「negative development」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PRINTING SYSTEM USING NEGATIVE WORKING THERMAL PLATE FOR ON-PRESS DEVELOPMENT例文帳に追加

オンプレス現像用のネガ作用サーマルプレートを用いた印刷システム - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

METHOD FOR FORMING NEGATIVE PATTERN AND POST-DEVELOPMENT PROCESS LIQUID USED THEREFOR例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法およびそれに用いられる現像後処理液 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a color negative photographic element which is designed for the development within 2 min.例文帳に追加

２分未満の現像用に構築されたカラーネガ写真要素の提供。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE-TONE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE TYPE DEVELOPMENT, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To block games from being involved into the negative development in a battle game.例文帳に追加

対戦ゲームにおいて消極的なゲーム展開に陥ることを抑制する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING NEGATIVE CHARGE CONTROL AGENT DISPERSION AND METHOD FOR MANUFACTURING NEGATIVE CHARGE TYPE TONER FOR ELECTROSTATIC LATENT IMAGE DEVELOPMENT例文帳に追加

負電荷制御剤分散液の製造方法および負帯電性静電潜像現像用トナーの製造方法 - 特許庁

ALKALI NEGATIVE DEVELOPMENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

アルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

Many elderly bosses have a negative view regarding overseas development. 例文帳に追加

年配の上司の多くは、海外展開について消極的な意見を持っている。 - Weblioビジネス英語例文

PATTERN FORMING METHOD, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MULTIPLE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPER FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液 - 特許庁

To provide a development apparatus for a press plate which is not accompanied by such negative effects arising when performing development processing within a printing machine.例文帳に追加

印刷機内で現像処理を行うときに生じるような弊害を伴うことのない刷版の現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition in which occurrence of development defects is significantly decreased.例文帳に追加

現像欠陥の発生を著しく低減したネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The developing device 1 performs development by using one- component toner which is electrostatically charged to the negative polarity.例文帳に追加

現像装置１は、負帯電極性の１成分のトナーによって現像を行う。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT, PATTERING METHOD USING THE SAME, RESIST FILM, AND PATTERN例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物、これを用いたパターン形成方法、レジスト膜、及び、パターン - 特許庁

A negative pressure is generated by layer thickness regulation and scraping effect of a magnetic brush right after the doctor blade 6B4 and the pressure in the development casing 6H is relieved by the negative pressure and the inside of the development casing 6H is maintained in the negative pressure state, and thereby the toner scattering from an opening existing in the position of the development sleeve 6B1 can be suppressed.例文帳に追加

ドクターブレード６Ｂ４の直後では層厚規制、磁気ブラシの掃き出し作用により負圧となるが、該負圧により現像ケーシング６Ｈ内の圧抜きがなされ、現像ケーシング６Ｈ内が負圧状態に維持されることにより、現像スリーブ６Ｂ１の位置する開口からのトナー飛散を抑制することができる。 - 特許庁

To prevent toner from deteriorating and scattering in development when negative toner is used for a developing device.例文帳に追加

現像装置において、ネガトナーを使用した場合において、トナーの劣化および現像時のトナーの飛び散りを防止する。 - 特許庁

This toner for electrostatic charge image development has negative electrostatic property and contains at least toner base particles and an external additive.例文帳に追加

静電荷像現像用トナーは負帯電性を示し、少なくともトナー母粒子と外添剤とを含有する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for a color filter which is superior in pigment dispersion properties and in alkali development property.例文帳に追加

顔料分散性、およびアルカリ現像性に優れたカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION FOR DEVELOPMENT WITH BASIC AQUEOUS SOLUTION AND PRODUCTION OF PATTERN USING SAME例文帳に追加

塩基性水溶液現像用ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

Positive voltage or negative voltage is selectively applied to a developing roller 15 from a high-voltage power supply for development 25.例文帳に追加

現像ローラ１５は、現像用高圧電源２５から正電圧または負電圧を選択的に印加される。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-curable composition which has good sensitivity and excellent development performance and with which rectangular fine pattern formation can be performed.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

A CPU 41 of an information recording terminal 40 allows a development section 46 to develop a negative film 6 and to create a developed negative film 7 for reading image information in information recording processing.例文帳に追加

情報記録処理において、ＣＰＵ４１は、現像部４６によりネガフィルム６を現像して現像済みネガフィルム７を作成して画像情報を読み取る。 - 特許庁

Since the target load is given in a shape accompanying delay at a time of deceleration, opening of the negative pressure control valve is corrected to make the same larger and development of negative pressure can be avoided.例文帳に追加

減速時には、遅れを伴った形で目標負荷が与えられるので、負圧制御弁の開度が大きくなるように補正され、負圧の発達が回避される。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide: a photoresist composition useful for photolithography pattern formation by negative tone development; a method of forming a photolithography pattern by a negative tone development process; and a base substance coated with the photoresist composition.例文帳に追加

ネガティブトーン現像によるフォトリソグラフィパターン形成に有用なフォトレジスト組成物の提供、及び、ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びに当該フォトレジスト組成物でコーティングされた基体の提供。 - 特許庁

The photographed film is subjected to the development for color negatives, and the finished color negative film is subjected to a mounting process.例文帳に追加

この後、撮影したフィルムにカラーネガ現像処理を施し、この処理で仕上がったカラーネガフィルムをそのままマウント加工する。 - 特許庁

To reconcile development of intake negative pressure and suppression of peak rotational frequency when an engine of a vehicle is started.例文帳に追加

車両のエンジンの始動時において、吸入負圧の発達とピーク回転数の抑制とを両立することにある。 - 特許庁

At the time of forming a wiring groove pattern, a negative resist is used as a resist and the outer peripheral section of the wafer is exposed to light before development.例文帳に追加

配線溝パターンを形成する際のレジストとしてネガレジストを用い、現像前にウエハ外周部を露光する。 - 特許庁

The development apparatus 10 and the air pump 40 are connected by a return air tube 33 so that the deteriorated toner (suspended toner), generated in the development apparatus, is sucked by the negative pressure of the pump.例文帳に追加

現像装置１０とエアーポンプ４０は戻りエアーチューブ３３で連結されているため、現像装置において発生した劣化トナー（浮遊トナー）はポンプの負圧によって吸い出される。 - 特許庁

Failure to do so may have an unnecessarily negative impact on economic growth, living standards, the environment and the protection of human health and development.例文帳に追加

その失敗は，経済成長，生活水準，環境，人の健康及び発展の保護に関する不必要な負の影響をもたらす。 - 経済産業省

The negative film subjected to rapid development processing without undergoing at least either of a bleaching process step and a fixing process step after undergoing, for example, a color developing process step is used as the negative film 12.例文帳に追加

ネガフィルム１２としては、たとえば発色現像工程を経たあと漂白工程および定着工程のうち少なくともいずれか一方の工程を経ずに迅速現像処理されたものが用いられる。 - 特許庁

The negative film subjected to rapid development processing without undergoing at least either of a bleaching process and a fixing process after undergoing, for example, a color developing process is used as the negative film 12.例文帳に追加

ネガフィルム１２としては、たとえば発色現像工程を経たあと漂白工程および定着工程のうち少なくともいずれか一方の工程を経ずに迅速現像処理されたものが用いられる。 - 特許庁

Exposure to light is performed from the surface side of a resin printing plate 5' by using a negative film N1 (W2), and then, exposure to light is performed from the back surface side of the resin printing plate 5' by using a negative film N2 (W3), and thereafter, development is performed (W4).例文帳に追加

樹脂版５’の表側からネガフィルムＮ１を用いて露光を行い（Ｗ２）、その後、樹脂版５’の裏側からネガフィルムＮ２を用いて露光を行い（Ｗ３）、その後、現像を行なう（Ｗ４）。 - 特許庁

In the developing unit, a developer D including a carrier C, a toner T having negative charge polarity and a cleaning aid A having negative charge polarity like the toner T is housed and provided to development.例文帳に追加

そして、この現像器には、キャリアＣ、負の帯電極性を有するトナーＴ、トナーＴと同様、負の帯電極性を有するクリーニング助剤Ａを含む現像剤Ｄが収容され、現像に供される。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

The pattern forming method includes (1) applying a resist composition for negative development comprising a resin of which the polarity increases by the action of an acid to thereby reduce its solubility in a negative developer, (2) exposing the composition, and (3) performing development with a negative developer comprising an organic solvent having a metal impurity content of ≤100 ppb.例文帳に追加

（ア）酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（ウ）金属不純物の含有量が、１００ｐｐｂ以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To obtain a master disk for an optical disk directly by applying a negative photo resist on a substrate surface and forming bumps by exposure and development.例文帳に追加

基板表面にネガ型のフォトレジストをコーティングし露光と現像によりバンプを形成させ、それを直接光ディスク用原盤とすること。 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, RESIST PATTERN, CROSSLINKABLE NEGATIVE CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION FOR ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT, RESIST FILM AND RESIST-COATED MASK BLANKS例文帳に追加

レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス - 特許庁

The negative film subjected to rapid development processing without undergoing at least either one process step of a bleaching process step and fixing process step after undergoing, for example, a color developing process step is used as the negative film 12.例文帳に追加

ネガフィルム１２としては、たとえば発色現像工程を経たあと漂白工程および定着工程のうち少なくともいずれか一方の工程を経ずに迅速現像処理されたものが用いられる。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative photosensitive composition which has high sensitivity and good pattern forming property free of residue on development, while retaining temporal stability, with production of foreign substances suppressed, and adhesion to a substrate, in a dye-containing negative curable composition.例文帳に追加

染料含有のネガ型硬化性組成物における異物発生を抑えた経時安定性及び下地との密着性を保持しつつ、感度及び現像残渣のない良好なパターン形成性を向上する。 - 特許庁