plasm inとは 意味・読み方・使い方

To provide a method and apparatus for plasma treatment in which a temperature change of a dielectric window can be controlled and a substantial power which can be utilized for plasm treatment is large and a high frequency noise is hard to occur.例文帳に追加

誘電体窓の温度変化を抑制でき、プラズマ化に利用できる実質的な電力が大きく、高周波ノイズが発生しにくいプラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A method for operating the downstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction.例文帳に追加

下流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム冷却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。 - 特許庁

The plasm light emission detector 9 is moved, thus detecting in-plane distribution at each position of light emitted by the plasma in several seconds, and hence applying the detector 9 to etching in a plurality of steps and calculating the wafer in-plane uniformity of the etching speed.例文帳に追加

プラズマ発光検出部９を移動させることにより、プラズマ発光の各ポジションにおける面内分布を数秒で検出できるため、複数ステップあるエッチングで適用可能で、エッチング速度のウエハ面内均一性の算出が可能となる。 - 特許庁

The plasm generating source and the high-frequency power applying electrode are provided so as to vertically (in a width direction) extend in the direction of movement of the work, and thus, uniform treatment can be applied to the direction of movement of the work.例文帳に追加

ワークの移動方向に垂直（幅方向）に延出するようにプラズマ発生源及び高周波電力印加電極を設けたことによって、ワークの移動方向に対して均一な処理を行うことができる。 - 特許庁

A method for operating the upstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction.例文帳に追加

上流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム冷却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。 - 特許庁

Even if platinum is exposed to plasma due to the over-etching and it reacts with radicals and ions in the plasm to produce by-products, a impurities which deteriorates the characteristics of a device will not be released from quartz because of such by-product.例文帳に追加

オーバーエッチングにより白金がプラズマに曝され、プラズマ中のラジカルやイオンと反応して副成物を生成しても、その副成物によって石英から、デバイスの特性を劣化させる不純物が放出されることはない。 - 特許庁

In addition, when the controller 13 judges that the concentration of the thrombocyte amounts to 700,000/μL, acceleration of a plasm feeding is finished, and it is shifted to blood feeding pump control at a regular speed by keeping the plasma feeding speed at the finishing.例文帳に追加

さらに、制御装置１３により血小板濃度が７０万／μＬに達した判断された時点で、血漿供給速度の加速を終了し、終了時の血漿供給速度維持による定速による送血ポンプ制御に移行する。 - 特許庁

This surface modifying method for an ITO thin film is a method, wherein an oxygen plasma is produced in a plasm-producing unit 80, an alternating-current voltage is applied between a substrate holder 31 and the unit 80 and ions, neutral molecules and neutral atoms, which are contained in a plasma, are radiated on the surface of an ITO thin film 13.例文帳に追加

本発明の表面改質方法は、プラズマ生成装置８０内で酸素プラズマを生成し、基板ホルダ３１とプラズマ生成装置３の間に交流電圧を印加し、プラズマ中に含まれるイオンや中性分子、中性原子をＩＴＯ薄膜１３表面に照射する。 - 特許庁