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exposure angleとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 撮影角度
「exposure angle」の部分一致の例文検索結果
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The holographic optical element is exposed to the above parallel wave surface at a different angle from the exposure angle of the reference wave surface.例文帳に追加
上記の平行な波面は、基準波面とは異なる角度でホログラフィ光学素子に当たる。 - 特許庁
To make adjustments to an angle and position of an exposure beam by a simple structure.例文帳に追加
単純な構造で露光ビームの角度と位置の調節を行う。 - 特許庁
To change a tilt angle of an exposure pattern in a depth direction.例文帳に追加
露光パターンにおける深さ方向の傾斜角を変化させる。 - 特許庁
A wide-angle long-exposure image is captured with a relatively long exposure time by the first imaging apparatus (a wide-angle camera) and a telescopic short-exposure image T_S is captured with a relatively short exposure time by the second imaging apparatus (a telescopic camera) at the same time.例文帳に追加
第１撮像部（広角カメラ）にて、比較的長い露光時間を用いて広角長露光画像を撮影し、これと同時に、第２撮像部（望遠カメラ）にて、比較的短い露光時間を用いて望遠短露光画像Ｔ_Ｓを撮影する。 - 特許庁
To provide a liquid immersion inclined lithography apparatus, not only performing normal and inclined exposure process steps, but also accurately controlling the exposure angle and adjusting the inclined angle of a microstructure after exposure.例文帳に追加
垂直露光工程および傾斜露光工程を行うことが可能である上、露光角度を精確に制御し、露光後の微細構造の傾斜角度を調整することが可能な液浸傾斜リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
A process for adjusting includes rotation of the exposure head 16, which is used in at least one of the first exposure and the second exposure, in the direction to eliminate a difference between the first angle and the second angle.例文帳に追加
調整の工程は、第１角度及び第２角度の差をなくす方向に、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６を回転させることを含む。 - 特許庁
An inclination angle of the exposure plate is adjusted with the retaining pin, and the exposure plate is tilted together with a wafer, thereby maintaining the same plane as a wafer surface.例文帳に追加
露光板は支持ピンにより傾斜角度が調整されてウエハと連帯して傾斜すると共にウエハ表面と同一平面を維持させられる。 - 特許庁
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「exposure angle」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 214件
METHOD FOR ADJUSTING BEAM LANDING ANGLE IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD AND APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加
荷電粒子線露光装置におけるビームランディング角の調整方法、荷電粒子線露光方法及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
The exposure method comprises introducing the exposure beam B reflected by the reflection structure 3 to a face forming an angle with respect to the surface of a substrate 21.例文帳に追加
露光方法については、反射構造体３にて反射された露光ビームＢを基板２１の表面と角度をなす面に導くという構成にする。 - 特許庁
Thereafter, the aberration angle of the exposure beam is determined by measuring a distance between the reference image and the comparison image.例文帳に追加
以後、基準イメージと比較イメージとの間の距離を測定して露光ビームの収差角を決める。 - 特許庁
To provide an imaging apparatus capable of displaying a real time image for confirming an image angle during exposure.例文帳に追加
画角確認用のリアルタイム画像を露光中に表示し得る撮像装置を提供する。 - 特許庁
To highly accurately measure imaging characteristics in a projection optical system, in particular, angle characteristics of exposure light.例文帳に追加
投影光学系の結像特性、特に露光光の角度特性を高精度に測定する。 - 特許庁
To provide an exposure device capable of suppressing an angle deviation between a wafer stage and an optical system unit.例文帳に追加
ウエハステージと光学系ユニットとの角度ずれを抑制することができる露光装置を提供する。 - 特許庁
The water-exposure guard 29 faces the sound-pressure outlet 281 at a predetermined angle therebetween.例文帳に追加
被水ガード２９は、音圧出口２８１に対して所定の角度で対向させる。 - 特許庁
The irradiation with the exposure light in the exposure process is performed by arranging louvers between the exposure light source of the exposure light and the lenticular lens of the light transparent substrate in such a manner that the diffusion angle of the exposure light attains ≥±2 to ≤15°.例文帳に追加
本発明においては、露光工程における露光光線の照射を、露光光線の露光光源と光透過性基板のレンチキュラーレンズとの間に、露光光線の拡散角が±２°以上±１５°以下となるようにルーバーを配置して行う。 - 特許庁
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