hm asとは 意味・読み方・使い方

Therefore, the position detection system 100 specifies a three-dimensional position TP such as a head UH of a target person HM within a certain distance without the need of attaching a marker to the target person HM.例文帳に追加

このため、対象人物ＨＭへのマーカーの装着などを必要とすることなく、極近距離でなくとも対象人物ＨＭの頭部ＨＵなどの三次元位置ＴＰを特定することができる。 - 特許庁

A light shielding film 501 is formed by etching the first metal film 511 and the second metal film 521 with the hard mask layer HM as a mask.例文帳に追加

ハードマスク層ＨＭをマスクとして用いて第１金属膜５１１と第２金属膜５２１とをエッチングし、遮光膜５０１を形成する。 - 特許庁

Of course he thought it was a joke and let it slide with a "hm?" but he was seriously annoyed. (I mean, just don't say things like that even as a joke!)発音を聞く 例文帳に追加

もちろん冗談と思って彼は「あっそ」と流していましたけどかなり嫌だったそうです。（ってゆうか冗談でもそんなこと言うな！） - Tanaka Corpus

Of course he thought it was a joke and let it slide with a "hm?" but he was seriously annoyed. I mean, just don't say things like that even as a joke!例文帳に追加

もちろん冗談と思って彼は「あっそ」と流していましたけどかなり嫌だったそうです。ってゆうか冗談でもそんなこと言うな！ - Tatoeba例文

The Low-k film II2 is etched using the hard mask layer HM as a mask to form a groove TR for wiring layer on the Low-k film II2.例文帳に追加

ハードマスク層ＨＭをマスクとしてＬｏｗ−ｋ膜ＩＩ２にエッチングが施されてＬｏｗ−ｋ膜ＩＩ２に配線用溝ＴＲが形成される。 - 特許庁

When a bead base line is made as a reference, a ratio (Hc/Hm) of the height Hc in a radial direction to the center of the projection 24 to the height Hm in a radial direction up to a point of the axially maximum width of a side surface 64 is 0.35 or more and less than 0.45.例文帳に追加

ビードベースラインが基準とされたとき、この突起２４の中心までの半径方向高さＨｃの、この側面６４の軸方向最大幅となる点までの半径方向高さＨｍに対する比（Ｈｃ／Ｈｍ）が、０．３５以上０．４５未満である。 - 特許庁

An intermagnet spacer 11 is provided between permanent magnets 4 installed in the moving member 5 of a planar linear motor 1, the height direction hs of the intermagnet spacer 11 is set larger than the height dimension hm of the permanent magnet 4, and a magnet protective cover 15 is so placed on the intermagnet spacer 11 as to cover the permanent magnet 4.例文帳に追加

平板型リニアモータ１の可動子５に備えられる永久磁石４間に磁石間スペーサ１１を設け、磁石間スペーサ１１の高さ寸法hsを、永久磁石４の高さ寸法hmより大きく設定し、永久磁石４を覆うようにして磁石間スペーサ１１に磁石保護カバー１５を載置した。 - 特許庁

The hard mask layer HM is removed in the chamber same as the chamber where the etching for forming the groove TR for wiring is formed, thereby exposing the upper surface of the Low-k film II2.例文帳に追加

配線用溝ＴＲ形成のためのエッチングを行なったチャンバーと同じチャンバー内でハードマスク層ＨＭが除去されてＬｏｗ−ｋ膜ＩＩ２の上面が露出される。 - 特許庁