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exposure angleとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 撮影角度
「exposure angle」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 214件
To change a tilt angle of an exposure pattern in a depth direction.例文帳に追加
露光パターンにおける深さ方向の傾斜角を変化させる。 - 特許庁
The holographic optical element is exposed to the above parallel wave surface at a different angle from the exposure angle of the reference wave surface.例文帳に追加
上記の平行な波面は、基準波面とは異なる角度でホログラフィ光学素子に当たる。 - 特許庁
To make adjustments to an angle and position of an exposure beam by a simple structure.例文帳に追加
単純な構造で露光ビームの角度と位置の調節を行う。 - 特許庁
The exposure of the resist by the double-beam interference method is carried out only twice and directions of interference fringes are given a 60° angle difference between the first exposure and second exposure.例文帳に追加
二光束干渉法によるレジストの露光は２回のみ行い、１回目の露光と２回目の露光で干渉縞の方向に６０゜の角度差をもたせる。 - 特許庁
A process for adjusting includes rotation of the exposure head 16, which is used in at least one of the first exposure and the second exposure, in the direction to eliminate a difference between the first angle and the second angle.例文帳に追加
調整の工程は、第１角度及び第２角度の差をなくす方向に、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６を回転させることを含む。 - 特許庁
The water-exposure guard 29 faces the sound-pressure outlet 281 at a predetermined angle therebetween.例文帳に追加
被水ガード２９は、音圧出口２８１に対して所定の角度で対向させる。 - 特許庁
A wide-angle long-exposure image is captured with a relatively long exposure time by the first imaging apparatus (a wide-angle camera) and a telescopic short-exposure image T_S is captured with a relatively short exposure time by the second imaging apparatus (a telescopic camera) at the same time.例文帳に追加
第１撮像部（広角カメラ）にて、比較的長い露光時間を用いて広角長露光画像を撮影し、これと同時に、第２撮像部（望遠カメラ）にて、比較的短い露光時間を用いて望遠短露光画像Ｔ_Ｓを撮影する。 - 特許庁
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「exposure angle」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 214件
The exposure step includes a step of carrying out exposure, while making the incidence angle of the light changed and the varying speed of the incidence angle of the light in one direction changed.例文帳に追加
露光工程は、光の入射角度を変化させながら露光を行なって、一の方向における光の入射角度の変更速度を変化させる工程を含む。 - 特許庁
ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE MEASURING APPARATUS, ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE DISTRIBUTION MEASURING APPARATUS, ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS, ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE MEASURING METHOD AND ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE DISTRIBUTION MEASURING METHOD例文帳に追加
電子線入射角度測定装置、電子線入射角度分布測定装置、電子線露光装置、電子線入射角度測定方法及び電子線入射角度分布測定方法 - 特許庁
METHOD FOR ADJUSTING BEAM LANDING ANGLE IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD AND APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加
荷電粒子線露光装置におけるビームランディング角の調整方法、荷電粒子線露光方法及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
To provide a liquid immersion inclined lithography apparatus, not only performing normal and inclined exposure process steps, but also accurately controlling the exposure angle and adjusting the inclined angle of a microstructure after exposure.例文帳に追加
垂直露光工程および傾斜露光工程を行うことが可能である上、露光角度を精確に制御し、露光後の微細構造の傾斜角度を調整することが可能な液浸傾斜リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
The irradiation with the exposure light in the exposure process is performed by arranging louvers between the exposure light source of the exposure light and the lenticular lens of the light transparent substrate in such a manner that the diffusion angle of the exposure light attains ≥±2 to ≤15°.例文帳に追加
本発明においては、露光工程における露光光線の照射を、露光光線の露光光源と光透過性基板のレンチキュラーレンズとの間に、露光光線の拡散角が±２°以上±１５°以下となるようにルーバーを配置して行う。 - 特許庁
The exposure apparatus 142 corrects the inclination angle by the inclination angle correcting mechanism on the basis of the measured beam position and focal position.例文帳に追加
露光装置１４２は、測定されたビーム位置及びピント位置に基づいて、傾斜角度補正機構により傾斜角度を補正する。 - 特許庁
To highly accurately measure imaging characteristics in a projection optical system, in particular, angle characteristics of exposure light.例文帳に追加
投影光学系の結像特性、特に露光光の角度特性を高精度に測定する。 - 特許庁
To provide an imaging apparatus capable of displaying a real time image for confirming an image angle during exposure.例文帳に追加
画角確認用のリアルタイム画像を露光中に表示し得る撮像装置を提供する。 - 特許庁
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