「薄膜ターゲット」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

銀合金、そのスパッタリングターゲット材及びその薄膜例文帳に追加

SILVER ALLOY, SPUTTERING TARGET THEREOF AND THIN FILM THEREBY - 特許庁

圧電体薄膜素子用ターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING TARGET FOR PIEZOELECTRIC THIN FILM ELEMENT - 特許庁

配線用薄膜およびスパッタリングターゲット例文帳に追加

THIN FILM FOR WIRING AND SPUTTERING TARGET - 特許庁

スパッタリングターゲット及び薄膜形成方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND FORMATION OF THIN FILM - 特許庁

スパッタリングターゲットおよび有機薄膜の作製方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING ORGANIC THIN FILM - 特許庁

薄膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR THIN FILM DEPOSITION - 特許庁

ＩＴＯ薄膜作製用ターゲットとその製造方法例文帳に追加

ITO THIN FILM MANUFACTURING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

スパッタリングターゲット及び薄膜形成装置部品例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND PART USED IN APPARATUS FOR FORMING THIN FILM - 特許庁

薄膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR FORMING THIN FILM - 特許庁

アルミニウム合金薄膜、ターゲット材及び薄膜形成方法例文帳に追加

ALUMINUM ALLOY THIN FILM, TARGET MATERIAL AND FORMATION OF THIN FILM - 特許庁

金属材料、薄膜形成用スパッタリングターゲット材及び薄膜例文帳に追加

METALLIC MATERIAL, SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR THIN FILM DEPOSITION AND THIN FILM - 特許庁

スパッタ用ターゲット，薄膜形成装置及び薄膜形成方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, THIN-FILM-FORMING APPARATUS AND THIN-FILM-FORMING METHOD - 特許庁

ＺｎＯ：Ａｌターゲットおよび薄膜並びに薄膜の製造方法例文帳に追加

ZnO:Al TARGET, THIN FILM THEREOF, AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM - 特許庁

薄膜形成用Ｉｒスパッタリングターゲット材およびＩｒスパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

Ir SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING Ir SPUTTERING TARGET - 特許庁

ターゲット物質含有液体の製造方法、ターゲット物質を含有する薄膜の形成方法、ターゲット物質含有液体例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING TARGET SUBSTANCE-CONTAINING LIQUID, METHOD OF FORMING TARGET SUBSTANCE-CONTAINING THIN FILM, AND TARGET SUBSTANCE-CONTAINING LIQUID - 特許庁

薄膜形成用のターゲット組立体、蒸着源、薄膜形成装置及び薄膜形成方法例文帳に追加

TARGET ASSEMBLY FOR DEPOSITING THIN FILM, VAPOR DEPOSITION SOURCE, THIN FILM DEPOSITION SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁

薄膜抵抗体、薄膜抵抗体の製造方法および薄膜抵抗体製造用スパッタリングターゲット例文帳に追加

THIN FILM RESISTOR, ITS MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING TARGET FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

ターゲット物質の歩留りを向上させ、無駄なく簡単に薄膜を形成するためのターゲット物質含有液体の製造方法、ターゲット物質を含有する薄膜の形成方法、ターゲット物質含有液体を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a target substance-containing liquid, which improves the yield of a target substance to form a thin film laconically simply, a method of forming the thin film containing the target substance, and a target substance-containing liquid. - 特許庁

Ａｇ合金薄膜電極、有機ＥＬ素子及びスパッタリング用ターゲット例文帳に追加

Ag ALLOY THIN FILM ELECTRODE, ORGANIC EL ELEMENT AND TARGET FOR SPUTTERING - 特許庁

薄膜トランジスター用配線膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR FORMING WIRING FILM FOR THIN-FILM TRANSISTOR - 特許庁

半導体素子のＧｅ−Ｓｉ系薄膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR FORMING THIN Ge-Si FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜及びそれらの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM, AND METHODS FOR MANUFACTURING THESE - 特許庁

Ａｇ合金薄膜及びその成膜用スパッタリングターゲット例文帳に追加

SILVER ALLOY THIN FILM AND SPUTTERING TARGET FOR FILM FORMATION - 特許庁

酸化物半導体、スパッタリングターゲット、及び薄膜トランジスタ例文帳に追加

OXIDE SEMICONDUCTOR, SPUTTERING TARGET, AND THIN-FILM TRANSISTOR - 特許庁

金属抵抗体材料、スパッタリングターゲットおよび抵抗薄膜例文帳に追加

METAL RESISTOR MATERIAL, SPUTTERING TARGET AND RESISTANCE THIN FILM - 特許庁

ＬｉＮｂＯ３ターゲット及びＬｉＮｂＯ３薄膜の形成方法例文帳に追加

LiNbO3 TARGET, AND METHOD FOR DEPOSITING LiNbO3 THIN FILM - 特許庁

酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜例文帳に追加

OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE MEMBRANE - 特許庁

永久磁石薄膜用スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR PERMANENT MAGNET THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

配線膜、薄膜トランジスタ、ターゲット、配線膜の形成方法例文帳に追加

WIRING FILM, THIN FILM TRANSISTOR, TARGET, WIRING FILM FORMATION METHOD - 特許庁

酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット例文帳に追加

TARGET FOR ION PLATING FOR PRODUCING ZINC OXIDE-BASED THIN FILM - 特許庁

スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND THIN FILM FOR OPTICAL INFORMATION-RECORDING MEDIUM - 特許庁

スパッタリングターゲットとそれを用いた薄膜およびデバイス例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, AND THIN FILM AND DEVICE USING THE SAME - 特許庁

軟磁性薄膜を形成するためのＦｅＣｏ系ターゲット材を提供する。例文帳に追加

To provide an FeCo based target material for forming a soft magnetic thin film. - 特許庁

酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜例文帳に追加

OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET AND TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM - 特許庁

透明導電性薄膜作製用スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET FOR PREPARING TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM - 特許庁

多分割スパッタリングターゲットおよび薄膜の製造方法例文帳に追加

MULTI-SEGMENTAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM - 特許庁

酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜例文帳に追加

OXIDE SINTERED COMPACT, SPATTERING TARGET, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM - 特許庁

高純度形状記憶合金ターゲット及び同合金薄膜例文帳に追加

TARGET AND THIN FILM OF HIGH-PURITY SHAPE-MEMORY ALLOY - 特許庁

Ａｇ基合金からなるスパッタリングターゲット材および薄膜例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL AND THIN FILM EACH COMPRISING Ag-BASED ALLOY - 特許庁

薄膜形成用スパッタリングターゲット材及びその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR DEPOSITING THIN FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

ターゲット、配線膜形成方法、薄膜トランジスタの製造方法例文帳に追加

TARGET, WIRING FILM FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR - 特許庁

酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜例文帳に追加

OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET, AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM - 特許庁

酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜例文帳に追加

OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET AND TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE THIN FILM - 特許庁

この薄膜と同じ合金組成を有するスパッタリング用ターゲット。例文帳に追加

The target for sputtering has an alloy composition same as that of the thin film. - 特許庁

高純度形状記憶合金ターゲット及び同合金薄膜例文帳に追加

HIGH-PURITY SHAPE-MEMORY ALLOY TARGET AND HIGH-PURITY SHAPE-MEMORY ALLOY THIN-FILM - 特許庁