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relaxation coefficientとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 緩和係数
「relaxation coefficient」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
The substrate is made of a material having a thermal coefficient of expansion that is larger than that of the stress relaxation layer and the element formation layer.例文帳に追加
基板は、応力緩和層および素子形成層よりも熱膨張係数の大きな材料からなる。 - 特許庁
The thermal expansion coefficient of each layer has the following relation: the third interlayer insulation film 44<stress relaxation film 46<pixel electrode 9a.例文帳に追加
また、各層の熱膨張係数は以下の関係第3層間絶縁膜44<応力緩和膜46<画素電極9aにある。 - 特許庁
Accordingly, the stress relaxation film 46 relaxes the difference in thermal expansion coefficient between the third interlayer insulation film 44 and the pixel electrode 9a.例文帳に追加
このため、応力緩和膜46は、第3層間絶縁膜44と画素電極9aとの間において熱膨張係数の差を緩和する。 - 特許庁
By this constitution, the shearing stress generated in the bonded interface end part is absorbed and relaxed from a difference in the coefficient of thermal expansion and stress relaxation of about 20-30% can be realized.例文帳に追加
これにより、熱膨張率の相違から接合界面端部に生じるせん断応力が吸収緩和され、約20〜30%の応力緩和が実現できる。 - 特許庁
In general, solder is lower in coefficient of elasticity (e.g. Young's modulus) than copper, so the conductor post 34 never greatly hinders elastic deformation of a stress relaxation layer 30.例文帳に追加
ここで、一般にはんだは銅よりも弾性率(例えばヤング率)が低いことから、この導体ポスト34が応力緩和層30の弾性変形を大きく妨げることはない。 - 特許庁
Namely, a condition (1) is that "the yield stress of the stress relaxation layer 40 is larger than the yield stress of a metal wiring layer 22 of the insulating substrate 20", and a condition (2) is that "the linear expansion coefficient of the metal wiring layer 22 is larger than the linear expansion coefficient of an insulating material 23".例文帳に追加
すなわち,条件(1)が「応力緩和層40の降伏応力>絶縁基板20の金属配線層22の降伏応力」であり,条件(2)が「金属配線層22の線膨張率>絶縁材23の線膨張率」である。 - 特許庁
As for the composing material of relaxation layer 61, the coefficient of linear expansion is made in a range between that of Ir alloy and that of Fe based alloy, and Young's modulus is made as what is smaller than both of these alloys.例文帳に追加
緩和層61の構成材料は、線膨張係数がIr合金とFe基合金との間の範囲にあり、且つヤング率がこれら両合金よりも小さいものとしている。 - 特許庁
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「relaxation coefficient」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
The stress relaxation layer 31 has a thermal coefficient of expansion that is smaller than that of ridge 13, and is arranged at a part of the region facing the semiconductor laser array 10.例文帳に追加
応力緩和層31は、リッジ部13の熱膨張係数よりも小さな熱膨張係数を有し、かつ半導体レーザアレイ10との対向領域の一部に配置されている。 - 特許庁
The storage device 9 stores the friction relaxation material C_1 containing a carbon based material as a main component and the storage device 10 stores a thickener C_2 comprising a ceramic particle for increasing friction coefficient.例文帳に追加
収容装置9は、カーボン系材料を主成分とする摩擦緩和材C_1を収容し、収容装置10は摩擦係数を増加させるセラミックス粒子などからなる増粘着材C_2を収容する。 - 特許庁
The stress relaxation film 46 is formed from a doped silicon oxide film, disposed in contact with the third interlayer insulation film 44 while having a thermal expansion coefficient different from that of the third interlayer insulation film 44, and also in contact with the pixel electrode 9a while having a thermal expansion coefficient different from that of the pixel electrode 9a.例文帳に追加
応力緩和膜46は、ドープトシリコン酸化膜からなり、第3層間絶縁膜44と異なる熱膨張係数をもって第3層間絶縁膜44に接するとともに、画素電極9aと異なる熱膨張係数をもって画素電極9aに接している。 - 特許庁
The ceramic-based composite member 10 having a substrate 1 composed of a ceramic-based composite material and the coating layer 3 has a stress relaxation layer 2 impregnated with a stress relaxation material having the coefficient of thermal expansion of the value between the substrate 1 and the coating layer 5 on the side 1a to be coated of the substrate 1.例文帳に追加
セラミックス基複合材料からなる基材1と、コーティング層3とを有するセラミックス基複合部材10であって、基材1の被コーティング面1a側に、熱膨張係数が基材1とコーティング層5との間の値である応力緩和材料が含浸されてなる応力緩和層2を有するセラミックス基複合部材10とする。 - 特許庁
To prevent a connection bump from being damaged even if not only its fine fabrication is carried out with a small stress relaxation material but also a material having a large difference of thermal expansion coefficient with respect to a semiconductor chip is used for a substrate bonded to the semiconductor chip.例文帳に追加
接続バンプを応力緩和の小さい材料で微細形成したり、更には半導体チップと接合する基板に半導体チップと熱膨張係数差が大きい材料からなるものを用いる場合でも、接続バンプ部分の損壊を抑止する。 - 特許庁
One of the major points at issue is the flat tariff reduction method for all items covered by NAMA negotiations (Switzerland formula), and exceptional measures for developing countries when applying this formula (relaxation of the tariff elimination or exemption). When it comes to the coefficient that decides the reduction width of the Switzerland formula and applying the ratio of exception measures, taking the argument in the ministerial meeting in Jul. 2008 into consideration, although it doesn't reach at the final agreement, a concrete numerical value is shown in the 4th revised edition of chairperson text in Dec. 2008 (Figure 5-2-3-4).例文帳に追加
主要な論点の一つは、NAMA交渉の対象となる全品目に対する一律の関税削減の方式(スイス・フォーミュラ)及び当該フォーミュラを適用する際の途上国に対する例外措置(関税削減の緩和又は免除)であり、このスイス・フォーミュラの削減幅を決める係数や例外措置の適用割合については、2008 年7 月の閣僚会合での議論を踏まえ、最終的な合意には至っていないものの、2008 年12 月の第4 次改訂議長テキストにおいて、具体的な数値が提示されている(第5-2-3-4 図)。 - 経済産業省
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