In this method for manufacturing the cylinder liner, a coating film 51 continuing from a liner upper end 23 to a liner lower end 24 is formed by a thermal spraying equipment 52.例文帳に追加

この製造方法では、ライナ上端２３からライナ下端２４までにわたり連続する態様の皮膜５１を溶射装置５２により形成する。 - 特許庁

In order to form the doped oxide film liner 140a, an oxide film liner is formed on the sidewall liner 130 and then the oxide film liner is doped with a dopant under a plasma atmosphere.例文帳に追加

不純物ドーピング酸化膜ライナ１４０ａを形成するために、側壁ライナ１３０上に酸化膜ライナを形成した後、プラズマ雰囲気下で酸化膜ライナに不純物をドーピングする。 - 特許庁

The liner film remaining in the bottom part of the first contact hole, and the liner film remaining in the bottom part of the second contact hole, are removed thereafter.例文帳に追加

次に、第１のコンタクトホールの底部に残存するライナー膜、及び第２のコンタクトホールの底部に残存するライナー膜を除去する。 - 特許庁

The trench is buried in the liner layer by a trench element separation film.例文帳に追加

ライナー層上にトレンチ素子分離膜でトレンチを埋立てる。 - 特許庁

FILM, INNER LINER FOR TIRE, AND TIRE USING THE SAME例文帳に追加

フィルム、タイヤ用インナーライナー及びそれを用いたタイヤ - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING INNER LINER WITH FILM AND MANUFACTURING DEVICE THEREFOR例文帳に追加

フィルム付きインナーライナーの製造方法および製造装置 - 特許庁

A field-oxide region is formed on the insulating-film liner 18a.例文帳に追加

フィールド酸化膜領域が絶縁ライナー１８ａ上に形成される。 - 特許庁

After the heat treatment, the liner oxide film 22 is made thinner by etching.例文帳に追加

熱処理後に、エッチングにより、ライナー酸化膜２２が薄膜化される。 - 特許庁

The silicon oxide film 6a and the silicon nitride film 6b function as a liner film.例文帳に追加

シリコン酸化膜６ａ及びシリコン窒化膜６ｂはライナ膜として機能する。 - 特許庁

LINER FOR MANUFACTURING OPTICALLY FUNCTIONAL FILM, METHOD OF MANUFACTURING OPTICALLY FUNCTIONAL FILM AND OPTICAL FUNCTION FILM例文帳に追加

光学機能フィルム製造用ライナー、光学機能フィルムの製造方法、および、光学機能フィルム。 - 特許庁

LINER FOR PRODUCTION OF OPTICAL FUNCTIONAL FILM, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FUNCTIONAL FILM, AND OPTICAL FUNCTIONAL FILM例文帳に追加

光学機能フィルム製造用ライナー、光学機能フィルムの製造方法、および、光学機能フィルム。 - 特許庁

In this pneumatic tire 10, a film inner liner 38A is adhered to inner liner rubber 35 of a main air chamber 26.例文帳に追加

空気入りタイヤ１０では、主気室２６のインナーライナーゴム３５にフィルムインナーライナー３８Ａが貼り付けられている。 - 特許庁

The resin film 20 is fixed on the liner main body 14 under a condition that the metal layer 19 is positioned on an inner surface side of the liner main body 14.例文帳に追加

樹脂フィルム20は金属層19がライナ本体14の内面側に位置する状態でライナ本体14に固着されている。 - 特許庁

The semiconductor device includes an interlayer insulating film 1, a lower wiring line 5 formed within the interlayer insulating film 1, a liner film 11 formed on the interlayer insulating film 1, and an interlayer insulating film 12 formed on the liner film 11.例文帳に追加

半導体装置は、層間絶縁膜１と、層間絶縁膜１内に形成された下部配線５と、層間絶縁膜１上に形成されたライナー膜１１と、ライナー膜１１上に形成された層間絶縁膜１２とを備えている。 - 特許庁

Thereafter, the liner film 11 consisting of silicon nitride is formed on the lower layer insulating film 10.例文帳に追加

その後、当該下層絶縁膜１０上に、窒化シリコンから成るライナー膜１１を形成する。 - 特許庁

The other nitride film is so formed on the nitride film liner that the trench is buried perfectly.例文帳に追加

窒化膜ライナー上にはトレンチを完全に埋め込むように他の絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

A first insulating film 5 is provided as a liner film to contact the support of the Al electrode 4.例文帳に追加

Al電極４の支持部分に接触するように、ライナー膜として、第１絶縁膜５が設けられている。 - 特許庁

Preferably, the opening is formed in both of the film and a liner stuck to the film.例文帳に追加

なお、開口部はフィルムおよび該フィルムに貼付けられたライナの両方に形成されるのが好ましい。 - 特許庁

The nitride film 12 and the liner oxide film 14 are removed, and the STI film 17 is formed of the remaining liner oxide film 14 and the HDP oxide film 16.例文帳に追加

窒化膜１２及びライナー酸化膜１４を除去し、残ったライナー酸化膜１４及びＨＤＰ酸化膜１６によってＳＴＩ膜１７を形成する。 - 特許庁

The selection ratio of an SRO liner film is made large for an HDP silicon oxide film, and the SRO liner film is used as an etching stopper film when the HDP oxide silicon film is etched.例文帳に追加

ＨＤＰ酸化シリコン膜に対してＳＲＯライナ膜の選択比を高め、ＨＤＰ酸化シリコン膜をエッチングする時のエッチングストッパ膜としてＳＲＯライナ膜を使用する。 - 特許庁

The liner 7 comprises a synthetic resin film and emboss processing is applied to the surface of the liner to bring the surface roughness Ra of the liner to 0.5-500 μm.例文帳に追加

また、ライナー７は合成樹脂製のフィルムからなり、表面には表面粗度Ｒａ＝０．５〜５００μｍのエンボス加工が施されたものを用いる。 - 特許庁

A third insulating film 112 is formed on the trench liner 110, then the second insulating film and the trench liner 110 are etched flat till the surface of the first insulating film is exposed, and the first insulating film and the trench liner 110 are removed by dry etching.例文帳に追加

そして、トレンチライナ上に第３絶縁膜１１２が形成された後、第１絶縁膜の表面が露出するまで第２絶縁膜とトレンチライナ１１０が平坦にエッチングされ、第１絶縁膜とトレンチライナ１１０が乾式エッチングで除去される。 - 特許庁

A liner film 17 and an interlayer insulating film 18 are formed on the semiconductor substrate 11 subjected to the etching, and then, a contact hole 19 is formed on the interlayer insulating film 18 and the liner film 17.例文帳に追加

当該エッチングが行われた半導体基板１１上に、ライナー膜１７、および層間絶縁膜１８が形成された後、層間絶縁膜１８およびライナー膜１７にコンタクトホール１９が形成される。 - 特許庁

The present invention relates to the element isolation film manufacturing method of the semiconductor device; in particular, after removing a liner oxide film of a peripheral circuit region and oxidizing a liner oxynitride film, an element isolation film is formed.例文帳に追加

本発明は半導体素子の素子分離膜製造方法に関するもので、特に周辺回路領域のライナー酸化膜を除去してライナー窒化膜を酸化させたあと素子分離膜を形成した。 - 特許庁

After a liner film 7 having a charge damage which is smaller than that of a HDP film 8a is formed on a gate electrode 3, the HDP film 8a is formed on the liner film 7 with the high density plasma CVD.例文帳に追加

ＨＤＰ膜８ａよりもチャージダメージの小さいライナ膜７をゲート電極３上に形成してから、高密度プラズマＣＶＤにより、ＨＤＰ膜８ａをライナ膜７上に形成する。 - 特許庁

Also, coverage that the lower layer insulating film 10 has when forming the film is higher (better) than coverage that the liner film 11 has when forming the film.例文帳に追加

なお、成膜時における下層絶縁膜１０が有するカバレッジは、成膜時におけるライナー膜１１が有するカバレッジよりも高い（良い）。 - 特許庁

Furthermore, a liner film 35 having tensile stress is formed on the entire surface of the semiconductor substrate 101.例文帳に追加

半導体基板１０１の全面上に、引っ張り応力を有するライナー膜３５をさらに備えている。 - 特許庁

A liner oxide film 22 is formed on the inner surface of the element separation trench 21 by thermal oxidation method.例文帳に追加

素子分離トレンチ２１の内面に熱酸化法によりライナー酸化膜２２が形成される。 - 特許庁

A surface treatment film 71 is provided on the liner 31 and the material passage 54 by electroless plating.例文帳に追加

ライナー３１及び材料通路５４に無電解メッキによる表面処理皮膜７１を設けル。 - 特許庁

To provide a primer to improve adhesion of a polyurethane protective liner to a metal oxide film.例文帳に追加

ポリウレタン保護ライナーと金属酸化物被膜との接着性を改善するプライマーを提供する。 - 特許庁

To provide a combustor liner and a gas turbine engine assembly excellent in effectiveness of a cooling film.例文帳に追加

冷却膜の有効性に優れた燃焼器ライナ及びガスタービンエンジンアセンブリを提供する。 - 特許庁

In this case, the liner not only prevents the oxidation of the trench sidewall but also functions as a flatting preventive film.例文帳に追加

窒化膜ライナはトレンチ側壁の酸化を防止するだけではなく、平坦化阻止膜として機能する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE WITH CLOSE STRESS LINER FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加

近接した応力ライナー膜を有する半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

The liner film 11 has also a role of an etching stopper for forming a contact 13.例文帳に追加

ライナー膜１１は、コンタクト１３の形成のためのエッチングストッパとしての役割ももつ。 - 特許庁

To provide a film cooled combustor liner used for a gas turbine engine.例文帳に追加

本発明は、ガスタービンエンジンに用いられるフィルム冷却式燃焼器ライナに関する。 - 特許庁

The liner ply comprises a metallized film disposed between inner and outer sealant layers.例文帳に追加

ライナー層は、内部シーラント層と外部シーラント層の間に配置された金属被覆フィルムを含む。 - 特許庁

A via 28 and upper layer wiring 30 are formed inside the liner film 20 and interlayer dielectric 22.例文帳に追加

ライナー膜２０と層間絶縁膜２２内にビア２８と上層配線３０とが形成される。 - 特許庁

A liner layer is deposited onto the trench etching mask and the entire surface of the oxide film.例文帳に追加

トレンチエッチングマスク及び酸化膜の全面にライナー層を蒸着する。 - 特許庁

The liner layer at the boundary portion between the trench etching mask and oxide film is removed.例文帳に追加

トレンチエッチングマスクと酸化膜境界部分のライナー層を除去する。 - 特許庁

A photograph 2 and a negative film 9 are arranged between the transparent sheet 13 and the liner 14.例文帳に追加

透明シート１３とライナ１４間に写真２、ネガフィルム９を配置する。 - 特許庁

Resin film 20 having metal layer 19 partially formed is fixed on an inner surface of the liner main body 14.例文帳に追加

ライナ本体14の内面には、部分的に金属層19が形成された樹脂フィルム20が固着されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device equipped with a structure capable of solving the base dependency of a contact liner film.例文帳に追加

コンタクトライナー膜の下地依存性を解消できる構造を備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simple and effective repairing method for a film inner liner.例文帳に追加

簡易的であり、効果的なフィルムインナーライナーの補修方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a byproduct from forming on a liner for protecting an inner wall of a film forming chamber.例文帳に追加

成膜室内壁を保護するライナ上に副生成物が形成されるのを抑制する。 - 特許庁