gas analyzer processとは 意味・読み方・使い方

Gas generated from a sample in a process for raising a furnace temperature at an optional time ratio is sucked by a vacuum pump together with the air inside this thermal desorption gas analyzer and sent into an analysis chamber, and then, a gas concentration inside the analysis chamber is detected by a high-precision gas sensor, and recorded in a controller.例文帳に追加

加熱炉温度を任意の時間割合で上昇させる過程で試料から発生したガスを昇温脱離ガス分析器内部の空気と共に真空ポンプで吸引し分析室に送った後分析室内部のガス濃度を高精度ガスセンサーで検出しコントローラーに記録する。 - 特許庁

And the exhausted warm air introduction means discharges the exhausted warm air outside the process gas chromatograph after the temperature of the analyzer sampling part reaches a prescribed temperature.例文帳に追加

さらに前記排気温風導入手段は前記アナライザサンプリング部の温度が所定の温度に達した後はプロセスガスクロマトグラフ外に排気させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a laser gas analyzer maintaining a high-speed measurement and allowing a zero-span calibration inexpensively at a site without detaching a light emission part and a light reception part from a process line.例文帳に追加

測定の高速性を維持し、プロセスラインから発光部および受光部を取り外すことなく、安価に現場でのゼロ・スパン校正が可能なレーザガス分析計を実現する。 - 特許庁

When a gas is introduced into a chamber 1 to react the gas therein, thereby treating a wafer surface (not shown) disposed in the chamber 1, a mass analyzer (QMS) 2 is mounted in the chamber 1 to measure the change of a specified element in the chamber 1 by the analyzer 2, thereby controlling the condition of the process.例文帳に追加

気体をチャンバ１内に導入し、そのチャンバ１内で前記気体を反応させることにより、チャンバ１内に配設される図示しないウェハ表面に処理を施す場合に、チャンバ１に質量分析器（ＱＭＳ）２を取り付け、その質量分析器２によりチャンバ１内の特定元素の変化を測定することにより前記プロセスの状態を管理することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an analyzer for spraying process that can analyze flatting/solidification phenomena of spraying particles unable to easily analyze by conventional Euler method and can treat deforming behavior of multiphase material and also even pore forming process induced by incorporating surrounding gas phase that have been unanalyzable until now.例文帳に追加

従来のオイラー法では容易に解析できなかった溶射粒子の偏平・凝固現象を解析し、これまでに解析が不可能であった多相材料の変形挙動や、周囲のガス相の取り込みによる気孔の形成過程までを取り扱うことができる溶射プロセスの解析装置を提供する。 - 特許庁

After reactive gases are removed from exhaust gases in a semiconductor manufacturing process by a reactive gas removing means, filled with a treating agent which reacts with only the reactive gases to absorb them but does not react with PFCs, the concentration of gases of PFCs is measured with high accuracy by this gas analyzer.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおける排ガスに対して、反応性ガスのみと反応して吸収し、PFC類とは反応しない処理剤を充填した反応性ガス除去手段により反応性ガスを除去した後、ガス分析器でPFC類ガス濃度を高精度で測定する。 - 特許庁

To restrain adsorption, by a pump or the like, of exhaust gas from a semiconductor process to the minimum, accurately analyze an event generated in the semiconductor process, and facilitate maintenance for a gas analyzer during an operation of the semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスからの排ガスをポンプなどによる吸着を最小限に抑え、半導体プロセス内で生じている事象を正確に分析可能とすると共に、半導体プロセスの動作中にもガス分析装置のメンテナンスを容易とする半導体プロセス排ガスの分析方法および半導体プロセス排ガスの分析システムを提供する。 - 特許庁

Malfunction of process in the plasma enhanced CVD system is confirmed by a method comprising a step for determining the historical gradient of partial pressure line as a function of time, a step for calculating a new gradient of line based on partial pressure measurements by the residual gas analyzer 63, a step for comparing the historical gradient with the new gradient, and a step for delivering a signal to an operator.例文帳に追加

時間の関数として分圧のラインのヒストリカルな勾配を求めるステップと、残留ガス分析器６３による分圧測定に基づいたラインの新規な勾配を計算するステップと、ヒストリカルな勾配と新規な勾配を比較するステップと、オペレータに信号を送るステップとを含む方法により、プラズマ増強型化学気相堆積システム内のプロセス不調を確認する。 - 特許庁