plasma clearanceとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma treatment device using a rotary electrode in which a reaction gas can be sufficiently supplied to a narrowed clearance between the rotary electrode and a substrate and no surface treatment characteristic distribution does not occur.例文帳に追加

回転電極を用いたプラズマ処理装置において、狭小になった回転電極と基板との間隙に十分な反応ガスを供給することができ、表面処理特性分布が発生しない。 - 特許庁

The blade tip clearance control system (11) includes: an annular shroud (72) surrounding rotatable blade tips (82); and an annular plasma generator (2) spaced radially outward and apart from the blade tips (82).例文帳に追加

ブレード先端間隙制御システム（１１）は、回転ブレード先端（８２）を囲む環状シュラウド（７２）と、ブレード先端（８２）から半径方向外側にかつ離れて配置された環状プラズマ発生器（２）とを含む。 - 特許庁

Owing to the above structures, the parasitic capacitance between the target 48 and cathode 38, and the metallic ring 52 can be reduced, and also the infiltration of plasma into the clearance can be prevented.例文帳に追加

このような構造により、ターゲット４８及びカソード３８と金属リング５２との間の寄生容量が小さくなり、その隙間にプラズマが入ることもない。 - 特許庁

To provide a plasma display panel having further reduced local driving noises, wherein one peripheral structure can be adjusted matching to the other peripheral structure on the long or short side and a clearance between a front plate and a back plate is kept uniform all over to actualize constant required discharge voltage on a peripheral portion of the PDP.例文帳に追加

長辺側もしくは短辺側の周辺構造に合わせて、他方の周辺構造を調整することができ、前面板と背面板の隙間を全面にわたって均一にすることが可能となる。 - 特許庁

A clearance between a workpiece 700 and an electrostatic chuck 131 attracting the workpiece is filled with gas, an ESC voltage applied to the electrode of the electrostatic chuck is changed to keep the amount of the gas leaking from the clearance into the plasma processing device at a specified value or thereabouts, and the attraction force of the workpiece is controlled.例文帳に追加

被処理体７００と被処理体を吸着した静電チャック１３１の間の間隙に気体を充満させ、その気体が前記間隙からプラズマ処理装置内に漏洩する量が規定値付近に維持されるように静電チャックの電極に印加するＥＳＣ電圧を変化させ、被処理体の吸着力を制御する。 - 特許庁

Thus the oxidation of the face coated with the metallic plate 61 can be prevented even when thermal expansion and contraction of the furnace bottom electrode fire brick 60A and the peripheral fire brick are repeated by repeated increase and decrease of the temperature in the plasma furnace, and the clearance is formed between the furnace bottom electrode fire brick 60A and the peripheral fire brick.例文帳に追加

プラズマ炉内の温度上昇下降が繰り返されることにより炉底電極耐火煉瓦６０Ａや周囲の耐火煉瓦の熱膨張収縮が繰り返され、炉底電極耐火煉瓦６０Ａと周囲の耐火煉瓦間に間隙が形成されても、金属板６１により覆われた面の酸化防止がされる。 - 特許庁

In addition, an reaction gas supply tube 3, in which a reaction gas supply passage 5 is formed to supply to a clearance between the rotary electrode 1 and substrate S a reaction gas for generating a plasma by a voltage applied from a high-frequency power supply 2, is provided in the cavity 1d of the rotary electrode 1.例文帳に追加

そして、この回転電極１の空洞部１ｄには、高周波電源２から印加される電圧によってプラズマを発生させる反応ガスを、回転電極１と基板Ｓとの間隙に供給する反応ガス供給路５が形成された反応ガス供給管３が設けられている - 特許庁

While film formation is developed by sputtering, a grounding surface is covered with an insulation film adhered to the first adhesion preventive plate 13a and a wafer 11a, and a plasma tends to spread outwardly from a clearance between a table 12 and the double-structured adhesion preventive plates 13a and 13b.例文帳に追加

スパッタリングによる成膜が進行すると、第１の防着板１３ａとウエハ１１ａとに絶縁膜が付着して接地面が見えなくなり、プラズマはテーブル１２と二重構造の防着板１３ａ，１３ｂ間の隙間から外に広がろうとする。 - 特許庁