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negative development
「negative development」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 198件
a photograph made by developing a negative twice, offsetting the negative slightly for the second development, called a relief photograph発音を聞く 例文帳に追加
レリーフ写真という,ネガを少しずらして2度焼きをした写真 - EDR日英対訳辞書
RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加
レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING NEGATIVE CHARGE TYPE TONER FOR ELECTROSTATIC LATENT IMAGE DEVELOPMENT例文帳に追加
負帯電性静電潜像現像用トナーの製造方法 - 特許庁
They understand the negative influence this might cause the moon walker development project.例文帳に追加
ムーンウォーカー開発への 悪影響を理解してくれてね - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND RISING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法、それに用いられるレジスト組成物、ネガ型現像用現像液及びネガ型現像用リンス液 - 特許庁
PRINTING SYSTEM USING NEGATIVE WORKING THERMAL PLATE FOR ON-PRESS DEVELOPMENT例文帳に追加
オンプレス現像用のネガ作用サーマルプレートを用いた印刷システム - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加
レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁
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「negative development」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 198件
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁
METHOD FOR FORMING NEGATIVE PATTERN AND POST-DEVELOPMENT PROCESS LIQUID USED THEREFOR例文帳に追加
ネガ型パターン形成方法およびそれに用いられる現像後処理液 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a color negative photographic element which is designed for the development within 2 min.例文帳に追加
２分未満の現像用に構築されたカラーネガ写真要素の提供。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE-TONE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE TYPE DEVELOPMENT, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
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