「"absolute temperature of"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Furthermore, temperature at a part of the susceptor (supporting base) 31 facing the region, where the gas ejection holes 431 of the shower head 43 are formed, not through the wafer 1 is set in the range of 1.02-0.7 times of the absolute temperature of the wafer 1.例文帳に追加

また、シャワーヘッド４３のガス噴出孔４３１が形成された領域に、ウエハ１を介さずに対向するサセプタ（支持台）３１の部分の温度をウエハ１の絶対温度の１．０２倍以下０．７倍以上となるよう設定する。 - 特許庁

A relative temperature distribution of the to-be-burned matter in a furnace 1 is measured by an infrared camera 11 and an absolute temperature of the to-be-burned matter at least one position is also measured by a two wavelength thermometer 12.例文帳に追加

炉１内の燃焼物全体の相対温度パターンを赤外線カメラ１１により計測するとともに、燃焼物の少なくとも一箇所の絶対温度を二波長温度計１２により計測する。 - 特許庁

To provide a method and device for measuring temperature capable of measuring the absolute temperature of a measuring object, the constitution of which is provided with a thermocouple temperature sensor outputting an electromotive force corresponding to a temperature difference.例文帳に追加

温度差に応じた起電力を出力する熱電対温度センサを設けた構成において、測温対象部の絶対温度を測定できるようにした温度測定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

The measuring circuit is provided with a temperature detecting element which can measure an absolute temperature of the measuring circuit and a battery temperature of the secondary batteries is detected from a temperature difference between the secondary batteries and the measuring circuit.例文帳に追加

測定回路は、測定回路の絶対温度を測定可能な温度検出素子が設けられており、測定回路の絶対温度と、二次電池と測定回路との温度差とから、二次電池の電池温度が検出される。 - 特許庁

A temperature distribution calculation part 13 combines the relative temperature distribution measured by the infrared camera and the absolute temperature of the to-be-burned matter at least one position measured by the two wavelength thermometer, and determines an absolute temperature pattern for the to-be-burned matter.例文帳に追加

赤外線で計測された相対温度パターンと二波長温度計で計測された少なくとも一箇所の絶対温度を温度分布算出部１３において合成し燃焼物全体の絶対温度パターンが決定される。 - 特許庁

In the heating stage, the heating is carried out under a condition of 0.8≤T/T_g≤1.13, where T is the absolute temperature of heating temperature and T_g is the absolute temperature of the glass transition point of a material constituting the optical polymer structure.例文帳に追加

本発明の光学素子の製造方法は、パルス幅が１０^-15秒〜１０^-11秒のフェムト秒レーザを光学高分子構造体の内部に照射することにより、照射部の屈折率を変化させるレーザ照射工程と、加熱を行なう加熱工程とを含み、加熱工程は、加熱温度を絶対温度でＴとし、光学高分子構造体を構成する材料のガラス転移点の絶対温度をＴ_gとするとき、０．８≦Ｔ／Ｔ_g≦１．１３の条件で加熱することを特徴とする。 - 特許庁

A single crystal 11 is subjected to hot isotropic pressing treatment in a stable atmosphere for the crystal, at a pressure of 0.2-304 MPa and a temperature at least 0.85 times as high as a melting point (absolute temperature) of the crystal, for 5 to 20 min. and thereafter it is annealed.例文帳に追加

単結晶体１１をこの単結晶体１１の安定な雰囲気下、０．２〜３０４ＭＰａの圧力でこの単結晶体１１の絶対温度による融点の０．８５倍以上の温度で５分間〜２０時間、熱間等方圧加圧処理を行った後に徐冷する。 - 特許庁

In the electrolytic refining method for nonferrous metal, a metal used to the hanger for the cathode plate is sintered at a temperature equivalent to 70 to 95% of the melting point indicated by the absolute temperature of the metal in a nonoxidizing atmosphere, and further, the concentration of oxygen in the nonoxidizing atmosphere is controlled to not higher than the concentration of equilibrium oxygen where the primary oxide of the metal is produced.例文帳に追加

陰極板用吊手に用いる金属を、該金属の絶対温度で表示する融点の７０〜９５％に相当する温度で、かつ非酸化性雰囲気下で焼鈍することを特徴とする電解精錬に用いる陰極板用吊手の製造方法、及び前記非酸化性雰囲気の酸素濃度は、前記金属の第一酸化物が生成する平衡酸素濃度以下であることを特徴とする前記製造方法などによって提供する。 - 特許庁