「二光束干渉」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

回折格子が形成された半導体基板１０上にフォトレジスト膜１０ａを形成し、二光束干渉露光法で干渉パターンを露光する。例文帳に追加

In this period measuring method, a photoresist film 10a is formed on a semiconductor substrate 10 on which the diffraction grating is formed, and an interference pattern is formed by exposing it by a two-luminous flux interference exposure method. - 特許庁

干渉縞の幅および方向の調整を片手操作で行うことができ、使い勝手および作業効率の向上が可能な二光束干渉対物レンズ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a two-beam interference objective lens device which is capable of adjusting the width and the direction of the interference fringes by a single hand, and improving the operating convenience and the efficiency. - 特許庁

二光束干渉法によるレジストの露光は２回のみ行い、１回目の露光と２回目の露光で干渉縞の方向に６０゜の角度差をもたせる。例文帳に追加

The exposure of the resist by the double-beam interference method is carried out only twice and directions of interference fringes are given a 60° angle difference between the first exposure and second exposure. - 特許庁

最近、測定範囲の拡大に二種類の単色光を利用した二光束干渉計及びその利用方法が提案されているが、干渉縞の位相を計算するための時間が膨大である。例文帳に追加

The two-light flux interferometer uses two kinds of single lights and envelope-processes light intensity distribution of interference stripes detected with an imaging device. - 特許庁

少ないエネルギーで回転鏡を反復回動させて正確にセンターバースト位置に停止できる二光束干渉計の提供。例文帳に追加

To provide a two-beam interferometer capable of accurately stopping a rotary mirror on a center burst position by repeatedly rotating the rotary mirror by small energy. - 特許庁

固定鏡の粗調整機構を有する二光束干渉計において、固定鏡もしくは移動鏡の粗調整を行う。例文帳に追加

To perform coarse adjustment of a fixed mirror or a moving mirror in a two-beam interferometer having a coarse adjustment mechanism for the fixed mirror. - 特許庁

二光束干渉露光と通常露光など、方式の異なる複数の露光を短時間で実行可能にする。例文帳に追加

To perform a plurality of exposures, having different methods such as two-light flux interference exposure, ordinary exposure, etc. - 特許庁

通常の二光束干渉では撮影し難い大型の透過型ホログラム原版を簡単な配置で作製する。例文帳に追加

To manufacture a large-size transmission type hologram master plate which is usually difficult to photograph by a usual two-beam interference method, using a simple arrangement. - 特許庁

単一光源１から出射するレーザービーム２−１，２−ｊを二光束に分束する分束器５−１，５−ｊと、二光束を一光束に集束する集束器２，１，２−ｊと、二光束の光路差を可干渉性距離より長くする光路差形成光学系３−１とから形成されている。例文帳に追加

The apparatus comprises beam splitters 5-1, 5-j for splitting laser beams 2-1, 2-j exiting from a single light source 1, focusing apparatuses 5-1, 5-j for focusing two beams into one beam, and an optical path difference forming optical system 3-1 for lengthening an optical path difference of two beams to be longer than a coherent distance. - 特許庁

強いスペクトル強度をもつ波長可変テラヘルツ波光源と、二光束干渉を用いたマーチン−パプレット型フーリエ干渉計を組み合わせることにより、ＴＨｚ領域での分光を、Ｓ／Ｎ良く測定できる分光光度計を提供する。例文帳に追加

To provide a spectrophotometer which can measure spectroscopy in THr(tera Hertz) region with good S/N by combining a variable wavelength tera Hertz wave light source having high spectral strength with a Type Fourier interferometer. - 特許庁

硬化性樹脂に対して易接着性を有する塗布層を少なくとも一方のフィルム面に有し、当該塗布層表面における二光束干渉法で観察される５次以上の干渉縞を有する突起の密度（個／ｍｍ^２）が０．７以上であることを特徴とする光学用ポリエステルフィルム。例文帳に追加

This polyester film for optical uses having a coated layer having an easily bondable property with the curable resin on at least one of the film surfaces is characterized by having ≥0.7 density (number/mm^2) of projections having ≥5th interference patterns observed by a double beam interferometry, on the coated layer surface. - 特許庁

無干渉光束生成手段３００は、照明光学系２００からの光をワーク表面への照射光とリファレンス面への入射光との二光束に分割する。例文帳に追加

The generation means 300 divides a beam from the optical system 200 into two light beams, that is, an illumination beam to the workpiece surface and an incident beam to a reference surface. - 特許庁

入力光を二つに分波し再び合波する二光束干渉計１を備えた光波長測定装置であり、合波偏波状態から、被測定光波長を測定する。例文帳に追加

A light wavelength measuring device is provided with a two light beam interferometer 1 which demultiplexes input light into two waves and multiplexes them again to measure the wavelength of light from the polarization.condition of the multiplexed wave. - 特許庁

任意のピッチおよび傾きを持つ周期的な微細パターンを高いコントラストで製造することができる二光束干渉露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a two-beam interference aligner capable of producing a cyclic fine pattern having an optional pitch and inclination with high contrast. - 特許庁

リレーレンズを用いることなく二光束干渉露光により精度の高いホログラム光学素子を作製することが可能なホログラム光学素子の作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a hologram optical element which method enables manufacturing of a hologram optical element that achieves high accuracy by two-beam interference exposure without using a relay lens. - 特許庁

二光束干渉光学系を備えた装置を利用した表面形状の測定における誤計測を的確に判別することにより、誤計測に起因する種々の問題を無くすことのできる表面形状測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a surface shape measuring method capable of removing various problems caused by wrong measurement by discriminating precisely the wrong measurement in measurement of the surface shape utilizing a device equipped with a two-beam interference optical system. - 特許庁

次に、レーザーの二光束１３を干渉させて得られる異方性パターン光１４を照射し、照射領域内においてナノワイヤの配向方向を光１４の異方性パターンの長手方向に沿うように制御する（Ｂ）。例文帳に追加

Next, the orientation direction of the nanowires is controlled so as to be along in a longitudinal direction of an anisotropic pattern of light 14 in an irradiation region while irradiating the anisotropic pattern light 14 obtained by making bichromatic flux 13 of a laser beam interfere with each other (B). - 特許庁

テストパターンＰＡ１〜ＰＡ４，ＰＢ１〜ＰＢ４の像を、照明光がそれを通過する際に発生する±１次光の二光束干渉により投影光学系２２の像面上に結像させる。例文帳に追加

Images of the patterns PA1 to PA4, PB1 to PB4 are imaged on an image surface of the system 22 according to a two-beam interference of ±primary light generated in the case of passing the light through the images. - 特許庁

基板上に設けたレジストの二光束干渉法による露光、現像、およびドライエッチングによって基板の表面に円錐状の凸部（１１）を形成する。例文帳に追加

Conic projection parts (11) are formed on a surface of a substrate through exposure, development, and dry etching of resist provided on a substrate by a double-beam interference method. - 特許庁

硬化性樹脂に対して易接着性を有する塗布層を片面に有し、当該塗布層とは反対面に、二光束干渉法で観察される５次以上の干渉縞を有する突起の密度（個／ｍｍ^２）が５以上である凹凸面を有し、フィルム全体のヘーズが１０％以上であることを特徴とする光散乱性二軸延伸ポリエステルフィルム。例文帳に追加

This light scattering biaxially stretched polyester film has a coating layer having easy adhesivity to a curable resin on one surface thereof, has an uneven face with projection density (pieces/mm^2) of 5 or above showing interference fringes of fifth or higher order observed by two-beam interferometry on the other surface thereof, and has 10% or higher haze as of the whole film. - 特許庁

基板１上に白金元素からなる金属ナノ粒子が近接する状態又は接触する状態にある金属薄膜２が形成された記録媒体１７に、情報を有する情報光４０と参照光３０との二光束に分離したレーザ光を照射して干渉させる。例文帳に追加

A recording medium 17 having a metal thin film 2 in which metal nanoparticles comprising a platinum element are present in a proximity state or a contact with one another on a substrate 1 is irradiated with laser light divided into two beams of information light 40 having information and reference light 30 to interfere with each other. - 特許庁

同一定盤上に、二光束干渉露光に代表される周期パターン露光と周期パターン露光を含まない通常パターン露光の２つの露光を独立可能とする投影レンズを２本設け、さらに、各露光用のマスクを各々設けて、各露光をウエハ単位で露光処理し、短時間にウエハ交換する。例文帳に追加

Two projection lenses are provided on the same surface plate to independently perform two exposures, that is, a cyclic pattern exposure referring to dual-beam flux interference exposure and an ordinary pattern exposure, excluding the cyclic pattern exposure, a mask for each of exposures is provided respectively, and then the respective exposures are performed by a unit of wafer and the wafer is exchanged within a short time. - 特許庁