「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure system performs exposure to a substrate using exposure light through liquid. - 特許庁

露光装置は、極端紫外域の露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure apparatus exposes the substrate with exposure light in an extreme ultraviolet range. - 特許庁

露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The lithography apparatus exposes a substrate by exposure light through a first liquid. - 特許庁

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

This exposure apparatus exposes a substrate with exposure light through liquid. - 特許庁

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure device exposures a substrate by exposure light via liquid. - 特許庁

露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The aligner exposes a substrate to exposure light via a first liquid. - 特許庁

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure device exposes a substrate to exposure light through liquid. - 特許庁

露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure device exposes a substrate to exposure light through first liquid. - 特許庁

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The stepper exposes the substrate to exposure light via a liquid. - 特許庁

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure device exposes a substrate with exposure light through a liquid. - 特許庁

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposing apparatus exposes a substrate by an exposure light by mans of a liquid. - 特許庁

露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The aligner exposes a substrate to exposure light through first liquid. - 特許庁

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure apparatus exposes a substrate to exposing light through a liquid. - 特許庁

液浸システムは、露光光で基板を露光する液浸露光に用いられる。例文帳に追加

This liquid immersion system is used for liquid immersion exposure exposing a substrate with exposure light. - 特許庁

露光装置は、マスクを露光光で照明して、マスクからの露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure apparatus illuminates a mask with exposure light to expose a substrate to the exposure light from the mask. - 特許庁

複数の露光領域への露光に際して、露光装置の露光精度を簡単に評価すること。例文帳に追加

To easily evaluate the exposure precision of a lithography when exposing a plurality of exposure regions to light. - 特許庁

露光装置ＥＸは、露光用液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する。例文帳に追加

The exposure device EX exposes a substrate P to an exposure light EL through a liquid for exposure LQ. - 特許庁

半導体ウエハを必要露光量の１／Ｎで露光する。例文帳に追加

A semiconductor wafer is exposed by 1/N of a required light exposure. - 特許庁

露光工程では、半導体ウェハを露光する。例文帳に追加

In the exposure process, the semiconductor wafer is exposed. - 特許庁

露光ユニットが配置される露光チャンバを小型化する。例文帳に追加

To downsize an exposure chamber in which an exposure unit is located. - 特許庁

液浸露光における露光不良の発生を抑制する。例文帳に追加

To minimize occurrence of poor exposure in liquid immersion exposure. - 特許庁

露光装置の露光性能を劣化させることなく、露光装置の構成部材を洗浄して露光を開始することができる露光装置を供給すること例文帳に追加

To provide an exposure device capable of cleaning a configuration member of an exposure device and starting exposure without deteriorating the exposure performance of the exposure device. - 特許庁

アンダー露光もしくはオーバー露光が適正露光である感光材料を走査露光する場合の露光管理用画像データを提供する。例文帳に追加

To provide exposure controlling image data in the case of exposing and scanning photosensitive material for which appropriate exposure is underexposure or overexposure. - 特許庁

すなわち、露光済画素数や露光時間や露光率（露光画素数の比率または露光時間の比率）と、露光済画素から注目画素までの距離（画素数）または露光経過時間とに応じて、露光エネルギーを調整する。例文帳に追加

That is, the exposure energy is adjusted according to the number of the exposed pixels, exposure time and an exposure rate (rate of the number of exposed pixels or rate of the exposure time) and a distance (number of pixels) from the exposed pixel to the target pixel or an elapsed time of exposure. - 特許庁

高価な投影露光方式の露光機を使用せずに安価な近接露光方式の露光機を使用して露光パターンの高解像度化を容易に実現する。例文帳に追加

To easily obtain higher resolution of an exposure pattern with an inexpensive proximity exposure type aligner without using an expensive projection exposure type aligner. - 特許庁

露光回数に応じて露光量差が求められ、各露光時の露光量に応じて露光条件が決定する。例文帳に追加

An exposure difference is obtained in response to the number of exposure times, and an exposure condition is determined in response to the exposure amount at each exposure. - 特許庁

そして、この計算結果を基に、使用する露光装置１４１，１４２の露光条件を露光条件算出手段で算出し、露光装置１４１，１４２がこの露光条件で露光層を露光するようにする。例文帳に追加

Exposure conditions of the aligners 141 and 142 to be used are calculated by an exposure condition calculation means on the basis of the calculated result, and the aligners 141 and 142 expose an exposure layer according to the exposure conditions. - 特許庁

液体を介して露光するときの露光精度を所望状態に維持できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of keeping its exposure accuracy in a desirable state when performing its exposure via a liquid. - 特許庁

任意な繰り返しパターンを露光することができる露光装置および露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus and an exposure method capable of carrying out exposure of any repeated patterns. - 特許庁

液浸法に基づいて基板を露光する際、基板を良好に露光できる露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method capable of exposing a substrate well when a substrate is exposed based on liquid immersion method. - 特許庁

被露光媒体を冷却しながら露光することができる、露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of exposing a medium to be exposed while cooling the medium. - 特許庁

正確に露光量を管理することのできる露光装置および露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for exposure, capable of accurately managing the exposure amount. - 特許庁

基板を良好に露光することができる露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device and an exposure method capable of sufficiently exposing a substrate. - 特許庁

所望の露光位置に正確に露光することが可能な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of performing exposure precisely at a desired exposure position. - 特許庁

光学素子のコンタミネーションを抑制して被露光体を効率よく露光する露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that controls contamination of optical elements, thus efficiently exposing an exposed object. - 特許庁

液浸法に基づいて基板を露光する際、基板を良好に露光できる露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method exposing a substrate well in exposing the substrate on the basis of a liquid immersion method. - 特許庁

露光ユニットにおいて露光が継続する印画紙をチャッカーで搬送する場合に適正な露光を維持する露光搬送装置を構成する。例文帳に追加

To provide an exposure/transporting apparatus capable of maintaining optimum exposure in transporting a printing paper which is continuously exposed by an exposure unit by a chucker. - 特許庁

配管及びそれを有する露光装置例文帳に追加

PIPING AND EXPOSING DEVICE HAVING IT - 特許庁

また、副走査線方向に連続するドット画像を露光する場合は、孤立１ドット画像を露光するときの露光時間よりも露光時間を短くする。例文帳に追加

Exposure time is shortened compared with that when exposing an isolated one-dot image, when exposing dot images consecutive along a sub-scanning line direction. - 特許庁

レチクル２は、露光光を透過する。例文帳に追加

The reticle 2 transmits the exposure light. - 特許庁

露光ヘッドカバーを有するプリンタ例文帳に追加

PRINTER HAVING EXPOSURE HEAD COVER - 特許庁

露光ユニットにおいて露光が継続する印画紙をチャッカーで搬送する場合に適正な露光を維持する露光搬送装置を構成する。例文帳に追加

To maintain stable exposure when photographic paper to which exposure is continued by an exposure unit is conveyed by a chuck. - 特許庁

パネルの面を露光するための装置例文帳に追加

DEVICE FOR EXPOSING PANEL SURFACE - 特許庁

次に、第２の層１０３を露光する。例文帳に追加

Next, the second layer 103 is exposed. - 特許庁

露光されたレジスト膜を現像する。例文帳に追加

The exposed resist film is developed. - 特許庁