「形成域」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

色再現域作成方法および色再現域作成装置、画像形成装置例文帳に追加

COLOR REPRODUCIBLE RANGE GENERATING METHOD, COLOR REPRODUCIBLE RANGE GENERATING DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE - 特許庁

ボディ領域１１の表層部には、ソース領域１３を形成する。例文帳に追加

A source region 13 is formed at a surface layer section of the body region 11. - 特許庁

フィールド注入領域は、分離領域の下方に形成される。例文帳に追加

The field injection region is formed at the lower part of the separation region. - 特許庁

第２の領域３２６は、第１の領域３２４よりも上方に形成する。例文帳に追加

The second region 326 is formed at a higher position than the first regions 324. - 特許庁

その後、ボディ領域１４内にソース領域１５を形成する。例文帳に追加

Then a source region 15 is formed in the body region 14. - 特許庁

ハロー領域１７は、エクステンション領域１６の下方に形成される。例文帳に追加

The halo region 17 is formed under the extension region 16. - 特許庁

分離領域は、ｎ^−領域の端に隣接する基板に形成される。例文帳に追加

The separation region is formed on the substrate adjacent to the end of the n- region. - 特許庁

ベース領域１０２内には、エミッタ領域１０４が形成されている。例文帳に追加

An emitter region 104 is formed in the base region 102. - 特許庁

延在領域１２２に、Ｎ型のソース引出領域が形成される。例文帳に追加

An N-type source leadout region is formed on the extending region 122. - 特許庁

領域６，７内に複数個の素子分離領域５を形成する。例文帳に追加

A plurality of element isolating regions 5 are formed in the regions 6 and 7. - 特許庁

その後、ゲート絶縁膜２２４を形成し、ゲート電極２２５を形成し、ソース領域２１８ａとチャネル形成領域２１８ｂとドレイン領域２１８ｃを形成し、層間絶縁膜２２６を形成し、コンタクト・ホール２２７、２２８を形成し、ソース電極２２９とドレイン電極２３０を形成する。例文帳に追加

After that, a gate insulating film 224, a gate electrode 225, source, channel formation, and drain regions 218a, 218b, and 218c, an interlayer insulating film 226, contact holes 227 and 228, and source and drain electrodes 229 and 230, are formed. - 特許庁

その後、ＮチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域１０６およびＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域に１０７ゲート電極を形成する。例文帳に追加

Thereafter, gate electrodes are formed in the N-channel MOSFET forming region 106 and the P-channel MOSFET forming region 107. - 特許庁

可視トナー像は用紙の余白領域に形成され、不可視トナー像は用紙の通常の画像形成領域に形成される。例文帳に追加

The visible toner image is formed on a margin region of the paper, and the invisible toner image is formed on a normal image formation region of the paper. - 特許庁

次いで、ＮチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域８０とＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域８２に高誘電率膜２０を形成する。例文帳に追加

A high permittivity film 20 is formed in the N-channel MOSFET formation area 80 and the P-channel MOSFET formation area 82. - 特許庁

その後、その窪み１３の形成領域にメモリセル選択用のｎＭＩＳのチャネル形成用のｐ型の半導体領域を形成する。例文帳に追加

Subsequently, a p-type semiconductor region to form a channel of nMIS for memory cell selection is formed onto the forming region of the recess 13. - 特許庁

空間５６は、画像形成領域１２ａの下方及びその下流側に形成された画像形成領域用チャンバ５６である。例文帳に追加

The space 56 is an image forming area chamber 56 formed on the underside and on the downstream side of the image forming area 12a. - 特許庁

表示パネル部に配置される画素２０の略中央部を除く環状の形成領域に回路形成領域ＺＣを形成した。例文帳に追加

A circuit forming region ZC is formed in an annular forming region of a pixel 20 arranged at a display panel section except the nearly central part of the pixel 20. - 特許庁

そして、コア領域の形成後、コア領域が形成された石英基板１上に、オーバークラッド層５が形成される。例文帳に追加

After the core area is formed, an over clad layer 5 is deposited on the quartz substrate 1 in which the core area is formed. - 特許庁

半導体ウエハ５１の製造方法は、まず、ＳＯＩ形成領域１３とバルク形成領域とを分離する素子分離層１２を形成する。例文帳に追加

In the method of manufacturing the semiconductor wafer 51, an element isolation layer 12 for separating an SOI forming region 13 and a bulk forming region is first formed. - 特許庁

まず、素子形成領域Ｄ１〜Ｄ４のそれぞれを包囲するように、ＳＴＩ６０を半導体基板１０に形成する（素子分離領域形成工程）。例文帳に追加

STI 60 is formed on a semiconductor substrate 10 first to enclose element formation regions D1 to D4 respectively (element separation region forming process). - 特許庁

キャパシタ形成領域１Ｂの隣のＭＩＳＦＥＴ形成領域１Ａにはｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴ２４が形成されている。例文帳に追加

An n-channel MISFET 24 is formed in an MISFET forming region 1A adjacent to the capacitor forming region 1B. - 特許庁

回路形成領域２上には、回路形成領域２に形成されている内部回路と電気的に接続されたパッド５が配置されている。例文帳に追加

Pads 5 electrically connected to an internal circuit formed in an circuit forming region 2 are arranged on the circuit forming region 2. - 特許庁

Ｓｉ基板１３に回路素子形成領域１４と当該回路素子形成領域を覆う表面保護膜１６が形成されている。例文帳に追加

The circuit-element forming region 14 and a surface protecting film 16 covering the circuit-element forming region are formed in a Si substrate 13. - 特許庁

マトリクス状に配置される電子源素子を、列配線の形成される領域のうち、行配線の形成される領域を除いた部分に形成する。例文帳に追加

Electron source elements arranged in a matrix are formed in a part except a region with row cabling formed out of a region with column cabling formed. - 特許庁

配線層２Ａは、接触子形成領域ＣＡを接触子非形成領域ＣＢよりも突出させて形成されている。例文帳に追加

The wiring layer 2A is formed so that a contactor forming domain CA is furthermore projected than the contactor non-forming domain CB. - 特許庁

次に、ゲート電極を形成し、サイドスペーサーを形成した後、第２ソース領域とドレイン領域とを同時に形成する。例文帳に追加

Next, a gate electrode is formed, a side spacer is formed, and thereafter a second source region and a drain region are formed at the same time. - 特許庁

基板１上面に段差を形成し、低い面に光導波路形成領域１Ｂを、高い面に窓構造形成領域１Ａを画定する。例文帳に追加

A level difference is formed on the top surface of a substrate 1, an optical waveguide forming region 1B is demarcated on a lower surface, and a window structure, forming a region 1A, is demarcated on a higher surface. - 特許庁

Ｓｉ基板1中に、Ｓｉ活性領域２とＧｅ活性領域３が形成され、ゲート形成後、ＨＤＤ、ＬＤＤ、ハロを形成する。例文帳に追加

An Si active area 2 and a Ge active area 3 are formed in an Si substrate, and a gate is formed, and then an HDD, an LDD, and halos are formed. - 特許庁

2つの枝路の分岐点が形成する角の領域例文帳に追加

the region of the angle formed by the junction of two branches  - 日本語WordNet

この章若しくは地域産業集積形成法例文帳に追加

this Chapter or the Regional Industrial Clusters Formation Act  - 日本法令外国語訳データベースシステム

農耕社会の成立によって地域集団が形成された。例文帳に追加

The establishment of an agriculture-based society generated local communities.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ｐ型窒化ガリウム系半導体領域を形成する方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING P-TYPE GALLIUM NITRIDE SEMICONDUCTOR REGION - 特許庁

主半導体領域３は窒化物半導体で形成する。例文帳に追加

The main semiconductor region 3 is formed of a nitride semiconductor. - 特許庁

イオン注入により、ソース領域４ｂを形成する。例文帳に追加

A source region 4b is formed by ion implantation. - 特許庁

また、メサ領域Ｍは選択成長によって形成される。例文帳に追加

The mesa region M is formed by selective growth. - 特許庁

イオン注入による伝導領域の形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING CONDUCTIVE REGION THROUGH ION IMPLANTATION - 特許庁

各磁石の間には、中性領域３Ｈが形成される。例文帳に追加

Neutral areas are formed between respective magnets. - 特許庁

チャンネルは弧状の漏斗領域を形成している。例文帳に追加

The channel forms an arcuate funnelling region. - 特許庁

半導体装置と多結晶半導体領域の形成方法例文帳に追加

SEMICONDUCTOR APPARATUS AND METHOD FOR FORMING POLYCRYSTALLINE SEMICONDUCTOR REGION - 特許庁

第２の半導体領域はSiGe若しくはSiGeCで形成する。例文帳に追加

The second semiconductor region is formed of SiGe or SiGeC. - 特許庁

半導体基板１にコレクタ領域が形成されている。例文帳に追加

A collector region is formed on a semiconductor substrate 1. - 特許庁

半導体基板中に絶縁領域を形成する方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING INSULATION REGION IN SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

すなわち、形成されるチル化領域は浅く広いものとなる。例文帳に追加

That is, the formed chilling range is shallowly widened. - 特許庁

トレンチＭＯＳ素子は、活性領域に形成される。例文帳に追加

The trench MOS device is formed in the active region. - 特許庁

半導体素子のソース／ドレイン領域形成方法例文帳に追加

SOURCE/DRAIN REGION FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁