「薄膜ターゲット」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

薄膜化に対応できる高強度、高硬度の炭素保護膜を形成するためのガラス状炭素製スパッタリングターゲット材を提供する。例文帳に追加

To produce a sputtering target material made of glassy carbon for depositing a carbon protective film having high strength and high hardness and capable of corresponding to film-thinning. - 特許庁

スパッタリング用ターゲットおよびそれを用いて形成した誘電体光学薄膜並びにその製造方法例文帳に追加

TARGET FOR SPUTTERING AND THIN DIELECTRIC OPTICAL FILM FORMED BY USING THE SAME, AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

高純度金属、高純度金属からなるスパッタリングターゲット及びスパッタリングにより形成した薄膜並びに高純度金属の製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY METAL, SPUTTERING TARGET CONSISTING OF HIGH PURITY METAL, THIN FILM FORMED BY SPUTTERING, AND METHOD FOR MANUFACTURING HIGH PURITY METAL - 特許庁

特に膜厚が均一である銀合金薄膜をスパッタリング法で形成するのに有用なターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a target useful to form a silver alloy thin film having especially uniform film thickness with a spattering method. - 特許庁

Ａｇ−Ｂｉ系合金スパッタリングターゲットを使用して形成される薄膜中のＢｉ量の歩留まりの著しい低下を抑制する。例文帳に追加

To inhibit the remarkable lowering of the yield factor of a Bi amount in a thin film formed with the use of an Ag-Bi alloy sputtering target. - 特許庁

均一な面内膜厚を有した薄膜を堆積させるとともに、使用効率の良いスパッタができるスパッタリング用ターゲットを提供すること。例文帳に追加

To provide a sputtering target that deposits a thin film with an uniformed in-plane film thickness and also performs a sputtering with good use efficiency. - 特許庁

焼結体ターゲット，それを利用した誘電体薄膜及びその製造方法，それを利用した電子部品例文帳に追加

SINTERED COMPACT TARGET, DIELECTRIC THIN FILM USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME - 特許庁

耐熱性電極、耐熱性電極用ターゲット、耐熱性電極の製造方法、およびこれを用いた薄膜ＥＬ素子例文帳に追加

HEAT-RESISTANT ELECTRODE, TARGET FOR HEAT-RESISTANT ELECTRODE, METHOD FOR MANUFACTURING HEAT-RESISTANT ELECTRODE, AND THIN FILM EL ELEMENT USING THE SAME - 特許庁

強誘電体薄膜形成用の焼結体、その製造方法及びそれを用いたスパッタリングターゲット例文帳に追加

SINTERED COMPACT FOR FORMING FERROELECTRIC THIN FILM, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME - 特許庁

酸化インジウム亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化インジウム亜鉛系薄膜例文帳に追加

INDIUM-ZINC-OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND INDIUM-ZINC-OXIDE-BASED THIN FILM - 特許庁

パーティクルの発生が少なくかつ高強度な誘電体薄膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET FOR DIELECTRIC THIN FILM DEPOSITION SMALL IN GENERATION OF PARTICLE AND HAVING HIGH STRENGTH - 特許庁

透明導電性薄膜、その製造方法と製造用焼結体ターゲット、及び有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法例文帳に追加

TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SINTERING BODY TARGET FOR MANUFACTURING THE SAME, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND ITS MANUFACTURING PROCESS - 特許庁

スパッタリング処理で形成された薄膜の欠陥を減少させることのできるスパッタ・ターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target capable of reducing the defects of a thin film formed by sputtering treatment. - 特許庁

或いは上記錯体を含む粉末をタブレット状に成形したターゲット材を用いて金属酸化物薄膜を形成する。例文帳に追加

The metal oxide thin film is formed by applying a laser deposition method to a target material formed from the powder containing the complex in a tablet-like shape. - 特許庁

次に、スパッタマシンのターゲットをステンレスに交換し、スパッタリングにより、薄膜発熱層９を形成した。例文帳に追加

Target of the sputtering machine is changed to stainless steel, and a thin film heating layer 9 is formed by sputtering. - 特許庁

該薄膜層（膜厚１００〜１５００Å程度）は酸化ケイ素（例えば二酸化ケイ素）をターゲットとしてスパッタリング法にて好ましく形成される。例文帳に追加

The membrane layer (thickness: about 100-1,500 Å) is preferably formed by a sputtering method using silicon oxide (e.g.; silicon dioxide) as a target. - 特許庁

スパッタリング方法を用いて基板に薄膜を形成するにあたり、ターゲット材料を損なうことなく、基板上に安定して被膜を形成する。例文帳に追加

To stably deposit a thin film on a substrate by a sputtering process without damaging a target material. - 特許庁

その結果、ウェハー８の表面には、均一な膜厚で、ターゲット材料による薄膜が形成される。例文帳に追加

As a result, a thin film of a target material with uniform film thickness is formed on the surface of the wafer 8. - 特許庁

酸化インジウム亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化インジウム亜鉛系薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide an indium-zinc-oxide-based sputtering target; a manufacturing method therefor; and an indium-zinc-oxide-based thin film. - 特許庁

配線形成用Ｍｏ−Ｗターゲットとそれを用いたＭｏ−Ｗ配線薄膜および液晶表示装置例文帳に追加

Mo-W TARGET FOR FORMING WIRING, Mo-W WIRING THIN FILM USING THE SAME, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY DEVICE - 特許庁

基板に対して小さな表面積を有したターゲットを用いて、当該基板上に均一な膜厚、膜質の分布を示す薄膜を形成する。例文帳に追加

To form a thin film exhibiting uniform film thickness and uniform distribution of film quality on a substrate by using a target with a small surface area relative to the substrate. - 特許庁

基板１１を複数の複合ターゲット２１，２２，２３の前を移動させることにより基板１１上に薄膜の積層体が成膜される。例文帳に追加

The substrate 11 is moved in front of the plurality of composite targets 21, 22, and 23 to deposit the laminate of thin films on the substrate 11. - 特許庁

本発明は、ノジュールに起因する薄膜の欠陥を減少させることができるスパッタリングターゲットを提供することを主目的とするものである。例文帳に追加

To provide a sputtering target by which the defects of a thin film caused by nodules can be reduced. - 特許庁

酸化物薄膜の作製に使用するターゲット等として好適に利用できる、新規な結晶型を有する酸化物を提供する。例文帳に追加

To provide an oxide having a new crystal form which can be utilized suitably as a target or the like used for production of an oxide thin film. - 特許庁

長期に渡る成膜を行った際に、得られる薄膜の特性の安定性に優れたスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target which has excellent stability in the characteristics of the obtained thin film when film deposition is performed over a long term. - 特許庁

基板の表面の薄膜を分離して、ターゲット基板上に薄層を移設する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for separating a thin membrane of a surface of a substrate so as to relocate the thin layer onto a target substrate. - 特許庁

透明なＴｉＯ_２薄膜を高速で蒸着できるＤＣスパッタ蒸着ターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a target for DC sputter deposition by which a transparent TiO_2 thin film can be vapor-deposited at high speed. - 特許庁

基板１０に薄膜を成膜するスパッタ装置において、ターゲット５に基板１０を対向させて走査しながらスキャン成膜する。例文帳に追加

In the sputtering system for depositing a thin film on a substrate 10, while allowing a target 5 to be confronted with the substrate 10 and performing scanning, scan film deposition is carried out. - 特許庁

Ｍｏ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたＣＩＧＳ系薄膜太陽電池例文帳に追加

MO-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CIGS-BASED THIN-FILM SOLAR CELL USING THE SAME - 特許庁

厚膜部１０３ａは、ターゲット領域Ｓ_１の側に形成され、薄膜部１０３ｂは、禁止領域Ｓ_２の側に形成される。例文帳に追加

The thick-film section 103a is formed at the side of a target region S_1, and the thin-film section 103b is formed at the side of a prohibited area S_2. - 特許庁

これにより、Ｏ_2ガスの導入や基板加熱を必要とすることなく、より簡単にターゲット材と同一組成の薄膜を得ることが可能となる。例文帳に追加

In this way, the thin film having a compsn. same as that of the target material can more easily be obtd. without requiring the introduction of geseous O2 or heating of the substrate. - 特許庁

薄膜として蒸着するソース材料（１４、２４）でターゲットベースシェル（１２、２２）を熱噴射技術によってコーティングする。例文帳に追加

A target base shell (12, 22) is coated by a thermal spraying technique with a source material (14, 24) to be vapor-deposited as thin film. - 特許庁

高移動度の薄膜トランジスタ、その製造方法及びその製造に用いるスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a thin film transistor having high mobility, a method for manufacturing the thin film transistor, and a sputtering target used for manufacturing the thin film transistor. - 特許庁

低抵抗の薄膜の形成が安定して可能な酸化亜鉛系焼結ターゲットおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a zinc oxide-based sintered target which can stably form a thin film with low resistance, and to provide a method for producing the same. - 特許庁

ターゲット材としての歩留まりが高く、かつ反強磁性薄膜形成用として最適な高純度Ｍｎ材料を得る製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a manufacturing method by which a high-purity Mn material having high yield as a target material and most suitably used for antiferromagnetic thin film deposition can be obtained. - 特許庁

ターゲット１１Ａ，１１Ｂの各バイアス電位を制御することにより、薄膜の組成比を容易にかつ精度良く制御することが可能となる。例文帳に追加

It becomes possible to easily control the compositional ratio of the thin film with good accuracy by controlling respective bias potentials of the targets 11A, 11B. - 特許庁

軟磁性薄膜を形成するためのＦｅＣｏＢ系スパッタリングターゲット材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a FeCoB-based sputtering target material for depositing a soft magnetic thin film. - 特許庁

ターゲット１０は、両主面が略平坦である薄膜からなるものの、一方の主面に突起構造１１を有している。例文帳に追加

The target 10 is made of a thin film having two primary faces which are approximately flat, although one of the primary faces has a protrusion structure 11. - 特許庁

安定した薄膜の製造を行うことができるＴａ系ターゲットおよびその製造方法を提案する。例文帳に追加

To produce a Ta target capable of stably executing the production of a tin film and to provide a method for producing it. - 特許庁

対向ターゲット式スパッタ装置を用いて能率良く薄膜を形成できるスパッタ成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a film-forming method by sputtering, which can efficiently form the thin film with the use of a facing-target type sputtering apparatus. - 特許庁

ターゲットの製造コストを低減させることにより、薄膜の製造コストを低減させることのできる方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a method capable of lowering the production cost of a thin film by lowering the production cost of a target. - 特許庁

本発明は、軟磁性薄膜を形成するためのＦｅ−Ｃｏ系またはＦｅ−Ｎｉ系ターゲット材を提供する。例文帳に追加

To provide an Fe-Co-based or Fe-Ni-based target material for forming a soft magnetic thin film. - 特許庁

磁気記録媒体における下地膜製造用Ｃｒ−Ｍｎ−Ｂ系スパッタリングターゲット材およびこれを用いて製造した薄膜例文帳に追加

Cr-Mn-B-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR PRODUCING SUBSTRATE FILM IN MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND THIN FILM PRODUCED USING THE SAME - 特許庁

本発明のターゲットは交換が必要となる前に延長された期間スパッタ出来、それにより付着による薄膜形成の生産性を増大する。例文帳に追加

This target can be sputtered over a prolonged period before the exchange is made needed, and thereby, increases the productivity of thin film formation by deposition. - 特許庁

低融点金属酸化物を含むＣｏ系磁性薄膜作製用高密度ターゲット材およびその製造方法例文帳に追加

HIGH DENSITY TARGET MATERIAL FOR PRODUCING Co BASED MAGNETIC THIN FILM COMPRISING LOW MELTING POINT METAL OXIDE, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁