light figure methodとは 意味・読み方・使い方

Since this device projects light on the periphery of a figure such as a letter shape, more diversified expressions can be directed in comparison with a conventional method by light points with an equal interval.例文帳に追加

本ミラーボール装置は、文字形状等の図形を周囲を投光するので、従来のような等間隔の光点より多様な演出をすることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a three-dimensional figure to impart a fine rugged pattern, while employing an ink-jet method is employed for forming a rugged pattern for a reflective electrode, having high light-condensing efficiency.例文帳に追加

集光効率の高い反射電極用凹凸形状の形成において、インクジェット法を用いながらも微細な凹凸形状を付与させうる３次元形状の形成方法を実現する。 - 特許庁

To manufacture an optical fiber display device in a desired form by a comparatively simple method, and also to perform displaying by making the device continuously emit light in a special form such as a letter and a figure over an arbitrary desired area.例文帳に追加

比較的簡単な方法で所望の形状に製造することができるとともに、任意の所望の領域にわたって文字や図形等の特殊な形状に連続的に発光させて表示することができる。 - 特許庁

To provide a data generating method, an device, and a program for generating drawing data to draw the whole general design figure data with about 1 to 4 nm accuracy in a drawing method and a drawing device for drawing an image by gradation controllable spot light in a two-dimensional arrangement.例文帳に追加

階調制御可能なスポット光を二次元配列状に描画する描画方法や描画装置において、一般的な設計図形データ全体を１〜４ｎｍ程度の精度で描画するための描画データを生成することができるデータ生成方法と装置とプログラムとを提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material which shows sufficient transparency when a light source at ≤160 nm wavelength, specifically F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used for the manufacture of a semiconductor device, which reduces a pattern dimension by flow baking, and which is easily controlled for the flow amount and a flow figure, and also to provide a method for forming a pattern in the resist material.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つフローベークでパターン寸法を小さくすることが可能で、フロー量、フロー形状が制御し易いレジスト材料及びそのパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing the photomask capable of suppressing reading failure of a mark pattern when a fine pattern figure is formed on a process object by using a transfer pattern composed of a semi-transmitting part and a light-transmitting part.例文帳に追加

半透光部と透光部で形成される転写パターンを用いて、被加工体に微細なパターン形状を形成する場合に、マークパターンの読み取り不良を抑制できるフォトマスク及びその製造方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

In the primary injection in this two-color molding method for the key top, a light transmissive resin layer (30) is injection-molded and the protruded part (30a) corresponding to the plane pattern of a surrounding part such as a character, a figure, a mark or the like is formed to the rear surface thereof at the same time.例文帳に追加

本発明のキートップの二色成形方法は、一次射出において、光透過性樹脂層（３０）を射出成形し、同時にその裏面に文字、図形、記号等の囲繞部の平面パターンに対応する凸部（３０ａ）を形成する。 - 特許庁