「形成域」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

当該方法は接続レベルでの形成領域に整合した配線接続領域を形成する。例文帳に追加

A wiring connection region matching a formation region at the connection level is formed by this method. - 特許庁

素子分離膜２が形成されたＳｉ基板１にＮウェル領域及びＰウェル領域を形成する。例文帳に追加

N and P well regions are formed on an Si substrate 1 where an element isolation film 2 is formed. - 特許庁

従来はスクライブ線領域に形成されていたプロセスマークを半導体領域に形成する。例文帳に追加

The process mark that has been conventionally formed in the scribe line region is formed in the semiconductor region. - 特許庁

形成されたベース領域に不純物を添加してエミッタ領域を形成する。例文帳に追加

Then, an emitter area is formed by doping impurity to the formed base area. - 特許庁

レジストマスクは、配線形成領域１０５を覆い、かつ配線非形成領域１０７を露出する。例文帳に追加

The resist mask covers a wiring forming region 105 and exposes a wiring not forming region 107. - 特許庁

チャネル形成領域１０８の膜厚は、不純物形成領域１２０の膜厚よりも薄い。例文帳に追加

The channel formation region 108 has a film thickness thinner than the film thickness of the impurity formation region 120. - 特許庁

色域形成装置、色変換装置、色域形成プログラム、色変換プログラム例文帳に追加

COLOR GAMUT FORMING APPARATUS, COLOR CONVERTING APPARATUS, COLOR GAMUT FORMATION PROGRAM, COLOR CONVERSION PROGRAM - 特許庁

その後、素子分離領域２に、前記素子形成領域１を取り囲む素子分離膜３を形成する。例文帳に追加

Then, the element isolation film 3 enclosing the element formation region 1 is formed in the element isolation region 2. - 特許庁

アライメントマークは、暗部を形成する凹凸領域と、明部を形成する平坦領域からなる。例文帳に追加

The alignment mark is comprised of an uneven region forming a dark part and a flat region forming a light part. - 特許庁

鋼材の非磁性領域形成方法及び非磁性領域が形成された鋼材例文帳に追加

METHOD FOR FORMING NON-MAGNETIC REGION IN STEEL MATERIAL, AND STEEL HAVING NON-MAGNETIC REGION FORMED THEREON - 特許庁

鋼材の非磁性領域形成方法において、より均一に非磁性領域を形成することである。例文帳に追加

To more uniformly form a non-magnetic region in a method of forming a non-magnetic region of a steel material. - 特許庁

穴形成領域１０Ａと、載置面形成領域１０Ｂとでは、特性が異なっている。例文帳に追加

The hole forming region 10A and the placement face forming region 10B have different properties. - 特許庁

チャネル形成領域１０３に、ドットパターン上の不純物領域１０４を形成する。例文帳に追加

An impurity region 104 in the form of a dot pattern is formed in a channel forming region 103. - 特許庁

鋼材の非磁性領域形成方法及び非磁性領域が形成された鋼材例文帳に追加

METHOD FOR FORMING NON-MAGNETIC REGION OF STEEL MATERIAL, AND STEEL MATERIAL HAVING NON-MAGNETIC REGION FORMED THEREON - 特許庁

再帰反射領域が形成されたシート及び再帰反射領域の形成方法例文帳に追加

SHEET HAVING RETRO-REFLECTION REGION FORMED THEREON AND METHOD FOR FORMING RETRO-REFLECTION REGION - 特許庁

下層部１０を形成する工程は、第１絶縁部１２を、回路を形成するための第１回路形成領域１１０と、第１回路形成領域を取り囲む第１領域１２０とに形成する工程と、ビア１１を第１回路形成領域１１０に形成する工程とを備える。例文帳に追加

A process for forming the lower layer portion 10 includes a process for forming the first insulating part 12 on a first circuit forming region 110 for forming a circuit and a first region 120 for surrounding the first circuit forming region; and a process for forming the via 11 on the first circuit forming region 110. - 特許庁

シリコン基板であるウェハ１内に、デバイス形成領域２とＰＣＭ形成領域３とが設けられたチップ１１を形成し、デバイス形成領域２にエピタキシャル層を形成する際に、ＰＣＭ形成領域３にはエピタキシャル層を形成しない。例文帳に追加

When a chip 11 wherein a device formation area 2 and a PCM formation area 3 are provided is formed in a wafer 1 as a substrate and an epitaxial layer is formed in the device formation area 2, no epitaxial layer is provided in the PCM formation area 3. - 特許庁

非デバイス形成領域３にイオン注入領域を形成し、このイオン注入領域の表面をＬＯＣＯＳ酸化することにより、非デバイス形成領域３に結晶欠陥を形成することができるため、デバイス形成領域２に結晶欠陥が形成されないようにできる。例文帳に追加

An ion implantation region is formed in a non-device formation region 3, and the surface of the ion implantation region is subjected to LOCOS oxidation, thus forming crystal defects in the non-device formation region 3, and hence preventing the crystal defects from being formed in a device formation region 2. - 特許庁

デジタル回路形成領域２とアナログ回路形成領域が形成されているシリコン基板１のデジタル回路形成領域２とアナログ回路形成領域３との間の回路分離領域４に、シリコン基板１の表面から内部にかけてクロストーク防止用の導電部５を形成する。例文帳に追加

A conductive part 5 for preventing crosstalk is formed toward the internal side from the surface of a silicon substrate 1 in a circuit isolating region 4 formed between a digital circuit forming region 2 and an analog circuit forming region 3 of the silicon substrate 1 where the digital circuit forming region 2 and the analog circuit forming region 3 are formed. - 特許庁

そして、この突出部２４の下面には、溝状に形成された凹部２４ｃが複数形成された凹部形成領域２４ａと、凹部２４ｃが形成されておらず平坦に形成された平坦領域２４ｂとが形成されている。例文帳に追加

Recess formed regions 24a in which a plurality of groove-shaped recesses 24c are formed, and flat regions 24b in which the recesses 24c are not formed and which are formed flat, are formed on the lower surface of the projection 24. - 特許庁

そして、低耐圧ＭＩＳＦＥＴ形成領域および高耐圧ＭＩＳＦＥＴ形成領域にゲート電極を形成した後、メモリセル形成領域にゲート電極を形成する。例文帳に追加

After the gate electrode is formed in the low withstand voltage MISFET formation region and the high withstand voltage MISFET formation region, the gate electrode is formed in a memory cell formation region. - 特許庁

ガイドワイヤ１には、マーカ形成層４が形成される領域であるマーカ形成領域４０が設定されており、このマーカ形成領域４０における芯線３の外周には、マーカ形成層４が部分的に設けられている。例文帳に追加

A marker forming region 40 being a region having the marker forming layer 4 formed thereto is set to the guide wire 1 and the marker forming layer 4 is partially provided to the outer periphery of the core wire 3 in the marker forming region 40. - 特許庁

コレクタ領域１にはベース領域２が形成され、さらに、ベース領域２にはエミッタ領域３が形成されている。例文帳に追加

A base region 2 is formed in a collector region 1, and the emitter region 3 is formed in the base region 2. - 特許庁

ドレイン領域１２１内にボディ領域１５が形成され、ボディ領域１５内にＮ型ソース領域１６が形成される。例文帳に追加

A body region 15 is formed in the drain region 121, and an N-type source region 16 is formed in the body region 15. - 特許庁

半導体基板の表面領域に分離領域１１が互いに平行に形成され、この分離領域１１の間にチャネル領域１２が形成される。例文帳に追加

On a surface of a semiconductor substrate, isolation regions 11 are mutually paralleled and channel regions 12 are formed therebetween. - 特許庁

外周領域のＰ型コラム領域１０６は、素子形成領域のＰ型コラム領域１０６の深さ以上の深さに形成される。例文帳に追加

The P type column region 106 in the outer circumferential region is formed deeper than the P type column region 106 in the element forming region. - 特許庁

ドリフト領域１２及びコラム領域１４の上にはベース領域１３が形成され、その表面層にはソース領域１５が形成される。例文帳に追加

A base region 13 is formed on the drift region 12 and column region 14, and a source region 15 is formed in a surface layer thereof. - 特許庁

バーズビーク４が取り囲む領域にベース領域７を形成し、ベース領域７に埋設するエミッタ領域８を形成する。例文帳に追加

Further, a base region 7 is formed on a region enclosed by the bird's beaks 4, and an emitter region 8 to be embedded in the base region 7 is also formed. - 特許庁

銅シード層(112)の形成後で銅層(120)の形成前に、非相互接続領域に銅が形成されないようにブロックするパターン(114)が形成される。例文帳に追加

After a copper seed layer 112 is formed, a pattern 114 which blocks the formation of copper in a non-interconnecting area is formed before the formation of a copper layer 120. - 特許庁

一　当該広域地方計画区域における国土の形成に関する方針例文帳に追加

(i) Policy concerning the spatial development in the said Regional Plan District;  - 日本法令外国語訳データベースシステム

二　当該広域地方計画区域における国土の形成に関する目標例文帳に追加

(ii) Objectives concerning the spatial development in the said Regional Plan District;  - 日本法令外国語訳データベースシステム

エミッタまたはコレクタ領域はベース領域とヘテロ接合を形成する。例文帳に追加

The emitter region or the collector region forms the base region and heterojunction. - 特許庁

第２の半導体領域５は第１の半導体領域４上に形成する。例文帳に追加

The second semiconductor region 5 is formed on the first semiconductor region 4. - 特許庁

前記領域以外の領域に前記フレックス部２が形成されている。例文帳に追加

In the area other than the above mentioned area, the flex portion 2 is formed. - 特許庁

一方、領域Ａの他の領域には光触媒を形成する。例文帳に追加

Meanwhile, the photocatalyst is formed in an area other than the area A. - 特許庁

ｐ^-拡散領域５と間隔をあけてｐ拡散領域３が形成される。例文帳に追加

A p diffusion region 3 is formed with an interval to the p^- diffusion region 5. - 特許庁

そのベース領域３内にｎ形のエミッタ領域４が形成されている。例文帳に追加

An n-type emitter region 4 is formed in the base region 3. - 特許庁

その後、ベース領域１７の表面にエミッタ領域１９を形成する。例文帳に追加

Then, an emitter region 19 is formed on the surface of the base region 17. - 特許庁

また、Ｎ型領域５内には、Ｎ^−型領域５ｂを形成する。例文帳に追加

In addition, an N^--type area 5b is formed within the N-type area 5. - 特許庁

ベース領域２０６内には、エミッタ／ソース領域２０８が形成されている。例文帳に追加

An emitter/source region 208 is formed within the base region 206. - 特許庁

メインピクセル部は単位ピクセル領域の第１領域に形成される。例文帳に追加

A main pixel part is formed on a first region of the unit pixel region. - 特許庁

パッド部は、表示領域を取り囲む周辺領域に形成される。例文帳に追加

The pad part is formed on a peripheral region surrounding the display region. - 特許庁

第２の領域に第２の領域のソース／ドレイン（３０４）が形成される。例文帳に追加

A second region source and a drain (304) are formed in the second region. - 特許庁

次に、ＴＳＶ構造となる領域にアイランド領域を形成する。例文帳に追加

Next, an island region is formed in a region forming a TSV structure. - 特許庁

第２の領域に第２の領域のゲート誘電体（３０６）が形成される。例文帳に追加

A second region gate dielectric (306) is formed in the second region. - 特許庁