normal ion beamとは 意味・読み方・使い方

To provide an ion beam generator which generates an ion beam using solid or liquid raw materials at the normal temperature and can efficiently and stably generate ion beam of desired ion species in a wide dynamic range.例文帳に追加

常温で液体または固体の原料物質を用いてイオンビームを発生させるものであって、所望のイオン種のイオンビームを効率良く、かつ安定して、しかも広いダイナミックレンジで発生させることのできるイオンビーム発生装置を提供する。 - 特許庁

The angle of ion beam sputtering when the electrode film 33 is film-deposited is specified to be 30° or less to the normal of the substrate.例文帳に追加

電極膜３３の成膜時のイオンビームスパッタリングの角度を基板面の法線に対して３０゜以下とする。 - 特許庁

In a method for processing a solid surface to make it even by using a gas cluster ion beam, at least during part of a period of a gas cluster ion beam radiation process, a radiation angle made by the normal line of a solid surface and the gas cluster ion beam is made larger than 70°, and the gas cluster ion beam is focused using a lens mechanism without separating the monomer ion, thus radiating it.例文帳に追加

ガスクラスターイオンビームを用い、固体表面を平坦に加工する方法において、ガスクラスターイオンビームの照射過程の少なくとも一部の期間において固体表面の法線とガスクラスターイオンビームとがなす照射角度を７０度より大きくし、かつモノマーイオンを分離せずにガスクラスターイオンビームをレンズ機構によってフォーカスさせて照射する。 - 特許庁

When the amount of noise is within a specified range, the ion implantation process is started (S4), and normal measurement of an ion beam current using the Faraday cage is carried out (S5).例文帳に追加

ノイズ量が規格範囲内であればイオン注入処理が開始され（Ｓ４）、ファラデーを利用した通常のイオンビーム電流の測定が行われる（Ｓ５）。 - 特許庁

An energy determination processor 26 determines whether energy of the ion beams after acceleration is normal or abnormal, based on a frequency of the high-frequency voltage and a position of the beam orbit.例文帳に追加

エネルギー判定処理装置２６は高周波電圧の周波数及びビーム軌道の位置に基づいて加速終了後のイオンビームのエネルギーが正常であるか異常であるかを判定する。 - 特許庁

In carrying out a removal work of the three-dimensional shape by irradiating the ion beam, it is irradiated on the same point of the worked object by normal irradiation and bent and inclined irradiation, and by measuring secondary electrons emitted from a work point by the secondary detector, the shape of the ion beam worked part is measured.例文帳に追加

イオンビームを照射して３次元形状の除去加工を行う際にイオンビームを加工物の同一箇所に対して通常照射および屈曲傾斜させて照射し、加工点から放出される２次電子を２次検出器により計測することでイオンビーム加工された部分の形状を計測する。 - 特許庁

After a macromolecular material 1 is cut with a focusing ion beam (FIB) 10 in a direction whose angle α to the surface of the macromolecular material is between 1 and 60°, a smooth face 1A of the macromolecular material formed by the cutting is photographed in a direction normal to the smooth face.例文帳に追加

高分子材料１を、集光イオンビーム（ＦＩＢ）１０を用いて、高分子材料の表面に対する角度αが１〜６０°をなす方向に切削した後、切削により形成された高分子材料の平滑面１Ａを、平滑面に対し垂直な方向から撮影する。 - 特許庁