例文 (16件) |
"しょうてんはずれ"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 16件
電子ビームの集束状態を検出して焦点はずれを防止する。例文帳に追加
To prevent focus deviation by detecting the converged state of an electron beam. - 特許庁
合焦点領域と焦点外れ領域とが混在する画像を鮮明化する。例文帳に追加
To sharpen an image in which a focused region and an unfocused region are mixed. - 特許庁
薄板は、外周または内周に、レーザ溶接部15、16と、レーザ焦点外れによる非溶接部17、18を備える。例文帳に追加
On an outer or inner edge thereof, each of the thin sheets has a set of laser welding portions 15 and 16 and non-welding portions 17 and 18 that allow laser to be defocused thereon. - 特許庁
レーザビームやコイルによる発熱があっても焦点外れや収差の発生を抑えることが可能な浮上型光ヘッドを提供する。例文帳に追加
To provide a floating type optical head that can prevent occurrence of out of focus and aberration even on the production of heat generation by a laser beam and a coil. - 特許庁
立体像を表示するための要素画像群の、焦点はずれによる解像度の劣化を補正できる要素画像群補正装置を提供する。例文帳に追加
To provide an element image group correction apparatus capable of correcting the deterioration in the resolution of an element image group for displaying a three-dimensional image caused by out of focus. - 特許庁
焦点外れによって得られる焦点外れ像の直径とその中の干渉縞の数を測定して微小液滴の径及び空間分布を測定する方法を微小気泡に拡張すること、及び、その方法を微小液滴及び微小気泡の空間的分布濃度が高い場合にも適用可能にすること。例文帳に追加
To make a method of measuring a diameter of a defocused image obtained by out-of-focus and the number of interference fringes therein to measure a size and a space distribution of a fine droplet expanded for a fine bubble, and to make the method applicable even when space distribution concentrations of the fine droplets and the fine bubbles are high. - 特許庁
全体制御器9は、ビーム偏向による顕微鏡像の移動量から焦点はずれ量を計算し、焦点距離を偏向するように対物レンズ電源に指令する。例文帳に追加
An overall controller 9 computes an unfocused quantity from the movement of a microscope image caused by beam deflection, and commands to the power source of the object lens to deflect a focus distance. - 特許庁
顕微鏡を意図的な焦点はずれ状態下で動作させると、細胞は、試料中の細胞の個数を報告するために使用できる明るいスポットまたは暗いスポットのいずれかを有するように見える。例文帳に追加
When the microscope is operated intentionally in an out-of-focus state, the cells look like having either bright spots or dark spots that can be used for reporting the number of cells in the sample. - 特許庁
精度良く位置決めすることで、位置決め作業性を向上して焦点外れや認識位置のズレを防止して、多くの数の微細粒子から標的とする微細粒子を効率良く探索して選択的に効率よく回収することができる微細粒子のスクリーニング装置を提供する。例文帳に追加
To provide a particulate screening apparatus that efficiently searches a target particulate from many particulates by enhancing positioning workability by precisely performing positioning work to prevent the shift of a focus or the shift of a recognizing position to selectively and efficiently recover the target particulate. - 特許庁
画像処理部220は、第1撮像素子10Aおよび第2撮像素子10Bから得られる信号を処理し、第2撮像素子10Bによって取得された画像から、手振れによるぼやけおよび焦点外れによるぼやけを減少させた復元画像を生成する。例文帳に追加
An image processing section 220 processes signals obtained from the first imaging device 10A and the second imaging device 10B and produces a restoration image, from an image captured by the second imaging device 10B, in which camera-shake blurs or out-of-focus blurs are decreased. - 特許庁
仮想スライド画像が焦点外れのエリアを有し、よって手動検査の候補であるか否かを決定するために、仮想スライド画像の走査に使用される様々な合焦点を使用して仮想スライド画像の最良適合表面が計算される。例文帳に追加
In order to determine whether a virtual slide image has any out of focus areas and is therefore a candidate for manual inspection, the various focus points used to scan the virtual slide image are used to calculate a best fit surface for the virtual slide image. - 特許庁
焦点はずれ量の可変範囲が球面収差係数で決まる値に比べ十分に大きければ、積算画像は焦点深度が深くなることに加えて、光学系の球面収差(回転不変型波面収差)の影響を受けなくなる。例文帳に追加
When the variable range of the focus deviation amount is sufficiently larger than a value which is determined by a spherical aberration coefficient, the integrated images have a deeper depth of focus and is not influenced by the spherical aberration (a rotationally invariant wavefront aberration) of the optical system. - 特許庁
光学顕微鏡等の熱膨張に起因するZ方向の焦点外れを補償することにより、観測中に試料が焦点ボケを生じたり、物点(対象物)の移動(ドリフト)を起こさない安定性の高い光学顕微鏡を提供する。例文帳に追加
To provide an optical microscope of high stability which prevents a specimen from giving rise to defocus and movement (drift) of an object point (object) during observation by compensating the defocus in Z direction caused by thermal expansion of an optical microscope, etc. - 特許庁
従来技術である液浸露光法において、ホトレジスト層の表面に、液浸露光用液体よりも光屈折率の小さい層を設置することにより、ウエハの反りによる露光光の焦点はずれを小さくし、ウエハの両面を利用した多層化にて高度集積回路を作製する。例文帳に追加
An advanced integrated circuit is manufactured by multi-stratification utilizing both surfaces of the wafer. - 特許庁
波動性ビーム〔光波を含む各波長域の電磁波、音波(超音波)、電子ビームや荷電粒子ビームなど〕を使用した球面収差や色収差を有する結像光学装置において、焦点はずれ量を一定範囲内で連続的に変化させながら観察像を積算する(焦点移動平均,色収差と等価)。例文帳に追加
In an image forming optical device having the spherical aberration and a chromatic aberration and using a wave beam [electromagnetic wave of various wavelength bands including light wave, sonic wave (ultrasonic wave), electron beam, charged particle beam, or the like], an observed images are integrated while continuously varying a focus deviation amount within a prescribed value (equivalent to averaged movement of a focus and chromatic aberration). - 特許庁
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