phase spacingとは 意味・読み方・使い方

To reduce the grating lobe of all array antennas of an antenna assembly with sub-arrays composed of a plurality of phase array antennas, resulting from the layout spacing of the sub-arrays, and thereby avoiding deteriorating the SN ratio.例文帳に追加

複数のフェーズドアレーアンテナをそれぞれサブアレーとするアンテナ装置において、サブアレーの配置間隔を原因として生じる全アレーアンテナのグレーティングローブを低減し、ＳＮ比の劣化を防ぐ。 - 特許庁

The chiral smectic liquid crystal composition comprises a chiral smectic liquid crystal of Iso-Ch-SmC* or Iso-SmC* and has ≥0.980 d_-min/d(Tc) ratio, wherein d(Tc) is a layer spacing at Tc and d_-min is the minimum layer spacing in a smectic liquid phase, and the liquid crystal element is provided by using the composition.例文帳に追加

Ｉｓｏ−Ｃｈ−ＳｍＣ＊もしくはＩｓｏ−ＳｍＣ＊のカイラルスメクティック液晶であって、Ｔｃにおける層間隔ｄ（Ｔｃ）とスメクティック相における層間隔の最小値ｄ＿ｍｉｎとの比ｄ＿ｍｉｎ／ｄ（Ｔｃ）が０．９８０以上であることを特徴とするカイラルスメクティック液晶組成物並びにそれを用いた液晶素子。 - 特許庁

In this phase mask manufacturing method for the automatic design of an integrated circuit in which the phase is made to correspond to each polygon at the time of designing, such correspondence is at least partially performed in the midst of the processing of a spacing graph.例文帳に追加

各ポリゴンに設計時に位相が対応付けられる、集積回路の自動設計における位相マスクの製作方法において、前記対応付けを少なくとも部分的に間隔グラフの処理中に行うことを特徴とする集積回路の自動設計における位相マスク製作方法。 - 特許庁

A multiple patterning process employs a phase change material, portions of which can be converted to an amorphous state and then a remaining portion is selectively removed to provide high resolution pattern features with a feature spacing smaller than, for example, a minimum spacing available in a conventional patterning layer employing a single exposure.例文帳に追加

多重パターニングプロセスで相変化材料を使用し、相変化材料の一部分をアモルファス状態に転化させることができ、次いで残りの部分が選択的に除去され、たとえば単一の露光を使用して従来のパターニング層内で使用可能な最小間隔より小さいフィーチャ間隔を有する高解像度パターンフィーチャをもたらす。 - 特許庁

Or, it contains cerium as cerium dioxide of ≥8 wt.% and ≤40 wt.% and a crystalline phase having an interplaner spacing (d) of 3.1-3.2 Å which is detected as a peak in X-ray diffractometry.例文帳に追加

あるいは、本焼結体は、セリウムを二酸化セリウムに換算して８重量％以上、４０重量％以下含有しており、Ｘ線回折測定において面間隔（ｄ）が３．１〜３．２オングストロームの位置にピークを有する結晶相を含んでいる。 - 特許庁

The controller 101 changes the phase of the interpolation position in a change unit smaller than 360° by spacing interpolation positions 360° from each other while the display position of the image shifts by one pixel component when the ratio of the higher frequency component among the components of the respective frequencies detected by a detecting section 110 is greater.例文帳に追加

コントローラ１０１は、検出部１１０で検出される各周波数の成分のうち高域成分の割合が大きいとき、画像の表示位置が１画素分ずれる間に、補間位置の位相を、補間位置間を３６０゜として、３６０゜より小さな変化単位で、変化させる。 - 特許庁

Spacing maps of single side faces between a side face 61 or 62 of the wafer 60 and a reference plane 32 or 52 corresponding respectively thereto are measured at the same time, using combination of two improved phase shift Fizeau interferometers 20, 40, and computers 38, 58 calculates the thickness variation and the shape, based on data therein.例文帳に追加

改良された二つの位相シフトフィゾ（Fizeau）干渉計２０、４０の組み合わせを用いて、ウエーハ６０の側面６１又は６２の各々とそれに対応する基準平面３２又は５２の間の単一側面の間隔マップを同時に計測し、コンピュータ３８、５８でこれらのデータから厚さ変化と形状を計算する。 - 特許庁