dry showerとは 意味・読み方・使い方

The apparatus allows a person to be cared to defecate, wash the mainly dirty lower half body, and wash and dry the dirtied things in a combination toilet and shower of a simplified unit in a personal room, and also allows the carer to easily clean the interior of the personal room.例文帳に追加

要介護者が個室に於いて簡易ユニツト・トイレ・シャワーで大・小便の用を足し主に汚れた下半身が洗え汚物を洗い・乾燥する事が出き個室の室内も手軽に掃除の出きるようにした。 - 特許庁

When heated air is supplied into the chamber 1 from the shower nozzle 17, the chamber 1 is filled with the vapor phase of the dry medium.例文帳に追加

チャンバ１内にシャワーノズル１７から加熱空気を供給すると、チャンバ１内には乾燥媒体の気相が充満するが、排気管６５により排気されるとともに、冷却器６９によって冷却されて凝縮される。 - 特許庁

A semiconductor wafer SW is placed on a wafer stage 57a in a dry cleaning chamber 57 of a film forming apparatus, a reducing gas is supplied thereto to dry-clean the major surface of the semiconductor wafer SW, and then the semiconductor wafer SW is heat treated at a first temperature of from 100 to 150°C using a shower head 57c kept at 180°C.例文帳に追加

成膜装置のドライクリーニング処理用のチャンバ５７に備わるウエハステージ５７ａ上に半導体ウエハＳＷを置いた後、還元ガスを供給して半導体ウエハＳＷの主面上をドライクリーニング処理し、続いて１８０℃に維持されたシャワーヘッド５７ｃにより半導体ウエハＳＷを１００から１５０℃の第１の温度で熱処理する。 - 特許庁

After a semiconductor wafer SW is positioned on a wafer stage 27a equipped in a dry-cleaning chamber 27 of a film forming apparatus, a reducing gas is supplied to dry-clean on the main surface of the semiconductor wafer SW, then, the semiconductor wafer SW is heat-treated at a first temperature 100-150°C by a shower head 27c kept at 180°C.例文帳に追加

成膜装置のドライクリーニング処理用のチャンバ２７に備わるウエハステージ２７ａ上に半導体ウエハＳＷを置いた後、還元ガスを供給して半導体ウエハＳＷの主面上をドライクリーニング処理し、続いて１８０℃に維持されたシャワーヘッド２７ｃにより半導体ウエハＳＷを１００から１５０℃の第１の温度で熱処理する。 - 特許庁

To provide an oil-in-water type skin cosmetic for wet skin for applying to a wet skin after bathing or a shower, which well spreads on skin, can be easily applied, and provides excellent dry feeling to a skin after its application.例文帳に追加

入浴やシャワー後の濡れた肌に適用するための水中油型皮膚化粧料であって、肌への伸びが良好で塗布し易く、且つ、塗布後の肌に極めて良好なさらさら感を付与する濡れ肌用水中油型皮膚化粧料を提供する。 - 特許庁

To improve the corrosion resistance to plasma; and to provide a plasma resistant member which can be suitably used as a member of a chamber, a chamber liner, a shower plate, a baffle-plate or an electrode used in an apparatus for dry process for manufacturing a semiconductors or a liquid crystal.例文帳に追加

プラズマに対する耐食性の向上を図り、半導体または液晶製造のためのドライブラセス装置に用いられるチヤンバー、チヤンパーライナー、シャワープレート、バツフル板、電極等の部材に好適に用いることができる耐プラズマ性部材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a member with plasma resistance, which improves corrosion resistance to plasma, and can be suitably used for members such as a chamber, a chamber liner, a shower plate, a baffle plate, and an electrode, which are used for a dry processing apparatus for manufacturing a semiconductor or a liquid crystal.例文帳に追加

プラズマに対する耐食性の向上を図り、半導体または液晶製造のためのドライプラセス装置に用いられるチャンバー、チャンバーライナー、シャワープレート、バッフル板、電極等の部材に好適に用いることができる耐プラズマ性部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cap with an intermittent screw which prevents intrusion of water drop in the cap during shower cooling, enables easy removal and dry of intrusion water drop, is easily used since opening and closing torque is relatively low, hardly loosens during delivery and storage and can reduce an amount of a resin.例文帳に追加

シャワー冷却時のキャップ内への水滴の混入を防ぎ、混入した水滴を排除し易く又は乾燥し易く、開閉トルクが比較的に低く使用し易く、流通や保存中に緩みにくく、また、樹脂量を削減可能な断続ネジ付キャップを提供する。 - 特許庁