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"H-R"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 25件
The user equipment 20 selects (s), R at random, computes X=g_1^m×ψ(u)×ψ(v)^s×(ψ(w×h))^R and sends them to the blind signature generating apparatus 10.例文帳に追加
利用者装置20は、s,Rをランダムに選択し、X=g_1^m・ψ(u)・ψ(v)^s・(ψ(w・h))^Rを計算してブラインド署名生成装置10に送信する。 - 特許庁
An aromatic carboxylic acid represented by formula (1) (X is H, R, Ph) and its acid chloride derivative and a method for producing the compounds are provided.例文帳に追加
式(1)で表される芳香族カルボン酸およびその酸塩化物誘導体並びにそれらの製造方法。 - 特許庁
The structures have an aspect ratio h/r ( where r denotes an average radius of the structures and h denotes an average height of the structures) of more than 0.50 and not more than 1.50.例文帳に追加
構造体のアスペクト比h/r(r:構造体の平均半径、h:構造体の平均高さ)は、0.50を超え1.50以下である。 - 特許庁
A skeleton curve, a shear rigidity ratio/strain relationship and an attenuation curve obtained by a soil test are simulated in all strain areas by using a mixed model (an H-R model) obtained by mixing a hyperbolic curve model and an R-O model, and a parameter of the H-R model is automatically set according to approximation.例文帳に追加
土質試験により得られた骨格曲線、せん断剛性比−ひずみ関係、及び減衰曲線を、双曲線モデルとR−Oモデルを混合した混合モデル(H−Rモデル)を用いることにより全ひずみ領域において模擬し、前記H−Rモデルのパラメータを近似法により自動的に設定する。 - 特許庁
In addition, a separation distance between the substrate 12 and the counter substrate 11 is equal to (H+R) or more, where the height of the partition members 6 is denoted H and an average particle diameter of the particles is denoted R.例文帳に追加
また、隔壁部材6の高さをHとし、前記粒子の平均粒子径をRとしたとき、基板12と対向基板11の離間距離は、(H+R)以上である。 - 特許庁
The encryption part calculates C_1=pk_n^r, C_2=h^r, C_3=e(g,g_1)^r×M, t=H(C_2,C_3), C_4=(u^tv^sd)^r, and C_5=s to generate a ciphertext C.例文帳に追加
暗号化部は、C_1=pk_n^r,C_2=h^r,C_3=e(g,g_1)^r・M,t=H(C_2,C_3),C_4=(u^tv^sd)^r,C_5=sを計算し、暗号文Cとする。 - 特許庁
The article management system 300 is constituted by providing the handy type reader/writer (H-R/W) 100 and a PC (control means) 50 which controls the reader/writer 100.例文帳に追加
この物品管理システム300は、ハンディタイプのリーダライタ(H−R/W)100と、リーダライタ100を制御するPC(制御手段)50と、を備えて構成される。 - 特許庁
X is F or H, R^1 and R^2 are each a (substituted)aryl or heteroaryl, and R^3 is H or an alkyl group.例文帳に追加
(式中、XはF又はHであり、R^1及びR^2のそれぞれは任意に置換されていても良いアリール若しくはヘテロアリールであり、そしてR^3はH又はアルキルである。) - 特許庁
(wherein, R^1 expresses a hydroxy group or the like; either one of R^2 or R^3 expresses H, a halogen atom or the like and the other expresses H; R^4 expresses a halogen atom or the like).例文帳に追加
(但し、一般式で、R^1水酸基等、R^2及びR^3はどちらか一方が水素原子、ハロゲン原子等であり、他方が水素原子であり、R^4はハロゲン原子等である。) - 特許庁
A mounting member 4 interposed between a semiconductor device 2 and a heat sink 3 comprises a high-heat resistance part H-R having a higher heat resistance than that of a peripheral area of a part opposed to the semiconductor device 2 at the part.例文帳に追加
半導体素子2とヒートシンク3との間に介在した実装部材4は、半導体素子2と対向する部分に、他の周囲部分よりも熱抵抗の高い高熱抵抗部H・Rを備える。 - 特許庁
In the formula (1): R-O-(AO)n-H, R represents an 8-20C hydrocarbon group, (AO) represents a 2-4C oxyalkylene group, and n shows an average addition molar number of alkylene oxide and ranges from 4 to 20.例文帳に追加
R−O−(AO)n−H ・・・(1)(式中、Rは炭素数8〜20の炭化水素基、(AO)は炭素数2〜4のオキシアルキレン基を示す。nはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示し、4〜20である。) - 特許庁
Transferring heat generated from the semiconductor device 2 in the advance direction is suppressed by the high-heat resistance part H-R in the mounting member 4, and the heat is diffused with a prescribed divergent angle in the process of transferring the heat to a heat sink.例文帳に追加
半導体素子2の発熱は、実装部材4内の高熱抵抗部H・Rにより直進方向の熱伝達が抑制され、ヒートシンク3へ熱伝達する過程で所要の広がり角度で拡散される。 - 特許庁
The optical sheet 1 has a microlens array 3 on its surface and the height ratio (H/R) of the microlenses 4 constituting the microlens array 3 to the radius (R) of curvature is 5/8 to 1.例文帳に追加
本発明の光学シート1は、表面にマイクロレンズアレイ3を有し、このマイクロレンズアレイ3を構成するマイクロレンズ4のレンズ高さ(H)の曲率半径(R)に対する高さ比(H/R)が5/8以上1以下である。 - 特許庁
The polymer containing epoxy group is produced by polymerizing the ethylenic unsaturated bond of a compound expressed by formula (g) or formula (h) (R^9 is an ethylenic unsaturated group) or copolymerizing the above compound with one or more other compounds having ethylenic unsaturated bond.例文帳に追加
式(g)又は式(h):{式中、R^9=エチレン性不飽和基}で表される化合物のエチレン性不飽和結合部分を重合、又は他の1種以上のエチレン性不飽和結合を持つ化合物と共重合させる。 - 特許庁
A required damping force for each wheel is calculated so as to minimize the total of the calorific values of the electric motor 40 by using four formulas composed by adding formula Q for expressing totaling calorific values of the electric motor 40 to formulas H, R and P.例文帳に追加
H式と、R式と、P式に、電気モータ40の発熱量の総和を表すQ式を加え、これらの4個の式に基づいて、電気モータ40の発熱量の総和が最小となるように各輪要求減衰力を演算する。 - 特許庁
The invention provides a one-pot process for the production of a functionalized alkoxyamine of general formula (I) (for example, R^1 and R^2 are each H; R^3 is phenyl; and R^4 and R^5 together with nitrogen atom form an alicyclic 6-membered ring).例文帳に追加
一般式(I):(例えば、式中、R^1、R^2は水素、R^3はフェニル基、R^4、R^5は、窒素原子と一緒になって、脂環式6員環を形成する。)の官能化アルコキシアミンを調製するためのワンポット方法を開示する。 - 特許庁
Hereby, when estimating the rainfall intensity R as the linear function of the height H; R(H)=a.H+b, the parameters a, b are identified by the regression analysis by using the vertical distribution of the rainfall determined by the radar loaded on the satellite.例文帳に追加
これで、降雨強度Rを高度Hの1次関数;R(H)=a・H+bとして推定するに当たり、そのパラメーターa,bを、衛星に搭載されたレーダによって得られた降雨の鉛直分布を用いて、回帰分析により同定する。 - 特許庁
In general formula (1), when R^1 and R^2 are each H, R^3 is CH_2CH_3, while when either one of R^1 and R^2 is acetyl and the other being H, or when R^1 and R^2 are each acetyl, R^3 is CH:CH_2.例文帳に追加
式(1)中、R^1、R^2がともに水素で表される場合、R^3はCH_2CH_3であり、R^1、R^2のどちらか一方がアセチル基、もう一方が水素で表される場合、または両方がアセチル基で表される場合、R^3はCH:CH_2である。 - 特許庁
In the formula, R^1 to R^7 are each independently H, OH, or methoxy; R^a is β-glucosyl or β-rhamnosyl; R^b is α-rhamnosyl or H; R^c is α-glucosyl; n is an integer of 0 to 10.例文帳に追加
(式中、R^1〜R^7はそれぞれ独立に水素原子、水酸基又はメトキシ基を示し、R^aはβ−グルコシル基又はβ−ラムノシル基を示し、R^bはα−ラムノシル基又は水素原子を示し、R^cはα−グルコシル基を示し、nは0〜10の整数を示す。) - 特許庁
Also, two relational expressions using for obtaining each regular wheel request damping force regarding a normal damper from expressions H, R, P are decided based on the comparison of magnitude between heave request damping force difference |ΔH|, roll request damping force difference |ΔR| and pitch request damping force difference |ΔP|.例文帳に追加
また、ヒーブ要求減衰力差|ΔH|,ロール要求減衰力差|ΔR|およびピッチ要求減衰力差|ΔP|の大小比較に基づいて、H式,R式,P式の中から正常ダンパについての正規の各輪要求減衰力を求めるために用いる2個の関係式が決定される。 - 特許庁
A plural number of both conical rollers K are respectively held between a pair of parallel bearing plates 1, 2 free to revolve and roll, and a relation of a scroll revolving radius R of the both conical rollers K and opposed raceway surface dimensions H of the both bearing plates 1, 2 is set to be 1<H/R<5.例文帳に追加
一対の平行な軸受プレート1,2間に、複数の両円錐ころKがそれぞれ旋回転動可能に保持され、両円錐ころKのスクロール旋回半径(R)と両軸受プレート1,2の対向軌道面間寸法(H)との関係が、1<H/R<5となるように設定されている。 - 特許庁
It is preferable that the height ratio (H/R) of the microlens 4 is 5/8-1, a space ratio (S/D) is ≤1/2, a filling rate is ≥40%, the refractive index of a stock material is 1.3-1.8, and a distribution pattern is an equilateral triangle grating pattern or a random pattern.例文帳に追加
上記マイクロレンズ4の高さ比(H/R)としては5/8以上1以下、間隔比(S/D)としては1/2以下、充填率としては40%以上、素材の屈折率としては1.3以上1.8以下、配設パターンとしては正三角形格子パターン又はランダムパターンが好ましい。 - 特許庁
In the carbon film being formed thin and long acicular, electric field concentration factor β in the Fowler-Nordheim formula is expressed by h/r, wherein h denotes a height up to the tip end at an arbitrary position and r denotes the radius, and the film has a shape in which the radius becomes smaller toward the tip end from an arbitrary position.例文帳に追加
細長い針状に成膜されている炭素膜において、ファウラノルドハイムの式における電界集中係数βが、任意の位置での先端までの高さをh、半径をrとして、h/rの式で表され、かつ、その半径が任意の位置から先端に向かうにつれて小さくなる形状を備える。 - 特許庁
The image forming method includes a step of forming clear dots made of clear toner on an image, wherein the image has a 75° glossiness of 10-60, the clear dots are formed by non-contact thermal fixing, and the clear dots have a protrusion shape having a ratio of an average height (H) to an average circle-equivalent diameter (R) within a range of 0.005≤H/R≤10.例文帳に追加
画像形成方法は、画像上にクリアトナーからなるクリアドットを形成する工程を含む方法において、前記画像が75°光沢度10〜60のものであり、前記クリアドットが非接触加熱定着によって形成されたものであり、当該クリアドットが、平均の円相当径(R)に対する平均高さ(H)が、0.005≦H/R≦10の範囲の突起状形状を有することを特徴とする。 - 特許庁
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