「薄膜ターゲット」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

強誘電体薄膜、及び強誘電体薄膜作成用スパッタリングターゲット材料例文帳に追加

FERROELECTRIC THIN FILM, AND SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING FERROELECTRIC THIN FILM - 特許庁

薄膜アルミニウム合金及び薄膜アルミニウム合金形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

THIN-FILM ALUMINUM ALLOY AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING THIN-FILM ALUMINUM ALLOY - 特許庁

Ａｌ合金薄膜の製造方法およびＡｌ合金薄膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING Al ALLOY THIN FILM, AND SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING Al ALLOY THIN FILM - 特許庁

金属抵抗体材料、抵抗薄膜、スパッタリングターゲット、薄膜抵抗器およびその製造方法例文帳に追加

METAL RESISTANCE MATERIAL, RESISTANCE THIN FILM, SPUTTERING TARGET, THIN FILM RESISTOR AND MANUFACTURING METHODS THEREOF - 特許庁

薄膜形成用スパッタリングターゲット、誘電体薄膜、光ディスク及びその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR THIN FILM FORMATION, DIELECTRIC THIN FILM, OPTICAL DISK, AND METHOD FOR PRODUCING THE DIELECTRIC THIN FILM - 特許庁

多結晶Ｓｉ薄膜の堆積法、多結晶Ｓｉ薄膜及び光起電力素子並びにターゲット例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING POLYCRYSTALLINE SI THIN FILM, POLYCRYSTALLINE SI THIN FILM, PHOTOVOLTAIC ELEMENT AND TARGET - 特許庁

抵抗薄膜材料、抵抗薄膜形成用スパッタリングターゲット、抵抗薄膜、薄膜抵抗器およびその製造方法。例文帳に追加

RESISTOR THIN FILM MATERIAL, RESISTOR THIN FILM, SPUTTERING TARGET FOR FORMING THE SAME, AND THIN-FILM RESISTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

プラズマ中のイオンがターゲットに衝突しターゲット材料が飛散しウェハに付着して薄膜を形成する。例文帳に追加

Ions in the plasma collide against the target, and a target material scatters and deposits on a wafer to form a thin film. - 特許庁

実施形態のスパッタリング用ターゲットは、薄膜形成に用いられるターゲット原子を含んで構成されている。例文帳に追加

The sputtering target is configured to include target atoms used for thin film deposition. - 特許庁

電力を投入するターゲットを切り替えることにより、基板５上にターゲット材料の薄膜が多層に成膜される。例文帳に追加

A multilayer of thin films of the target materials are formed on the substrate 5 by switching the targets to charge the power. - 特許庁

プラズマ１０中のイオンがターゲット１２に衝突しターゲット材料が飛散しウェハ３に付着して薄膜を形成する。例文帳に追加

Ions in the plasma 10 collide with the target 12, and a target material is scattered and adhered to a wafer 3 to form a thin film. - 特許庁

高純度タンタルの回収方法並びに高純度タンタルスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成された薄膜例文帳に追加

METHOD FOR RECOVERY OF HIGH-PURITY TANTALUM, HIGH-PURITY TANTALUM SPUTTERING TARGET, AND THIN FILM DEPOSITED BY USING THIS SPUTTERING TARGET - 特許庁

基板１１とターゲット基板２２とを押圧し、順次複数の薄膜パターン１４ａ，１４ｂをターゲット基板２２側に転写する。例文帳に追加

The substrate 11 and a target substrate 22 are pressed to sequentially transfer the plurality of thin film patterns 14a, 14b to the target substrate 22 side. - 特許庁

薄膜蒸着での使用および再使用のためスパッタターゲットを作る方法とスパッタ蒸着ターゲット例文帳に追加

PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET FOR USE AND REUSE IN THIN FILM VAPOR DEPOSITION, AND SPUTTERING VAPOR DEPOSITION TARGET - 特許庁

ターゲット材料の露出部の全体を用いた薄膜形成を行うことにより、ターゲット材料の延命化を可能とする。例文帳に追加

To make a target material longer in life by forming thin films using the entire part of the exposure section of the target material. - 特許庁

アルミニウム合金薄膜及びその薄膜を有する配線回路並びにその薄膜を形成するターゲット材例文帳に追加

ALUMINUM ALLOY THIN FILM, WIRING CIRCUIT HAVING THE SAME THIN FILM, AND TARGET MATERIAL DEPOSITING THE THIN FILM - 特許庁

無機ＥＬ蛍光体薄膜用ターゲット、蛍光体薄膜、無機ＥＬ素子および硫化物蛍光体薄膜の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF TARGET FOR INORGANIC ELECTROLUMINESCENT PHOSPHOR THIN FILM, PHOSPHOR THIN FILM, INORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND SULFIDE PHOSPHOR THIN FILM - 特許庁

陽子発生用のターゲット物質は、支持薄膜と、支持薄膜上に形成された、水素化されたアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）薄膜から成る。例文帳に追加

The target substance for generating protons includes a support thin film and a hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin film formed on the support thin film. - 特許庁

ＺｎＳ系透明導電性薄膜、ＺｎＳ系透明導電性蛍光体薄膜、および、この薄膜の成膜用のスパッタリングターゲット材料例文帳に追加

ZnS-BASED TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM, ZnS-BASED TRANSPARENT CONDUCTIVE PHOSPHOR THIN FILM, AND sputtering TARGET MATERIAL FOR FORMING THEM - 特許庁

ターゲット、成膜方法、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタ付パネル、及び薄膜トランジスタの製造方法例文帳に追加

TARGET, FILM FORMING METHOD, THIN FILM TRANSISTOR, PANEL WITH THIN FILM TRANSISTOR, AND MANUFACTURING METHOD FOR THIN FILM TRANSISTOR - 特許庁

金属酸化物およびこれを用いた薄膜形成用ターゲット材の製法、金属酸化物薄膜形成用ターゲット材および金属酸化物薄膜の形成法例文帳に追加

METAL OXIDE AND PRODUCTION OF TARGET MATERIAL USING THE SAME AND USED FOR FORMING THIN FILM, TARGET MATERIAL FOR FORMING METAL OXIDE THIN FILM AND FORMATION OF METAL OXIDE THIN FILM - 特許庁

本発明は、高屈折率薄膜をＤＣスパッタリング法で形成する際に用いられるスパッタリングターゲットであって、高屈折率薄膜の成膜速度が速く生産性が高いスパッタリングターゲットおよび該ターゲットを用いた高屈折率薄膜の形成方法の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a sputtering target which is used for depositing a high refractive index thin film by a DC sputtering process, and allows a high film deposition rate of the high refractive index thin film and high productivity, and to provide a method of depositing the high refractive index thin film using the target. - 特許庁

高純度ニッケル、高純度ニッケルターゲット及び高純度ニッケル薄膜例文帳に追加

HIGH PURITY NICKEL, HIGH PURITY NICKEL TARGET, AND HIGH PURITY NICKEL THIN FILM - 特許庁

レーザー加工用Ｎｉ合金薄膜およびこれに用いるＮｉ合金スパッタリングターゲット材例文帳に追加

Ni ALLOY THIN FILM FOR LASER PROCESSING AND Ni ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL USING THE SAME - 特許庁

磁性材用Ｍｎ合金材料、Ｍｎ合金スパッタリングターゲット及び磁性薄膜例文帳に追加

Mn ALLOY MATERIAL FOR MAGNETIC MATERIAL, Mn ALLOY SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC THIN FILM - 特許庁

配線形成用材料、配線形成用スパッタリングターゲット、配線薄膜及び電子部品例文帳に追加

MATERIAL FOR FORMING WIRING, SPUTTERING TARGET FOR FORMING WIRING, WIRING THIN FILM AND ELECTRONIC PARTS - 特許庁

良好な膜質の圧電体薄膜を製造できるスパッタリングターゲット材を製造すること。例文帳に追加

To manufacture a sputtering target material for manufacturing a piezoelectric thin film with adequate film quality. - 特許庁

Ｃｕ合金薄膜およびＣｕ合金スパッタリングターゲット並びにフラットパネルディスプレイ例文帳に追加

Cu-ALLOY THIN FILM, Cu-ALLOY SPUTTERING TARGET AND FLAT PANEL DISPLAY - 特許庁

高誘電体薄膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR FORMING HIGH DIELECTRIC THIN FILM AND ITS PRODUCTION - 特許庁

高純度酸化亜鉛粉末、高純度酸化亜鉛ターゲット及び高純度酸化亜鉛薄膜例文帳に追加

HIGH PURITY ZINC OXIDE POWDER, HIGH PURITY ZINC OXIDE TARGET AND HIGH PURITY ZINC OXIDE THIN FILM - 特許庁

磁性薄膜形成用Ｍｎ−Ｉｒ合金スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING Mn-Ir ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC THIN FILM - 特許庁

スパッタリング用ターゲット、その製造方法及び光導波路用薄膜の形成方法例文帳に追加

TARGET FOR SPUTTERING, ITS PRODUCTION METHOD AND METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM FOR OPTICAL WAVEGUIDE - 特許庁

Ａｇ合金反射膜、スパッタリングターゲットおよびＡｇ合金薄膜製造方法例文帳に追加

Ag-ALLOY REFLECTIVE FILM, SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING Ag-ALLOY THIN FILM - 特許庁

単結晶ターゲットを用いたＥＣＲスパッタ法でＬｉＮｂＯ_3薄膜が形成できるようにする。例文帳に追加

To form a LiNbO_3 thin film by an ECR sputtering method using a single crystal target. - 特許庁

酸化亜鉛系の非晶質薄膜用スパッタリングターゲットおよびこの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR ZINC OXIDE BASED AMORPHOUS THIN FILM, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF - 特許庁

スパッタリングターゲット及びその製造方法、有機顔料分散型薄膜及びその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION METHOD, ORGANIC PIGMENT-DISPERSED TYPE THIN FILM AND ITS PRODUCTION METHOD - 特許庁

酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜例文帳に追加

OXIDE SINTERED COMPACT, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, SPUTTERING TARGET AND SEMICONDUCTOR THIN FILM - 特許庁

薄膜トランジスタ基板、表示デバイス、および表示デバイス用のスパッタリングターゲット例文帳に追加

THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE, SPUTTERING TARGET THEREFOR - 特許庁

高速回転ターゲット式レーザーアブレーション薄膜およびナノ微粒子作製方法および装置例文帳に追加

HIGH SPEED ROTARY TARGET TYPE LASER ABRASION THIN FILM AND NANOFINE PARTICLE PRODUCING METHOD AND DEVICE - 特許庁

透明導電性薄膜とその製造方法及びその製造に用いるスパッタリングターゲット例文帳に追加

TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET USED FOR ITS MANUFACTURE - 特許庁

パーティクル発生の少ないＭｇＯ薄膜形成用Ｍｇスパッタリングターゲット例文帳に追加

Mg SPUTTERING TARGET FOR FORMING THIN FILM OF MgO WITH LITTLE GENERATION OF PARTICLE - 特許庁

スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにそれを用いて作製した薄膜例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND THIN FILM PRODUCED WITH THE USE OF THE METHOD - 特許庁

スパッタリング成膜用珪素ターゲットおよび珪素含有薄膜の成膜方法例文帳に追加

SILICON TARGET FOR SPUTTERING FILM FORMATION, AND METHOD FOR FORMING SILICON-CONTAINING THIN FILM - 特許庁

Ｎｂスパッタリングターゲットおよびその製造方法、並びにそれを用いた光学薄膜、光学部品例文帳に追加

Nb SPUTTERING TARGET, ITS MANUFACTURING METHOD, OPTICAL THIN FILM USING IT, AND OPTICAL COMPONENT - 特許庁

ＮｉＴｉ系形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜例文帳に追加

Ni-Ti SHAPE MEMORY ALLOY AND TARGET AND FILM MADE OF THE SAME - 特許庁