「"UNIFORMITY OF FILM"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a technique which improves the uniformity of film thickness of a coating liquid applied to a substrate.例文帳に追加

基板に塗布された塗布液の膜厚の均一性を向上する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology by which the uniformity of film thickness of an SiO2 film can be improved in a plasma CVD method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法において、SiO_2膜の膜厚の緻密性を高くする技術を提供する。 - 特許庁

To further improve the uniformity of film formation in a batch, even at low dose quantity.例文帳に追加

特に、低いドーズ量においても、バッチ内の成膜均一性を更に向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having low residual color property and being excellent in uniformity of film surface condition.例文帳に追加

残色性の少ない、膜面状の均一性に優れた熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a sputtering system and a film forming method capable of improving the in-plane uniformity of film thickness.例文帳に追加

膜厚の面内均一性を改善可能なスパッタリング装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR IMPROVING UNIFORMITY OF FILM IN FILM FORMATION DEVICE AND METHOD例文帳に追加

膜形成装置及び膜形成方法における膜の均一性を向上させる方法 - 特許庁

To produce a single crystal SiC epitaxial film which is less in micropipe defects and high in reproducibility and uniformity of film thickness.例文帳に追加

マイクロパイプ欠陥が少なく、膜厚の再現性および均一性が高い単結晶ＳｉＣエピタキシャルを生成する。 - 特許庁

To provide an organic light emitting element production apparatus which materializes high material utilization efficiency without losing the uniformity of film thickness even in long-term vapor deposition.例文帳に追加

有機発光素子の製造装置において、長時間の蒸着においても膜厚の均一性を失うことなく高い材料利用効率を実現する。 - 特許庁

To improve the uniformity of film thickness in the face of a substrate at forming a thin film for antireflection film on the substrate.例文帳に追加

基板上に反射防止用薄膜を形成する場合に、基板の面内における膜厚の均一性を高めることができるようにする。 - 特許庁

Thus, the degree of homogeneity (uniformity of film thickness or the like) of the thin film can be improved, and further its step coverage properties can be improved.例文帳に追加

このように構成すれば、薄膜の均質度（膜厚の均一性等）を向上させるとともに、ステップカバレッジ特性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor laser device having a reflection surface excellent in the configuration and the uniformity of film thickness and preventing the disconnection of metallic wiring.例文帳に追加

形状、膜厚均一性に優れた反射面と、金属配線の断線を防いだ半導体レーザ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To shorten processing time while stably realizing high in-plane uniformity of film thickness when a coating film is formed on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面に塗布膜を形成するにあたり、安定的に高い膜厚の面内均一性を得つつ、処理時間を短くすること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a bulk-elastic wave device which can improve the uniformity of film thickness of a piezoelectric thin film.例文帳に追加

圧電体薄膜の膜厚の均一性を向上することができるバルク弾性波装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a thin film excellent in the uniformity of film thickness on a planar substrate surface in a thin film forming apparatus using a spray thermal decomposition method.例文帳に追加

スプレー熱分解法を利用した薄膜形成装置であって、板状基板表面に膜厚の均一性が良好な薄膜を形成する。 - 特許庁

To improve the throughput by enhancing the in-plane uniformity of film thickness of a coating film when the coating film is formed on a substrate.例文帳に追加

基板に塗布膜を形成するにあたり、該塗布膜の膜厚の面内均一性を高め、スループットを向上させること。 - 特許庁

To provide a method capable of easily manufacturing an optical element superior in uniformity of film thickness in a valid pixel area.例文帳に追加

有効画素領域における膜厚の均一性に優れた光学素子を簡便に製造することができる方法を提供すること。 - 特許庁

To form a low-cost insulation film having favorable uniformity of film thickness while maintaining a high film formation rate even under a low temperature.例文帳に追加

低温下であっても、高い成膜レートを維持しつつ、低コストで膜厚均一性の良好な絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide a deposition film forming method in which a deposition film superior in uniformity of film thickness and film characteristics and causing no image defects is formed at a low cost.例文帳に追加

膜厚や膜特性の均一性に優れ、画像欠陥のない堆積膜を低コストで形成することができる堆積膜形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film forming apparatus capable of improving in-plane uniformity of film thickness and enhancing reaction efficiency, thereby increasing film forming speed.例文帳に追加

膜厚の面内均一性を向上させると共に、反応効率を向上させて成膜速度も高くすることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system where the mounting operability of a sputtering cathode and the uniformity of film deposition can be secured.例文帳に追加

スパッタリングカソードの装着作業性と成膜の均一性を確保することができるスパッタリング装置を提供する - 特許庁

This improves in-plane uniformity of film thickness and improves reaction efficiency, thereby increasing film formation speed.例文帳に追加

これにより膜厚の面内均一性を向上させると共に、反応効率を向上させて成膜速度も高くする。 - 特許庁

To miniaturize a film deposition apparatus, and to enhance the uniformity of film deposition during the oblique deposition of a material on a substrate.例文帳に追加

基板に材料を斜めに成長させるにあたり、装置の小型化を図るとともに成膜の均一性を向上させること。 - 特許庁

To improve uniformity of film thickness when a polymerizable resin composition is applied, and to provide a transfer material in which roughening of an underlayer is prevented.例文帳に追加

重合性樹脂組成物を塗布した際の膜厚均一性を良好にし、下地層の荒れが防止された転写材料の提供を可能にする。 - 特許庁

To provide an SOI wafer and its manufacturing method by which uniformity of film thickness in a wafer and between wafers is imparted.例文帳に追加

ウエーハ内およびウエーハ間の膜厚均一性を提供するＳＯＩウエーハおよび製造方法。 - 特許庁

To provide a substrate treating device that improves uniformity of film thickness in a substrate surface and then increases the number of substrates to be treated.例文帳に追加

基板面内の膜厚の均一性を向上させ、もって基板の処理枚数を増大させる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which the uniformity of film thickness of a pattern comprising liquid droplets is improved, a liquid droplet discharge apparatus and an electro-optical device.例文帳に追加

液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide a deposited film formation method and a deposited film formation system capable of improving the film thickness and uniformity of film properties in a deposited film.例文帳に追加

堆積膜の膜厚や膜特性の均一性を向上させることができる堆積膜形成方法及び堆積膜形成装置を供給すること。 - 特許庁

To improve uniformity of film thickness of a film formed on a substrate, while improving productivity.例文帳に追加

生産性を向上させつつ、基板上に成膜される膜の面内膜厚均一性を向上させることができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To reduce consumption of coating liquid used for forming film on a CRT display surface and improve uniformity of film thickness.例文帳に追加

ＣＲＴの表示面への膜の形成に用いられる塗布液の使用量を削減し、膜厚の均一性を改善する。 - 特許庁

To provide a vapor phase epitaxial growth device which can enhance the in-plane composition and the uniformity of film thickness in a crystal growing on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板面に成長する結晶における面内の組成及び膜厚の均一性を向上し得る気相成長装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductor pattern that is independent of the density of pattern and can establish the uniformity of film thickness.例文帳に追加

パターンの疎密に依存せず基板面内の膜厚均一性がよい導体パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid treatment device with which the uniformity of film thickness of treatment solution can be improved and the contamination of a substrate can be prevented.例文帳に追加

処理液の膜厚均一性を向上させ，かつ基板の汚染を防止可能な液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an SOI substrate which is provided with an SOI layer superior in uniformity of film thickness, crystallinity and electrical characteristics.例文帳に追加

膜厚均一性、結晶性、電気的諸特性に優れたＳＯＩ層を有するＳＯＩ基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a film forming method capable of improving reproducibility by stabilizing nitrogen concentration in a film and of improving the in-plane uniformity of film thickness.例文帳に追加

膜中の窒素濃度を安定化して再現性を向上させることができ、しかも膜厚の面内均一性を向上させることが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial depositing apparatus for forming an SiC epitaxial film excellent in uniformity of film quality, film thickness, and impurity concentration or the like under various process conditions.例文帳に追加

様々なプロセス条件で膜質、膜厚、不純物濃度等の均一性が良好なＳｉＣエピタキシャル膜を形成するエピタキシャル成膜装置を提供する。 - 特許庁

At this time, since the wafer W is sucked via the sheet 65, the distortion of the wafer W in suction is suppressed, thus improving the uniformity of film thickness when forming the resist film by spin coating.例文帳に追加

このとき，シート６５を介して吸着されているので，吸着の際のウェハＷの歪みが抑制され，スピンコーティングによってレジスト膜を形成する際，膜厚の均一性が向上する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for improving uniformity of film plane of a silicon nitride film or a silicon oxide nitride film, and increasing a productive yield.例文帳に追加

シリコンの窒化膜あるいは酸窒化膜の膜の面内の均一性を向上させ、かつ生産能率を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve uniformity of film thickness by keeping the uniformity of temperature distribution within the plane of substrate due to the processing gas introduced in the substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置に於いて、導入された処理ガスにより基板の面内温度分布の均一性が損われない様にして膜厚の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a polybutylene terephthalate film excellent in uniformity of film thickness, heat shrinkage and mechanical strength even though it is a thin film.例文帳に追加

薄膜でありながら膜厚の均一性、熱収縮率及び機械的強度に優れたポリブチレンテレフタレートフィルムを製造する方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a shower head structure capable of enhancing the in-plane uniformity of film thickness using a small quantity of purging inert gas even when a radiation thermometer is employed.例文帳に追加

放射温度計を用いた場合にあっても少ないパージ用の不活性ガスの使用量で膜厚の面内均一性を高めることが可能なシャワーヘッド構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a hydrophilic coating film with high hydrophilicity, excellent crack resistance and excellent uniformity of film thickness and physical properties without being affected by working environment.例文帳に追加

親水性が高く、耐クラック性に優れ、作業環境の影響を受けにくく膜厚や物性の均一性に優れた親水性塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

Because the uniformity of film thickness distribution in the longitudinal direction is improved by lengthening the evaporation source and film deposition is applied to the whole of the substrate by moving the evaporation source, the uniformity of the film thickness distribution over the whole of the substrate can be improved.例文帳に追加

蒸着源を長くすることにより長手方向における膜厚分布の均一性が高まり、その蒸着源を移動させて基板全体を成膜するので基板全体の膜厚分布の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

Thereby an extremely thin interface oxide film having high in-plane uniformity of film thickness and less defect is obtained by performing a low oxygen partial pressure oxidation while the surface of a silicon layer is protected by the chemical oxide film.例文帳に追加

これにより、シリコン層の表面をケミカル酸化膜で保護した状態で低酸素分圧酸化を行うことで、膜厚の面内均一性が高くて且つ欠陥の少ない極めて薄い界面酸化膜を得る。 - 特許庁

To eliminate non-uniformity of film deposition on a work by strong plasma at the position close to the microwave wave inlet and weak plasma at the position far from the microwave inlet.例文帳に追加

マイクロ波の導入口に近い位置での強いプラズマと、マイクロ波導入口から遠い位置での弱いプラズマとによる被処理物に対する成膜処理の不均一を解消する。 - 特許庁

To provide a photosensitive colored composition which retains excellent dispersibility and high smoothness of a coated surface, and a color filter having filter segments excellent in uniformity of film thickness.例文帳に追加

優れた分散性と、塗工表面の平滑性を保持する感光性着色組成物、および膜厚均一性に優れたフィルタセグメントを具備するカラーフィルタの提供。 - 特許庁