rough vacuumとは 意味・読み方・使い方

In the substrate processing equipment, liquid material 4 for treating a wafer 1 is evaporated and supplied to a treatment furnace 2 from a liquid material delivery line 6, and exhausted through a discharge line 7 with a high vacuum pump 13 for liquid material and a rough vacuum pump 14 for rough length of the downstream.例文帳に追加

基板処理装置は、ウェハ１を処理するための液体原料４を気化して液体原料供給ライン６から処理炉２に供給し、液体原料用の高真空ポンプ１３とその下流側の粗引き用の低真空ポンプ１４とにより排気ライン７を介して排気するようになっている。 - 特許庁

As a first process, rough sludge removal from waste water is carried out by a centrifugal separator 4, the waste water is heated by a heating tank 6, or vacuum-degassed by a vacuum degasifier, and solvent in the waste water is removed.例文帳に追加

第一の工程として、遠心分離機４によって廃液中の大まかなスラッジを除去し、かつ、加熱槽６によって廃液を加熱して、もしくは、真空脱気装置によって真空脱気して、廃液中の溶剤を除去する。 - 特許庁

The additional vacuum pumping stage may be an improved type molecule dragging stage in which the impeller includes a disc having a pumping face being rough or provided with a channel and/or a regeneration stage.例文帳に追加

追加真空ポンピングステージは、インペラが粗いまたは溝付きのポンピング面を有するディスクを含む改良型分子引きずりステージ、および／または再生ステージであってもよい。 - 特許庁

Accordingly, since the pressure of the intake ports can be raised to the vicinity of the atmospheric pressure while suppressing the rise of the engine rotating speed, the rough idling by vacuum boiling of fuel in a fuel injection valve in the high-temperature starting can be prevented.例文帳に追加

これにより、機関回転数の上昇を抑制しながら吸気ポートの圧力を大気圧近傍まで上昇させることができるため、高温始動時の燃料噴射弁における燃料の減圧沸騰によるラフアイドルの発生が防止される。 - 特許庁

Next, the rough film 110 which is released from the base material, is stored in a vacuum chamber, the metallic film is formed on the roughened surface by a Cr sputtering process (122) and a Cu sputtering process (123) in that order, and further, copper is plated on the metallic film to obtain the metal-coated substrate 130.例文帳に追加

次に基材から剥がした粗化フィルムを真空チャンバ内に収容して、Ｃｒスパッタ（１２２）、Ｃｕスパッタ（１２３）を順にすることにより粗化面上に金属薄膜を形成し、更にその上にＣｕメッキすることにより金属被覆基板１３０を得る。 - 特許庁

The surfaces of the conductor pushing sections 5, 6, 8 at least at the front end are rough-surface machined and carbon ions are physically evaporated on the surfaces of at least the conductor pushing sections by an arc discharge method under a vacuum, and a thin-film layer 9 with a diamond crystal structure is formed.例文帳に追加

少なくとも先端の導線押圧部５、６、８の表面に粗面加工を施し、さらに少なくとも前記導線押圧部の表面に真空下においてアーク放電法によりカーボンイオンを物理蒸着せしめてダイヤモンド結晶構造を有する薄膜層９を形成した。 - 特許庁

When the vacuum exhaust system 100 is operated, the mechanical booster pump (MBP) 9 and a rotary pump (RP) 10 are started while all valves 3, 4, 5, 6 and 8 are closed, a slow rough valve (SRV) 4 is opened after stopping the mechanical booster pump 9 once, and then the mechanical booster pump 9 is restarted.例文帳に追加

真空排気システム１００の運転時には、全バルブ３，４，５，６，８を閉じた状態でメカニカルブースタポンプ（ＭＢＰ）９およびロータリポンプ（ＲＰ）１０を起動し、一旦メカニカルブースタポンプ９を停止してからスローラフバルブ（ＳＲＶ）４を開いた後に再びメカニカルブースタポンプ９を再起動するものである。 - 特許庁

A mirror 1, which is used in a vacuum environment, arranges a cooling interface section 11 at its back side for cooling off the mirror and a measurement surface section 12 for positioning the mirror, wherein surface roughness of the measurement surface section 12 is less rough than the cooling interface section 11.例文帳に追加

真空環境で使用するミラー１であり、ミラーの裏面にミラーを冷却するための冷却インタフェース部１１と、ミラーの位置決めを行うための計測面部１２と、を配置し、計測面部１２の表面粗さが冷却インタフェース部１１よりも小さいことを特徴とするミラー。 - 特許庁