em1とは 意味・読み方・使い方

The airbag device M for a front passenger seat is provided with the airbag 20 to be inflated in two inflation modes of a large volume mode EM2 and a small volume mode EM1.例文帳に追加

本発明の助手席用エアバッグ装置Ｍは、大容積モードＥＭ２と小容積モードＥＭ１との二つの膨張モードで膨張するエアバッグ２０を備える。 - 特許庁

Since the parts similar to each other are highlighted (Em1) on the overhead view display picture (1), the user designates the part similar to the cleared part as a part to practice next.例文帳に追加

俯瞰表示画面には互いに類似した部分が強調表示される（Ｅｍ１）ので、ユーザは、クリアした部分に類似する部分を次のレッスン部分として指定することができる。 - 特許庁

When the number of transmitted prompt mails reaches the predetermined number as the result of the transmission of the prompt mail in each period, the evaluation server 10 lowers the evaluation value of the job offer terminal EM1 stored in the hard disk 11 (4).例文帳に追加

所定期間ごとに催促メールを送信した結果、送信した催促メール数が所定の数になったとき、評価サーバ１０はハードディスク１１内に記憶している求人端末ＥＭ１の評価値を下げる（４）。 - 特許庁

Successively, a metal film EM1 for a gate electrode is formed on the cap film Cp1 for pMIS, and by processing these, a metal gate electrode pG1 for pMIS and a high dielectric gate insulating film pI1 for pMIS are formed.例文帳に追加

続いて、ｐＭＩＳ用キャップ膜Ｃｐ１上にゲート電極用金属膜ＥＭ１を形成し、これらを加工することでｐＭＩＳ用金属ゲート電極ｐＧ１とｐＭＩＳ用高誘電率ゲート絶縁膜ｐＩ１とを形成する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the semiconductor device, a step of finely working a resist pattern, formed in a lithography step by isotropic etching using ozone and another step of etching a work by using the finely worked resist pattern as a mask are performed by means of the same etching system EM1.例文帳に追加

オゾンを用いた等方性エッチングによってリソグラフィ工程で形成されたレジストパターンを細く加工する工程と、細く加工されたレジストパターンをマスクとして被加工材をエッチングする工程とを同一のエッチング装置ＥＭ１で行う。 - 特許庁

After that, a barrier conductor film EM1 composed of a lower barrier conductor film eb1 containing tantalum or titanium and an upper barrier conductor film et1 mainly made of ruthenium is formed so as to cover the side wall and the bottom face of the hole H1 for the first wiring.例文帳に追加

その後、第１配線用孔部Ｈ１の側壁および底面を覆うようにして、タンタルまたはチタンを含む下部バリア導体膜ｅｂ１と、ルテニウムを主体とする上部バリア導体膜ｅｔ１とからなる第１配線用バリア導体膜ＥＭ１を形成する。 - 特許庁

The first emission layer EML1 contains a first dopant material EM1 having an emission center in a red color wavelength, and a first host material HM1 having an absorbance bottom on the short wavelength side beyond an absorbance peak in the absorbance spectrum characteristics of the first dopant material.例文帳に追加

第１発光層ＥＭＬ１は、赤色波長に発光中心を有する第１ドーパント材料ＥＭ１と、第１ドーパント材料の吸光度スペクトル特性における吸光度ピークよりも短波長側に吸光度ボトムを有する第１ホスト材料ＨＭ１と、を含む。 - 特許庁

On the basis of the distribution of matching errors, a correspondent candidate parallax extracting part 104 extracts a disparity Dp=m1 (fist correspondent candidate disparity) which becomes the matching error (primary peak error) of a minimum value Em1, and a disparity Dp=m2 (second correspondent candidate disparity) which becomes the matching error (secondary peak error) of the next smallest value Em2.例文帳に追加

対応候補視差抽出部１０４は、マッチングエラーの分布を基に、最小値Ｅｍ１のマッチングエラー（１次ピークエラー）となった視差Ｄｐ＝ｍ１（第１の対応候補視差）と、その次に小さい値Ｅｍ２のマッチングエラー（２次ピークエラー）となった視差Ｄｐ＝ｍ２（第２の対応候補視差）を抽出する。 - 特許庁