-powder removal device, which enables working in a dry environment with superiority in the environmental setting while employing a down-cut style as a superior cutting method, and a paving-material cutting equipment equipped with the device.例文帳に追加

切断方式として優位性の有るダウンカット方式を採用しながら、環境設定として優位性のあるドライ環境での作業を可能とした新規な舗装材の切削粉粒の除去装置、並びにこれを具えた舗装材切断装置の開発を試みたものである。 - 特許庁