unit chemical processとは 意味・読み方・使い方

In the injection process of the chemical solution, the turbidity of the raw water is recommended to be used as a control factor for feed-forward controlling the injection rate of the chemical solution, and also residual chlorine concentration in washing drain of the treating unit 12 is recommended to be used as a control factor for feed-back controlling the injection rate of the chemical solution.例文帳に追加

前記薬液の注入過程で、前記原水の濁度は前記薬液の注入率をフィードフォワード制御する制御因子として利用すると共に、処理ユニット１２の洗浄排水の残留塩素濃度は前記薬液の注入率をフィードバック制御する制御因子として利用するとよい。 - 特許庁

To provide a plating unit where respective units (apparatuses) continuously performing plating and its supplementary process are efficiently disposed in one and the same facility, so as to reduce its occupancy area, and further, the contamination of a substrate caused by a chemical used for the plating process or the like can be prevented.例文帳に追加

めっき処理及びそれに付帯する処理を連続的に行う各ユニット（機器）を同一設備内に効率的に配置して占有面積を減少させ、しかもめっき処理等に使用する薬品による基板の汚染を防止できるようにしためっき処理ユニットを提供する。 - 特許庁

A production method for the UV crosslinkable polyacrylate pressure-sensitive adhesive comprises a radical polymerization process of forming a polymer from a monomer mixture, wherein the monomer mixture to be polymerized is added with a copolymerizable photoinitiator and at least one chemical compound composed of a unit represented by formula 1 [wherein, (X) is S, O or N] to control the polymerization process.例文帳に追加

３．０以下の多分散性を示すＵＶ架橋性ポリアクリレート系感圧接着剤の製造方法に、単量体混合物から重合体を生成させるラジカル重合工程を含め、重合させるべき前記単量体混合物に共重合性光開始剤を含め、単位 - 特許庁

To provide a gas supply unit and a chemical vapor deposition apparatus with which by-products resulting from a chemical vapor deposition process is immediately exhausted, so that a high quality thin film is deposited on the surface of a deposition object, a cleaning cycle for the inside of a chamber is extended, for greater productivity.例文帳に追加

本発明は、化学気相蒸着工程時に発生する反応副産物を素早く排出することにより、被蒸着体の表面に高品質の薄膜を形成でき、チャンバ内部のクリーニングサイクルが延ばされ、生産性を向上させることができるガス供給ユニット及び化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

This method comprises the following process: a new microorganism, Pseudomonas putida N 210 strain (Pseudomonas putida N210; FERM P-17744) is cultured in a medium containing 6-phenylhexanoic acid, and then a polythydroxyalkanoate composed mainly of the monomer unit which is represented by chemical formula (1) is prepared by extracting the polyhydroxyalkanoate accumulated in the bacteria.例文帳に追加

６−フェニルヘキサン酸を含む培地で新規微生物シュードモナス・プチダ・Ｎ２１０株（Pseudomonas putida N210；ＦＥＲＭ Ｐ−１７７４４）を培養したのち、菌体に蓄積するポリヒドロキシアルカノエートを抽出することにより、化学式（Ｉ）： - 特許庁

The liquid treatment apparatus for applying a predetermined liquid treatment on a substrate, for example, a semiconductor wafer cleaning apparatus 1 comprises a rotor 34 for holding wafers W, a chamber 70 for applying a liquid treatment for the wafers W held by the rotor 34 feeding a predetermined process liquid, and a chemical feed unit 5 for feeding a predetermined chemical to the chamber 70.例文帳に追加

基板に所定の液処理を施す液処理装置、例えば、半導体ウエハの洗浄処理装置１は、ウエハＷを保持するロータ３４と、ロータ３４に保持されたウエハＷに所定の処理液を供給して液処理を行うチャンバ７０と、チャンバ７０へ所定の薬液を供給する薬液供給ユニット５とを具備する。 - 特許庁

To provide a lubricant applying unit which exhibits the lubricity of the lubricant to the full at all times by stably supplying the lubricant onto a photoreceptor in contrast with the factor that the lubricant cannot exhibit the lubricity any more due to the chemical deterioration in a charging process.例文帳に追加

潤滑剤が帯電プロセスにおける化学的劣化により潤滑性を発揮できなくなることに対して、安定に潤滑剤を感光体上に供給することにより、常に、その潤滑性を最大限発揮する潤滑剤塗布装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The control unit 57 changes the number of reciprocative SPM scanning times, decided by a recipe to the number of the reciprocating SPM scanning times corresponding to the data given from the data comparator 63, and controls the process performed by means of a chemical cleaner 13 in accordance with the recipe after being changed.例文帳に追加

洗浄制御部５７は、レシピで定められているＳＰＭ往復スキャン回数を、データ比較部６３から与えられたデータに応じたＳＰＭ往復スキャン回数に変更し、その変更後のレシピに従って、薬液洗浄部１３における処理のための制御を行う。 - 特許庁