「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

二光束干渉露光と通常露光など、方式の異なる複数の露光を短時間で実行可能にする。例文帳に追加

To perform a plurality of exposures, having different methods such as two-light flux interference exposure, ordinary exposure, etc. - 特許庁

露光装置は、露光光を出射する露光光源と、非対称入射光学素子１５と、駆動手段１６とを備えている。例文帳に追加

The exposure device has an exposure light source which projects exposure light, an asymmetric incidence optical element 15 and a driving means 16. - 特許庁

基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that can appropriately shield a non-exposure area from light when pattern exposure is carried out by relatively moving a substrate and a mask. - 特許庁

円周面において焦点ぼけの発生を抑えて露光が可能な露光方法及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method and an exposure apparatus with which exposure of a circumference face is made possible while suppressing the occurrence of a defocusing state. - 特許庁

レジスト層に応じた露光が可能で、しかも、製品寿命の長い露光用光源ならびにこれを用いた露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light source for exposure which achieves exposure according to a resist layer and has a long product lifetime, and to provide an exposure apparatus that uses the same. - 特許庁

露光光の光路空間に満たされた液体の流出を抑え、露光精度及び計測精度を維持できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure system capable of maintaining exposure accuracy and measurement accuracy by preventing a liquid filled in an optical path space of an exposure light from flowing out. - 特許庁

補正露光量やショット領域の位置ずれ補正値を簡単に求めることが可能な露光システム及び露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a system and a method for exposure that can easily find a correction exposure quantity and a position shift correction value for a shot region. - 特許庁

液浸露光用の基板は、基板保持部に保持される裏面と、基板保持部に保持された状態で露光光で露光される表面とを有する。例文帳に追加

The substrate for liquid immersion lithography includes: a backside held by the substrate holding section; and a front side exposed to exposure light while being held by the substrate holding section. - 特許庁

固体光源を備えた照明光源装置、露光装置及びこの露光装置を用いた露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an illumination light source comprising a solid light source, an exposure device, and an exposure method employing it. - 特許庁

露光不良を抑制できるマスク、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a mask capable of suppressing an exposure defect, a stage device, an aligner, an exposure method, and a device manufacturing method. - 特許庁

露光に許容される焦点深度を確保しつつ露光面上での集光スポットの光量変動を抑制することのできる露光装置を得る。例文帳に追加

To provide an exposure device which can suppress a quantity of light variation of a condensing spot on an exposure face while a focal depth allowed for exposure is secured. - 特許庁

非常に微細な回路パターンであっても、正確な露光が可能な露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner and exposure method for operating exact exposures, even if a circuit pattern is extremely fine. - 特許庁

パルス光源を用いて露光を行う場合の露光量制御精度を向上できる露光量制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for controlling the exposure for improving exposure control accuracy at exposing by using a pulse light source. - 特許庁

露光光量が十分に取れ、短時間でパターン形成が可能な露光フィルター、パターン形成方法および露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposing filter, a pattern forming method and an aligner in which a sufficient quantity of exposing light is ensured and a pattern can be formed in a short time. - 特許庁

露光装置は、露光ビームでパターンを照明し、パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する。例文帳に追加

This exposure apparatus exposes a substrate by illuminating a pattern with an exposure beam and transferring an image of the pattern through a liquid onto the substrate. - 特許庁

密着式露光機を用いて実質的にプロキシミティー露光を行うことの可能な回路基板の露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method for a circuit board such that a proximity exposure can be substantially performed by using a contact type exposure machine. - 特許庁

熱ダメージが小さく、ラジカル濃度が低く、更に露光時間の短い露光方法および露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus of exposure which has small heat damage, low radical concentration, and further short exposure time. - 特許庁

プリント配線板のパターン形成用樹脂の露光に用いる露光マスク２を，露光時に保持するマスクホルダー１。例文帳に追加

This mask holder 1 holds the aligning mask 2 used for the alignment of the pattern forming resin of a printed wiring board at an aligning time. - 特許庁

クロム膜２３を形成する際に、露光工程において基板本体１１ａを露光領域１１Ｃ、１１Ｄに分割し、分割露光を行う。例文帳に追加

When a chrome film 23 is formed, the board main body 11a is divided into exposure regions 11C and 11D during an exposure process for split exposure. - 特許庁

この露光ではＡｌ膜１４からの反射による異常露光量が著しく小さいので、異常露光が発生することが回避されている。例文帳に追加

Since an abnormal exposure amount by reflection from the Al film 14 is extremely small in this exposure, abnormal exposure can be avoided. - 特許庁

露光中に、投影露光系を含めて概ね全光学系の透過率変化を測定し、積算露光量をより正確に制御する。例文帳に追加

To measure a transmittance change in nearly all optical systems including a projection exposure system in an exposure process so as to control cumulated exposure more accurately. - 特許庁

既存の露光装置の解像限界を越えた解像力を既存の露光装置製造技術で製造した露光装置により達成する。例文帳に追加

To achieve resolution exceeding the resolution limit of existing aligners by means of an aligner, manufactured through the existing aligner manufacturing technique. - 特許庁

露光装置の性能の低下、稼動率の低下を抑制して、基板を良好に露光できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of excellently exposing a substrate while suppressing a decrease in performance of the exposure apparatus and a decrease in availability. - 特許庁

露光用パターンの寸法変動が少ない露光用マスクであって、低コストで製造可能な露光用マスクを提供する。例文帳に追加

To provide a mask for exposure which ensures a slight dimensional fluctuation of a pattern for exposure and can be produced at a low cost. - 特許庁

空間光変調素子の変調速度を速くして、高速露光が可能な露光ヘッド及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure head and an exposure device in which high speed exposure can be ensured by increasing the modulation rate of a spatial light modulation element. - 特許庁

露光制御部１０５では、ガマットカバー率が最大となる露光エネルギーを決定し、露光器３０に送信する。例文帳に追加

In an exposure control unit 105, the exposure energy to reach the maximum gamut cover rate is decided and transmitted to an exposure device 30. - 特許庁

実施形態は、露光位置を正確に決めることが可能な投影露光装置および投影露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a projection exposure device capable of accurately determining an exposure position, and further to provide a projection exposure method. - 特許庁

同様にして、露光ユニット１８の移動と露光とを繰り返すことにより、粉末体１２の表面全体を露光する。例文帳に追加

In the same way, the movement and exposure of the exposure unit 18 are repeated to expose the whole surface of the powder body 12. - 特許庁

被露光基板上に結像される光の見かけの焦点深度が拡大された露光装置およびこれを用いた露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner with an expanded apparent depth of focus of an image on a substrate, and its exposing method. - 特許庁

露光モードへの移行から少ないタイムラグまたはタイムラグなしで露光を開始する撮像装置および露光方法の提供。例文帳に追加

To provide an imaging apparatus and an exposing method which start exposure with a small time lag or no time lag after an exposure mode is entered. - 特許庁

パターン露光装置は、受信した膜厚に応じてパターン露光処理における露光量を決定する（ステップＳ２０２）。例文帳に追加

The pattern exposure system decides the luminous exposure for pattern exposure in accordance with the received thickness of the resist film (step S202). - 特許庁

あるいは、サブ・フィールド毎に露光量値やフォーカス位置の情報を露光データとして持ち、それに基づいて露光する。例文帳に追加

Or each of the subfields has information about beam exposure quantity or focus position, and the beam exposure is carried out based on the information. - 特許庁

面倒な調整や制御を行わずに同一の露光条件で基板の表裏を露光できる両面露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a double-sided exposure apparatus capable of exposing both of top and back faces of a substrate under the same exposure conditions without requiring complicated adjustment or control. - 特許庁

長時間露光の撮影に必要な時間を、単純計算で第１の露光時間（Ｔ１）と第２の露光時間（Ｔａ）との合計とすることができる。例文帳に追加

The time required for long-time exposure photographing may be simply calculated as a total of the first exposure time (T1) and the second exposure time (Ta). - 特許庁

（手順４）求められた露光量およびＰＥＣパラメータを用いて化学増幅型レジストを露光する露光工程である。例文帳に追加

A procedure 4 is an exposure step of using the found exposure amount and PEC parameter for exposing the chemically amplified resist. - 特許庁

露光動作制御器５０は、露光装置精度判定機４０からの制御信号に基づいて露光装置１０の動作を制御する。例文帳に追加

The exposure operation controller 50 controls the operation of the exposure device 10 based on the control signal from the exposure device precision judging machine 40. - 特許庁

露光装置１４は、被露光物に露光すべき配線パターンのガーバーデータ３６をＣＡＤ／ＣＡＭシステム１２から入力する。例文帳に追加

This exposure apparatus 14 receives Gerber data 36 of a wiring pattern to be transferred by exposure onto an exposure object from a CAD/CAM system 12. - 特許庁

ライン状（縞模様等）の露光パターンを適切かつ迅速に露光可能とし、構成を簡素化して廉価な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive exposure device which appropriately and quickly exposes a line-shaped (stripe pattern, etc.), exposure pattern and has a simplified configuration. - 特許庁

２つの分割露光領域が重なる部分は、露光誤差を考慮して二重露光される部分を有する。例文帳に追加

The part where two division exposure regions are overlapped includes a part subjected to double exposure by considering the exposure error. - 特許庁

露光パラメータの決定方法、露光パラメータを決定するためのプログラム、露光方法及びデバイス製造方法例文帳に追加

METHOD OF DETERMINING EXPOSURE PARAMETER, PROGRAM FOR DETERMINING EXPOSURE PARAMETER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

露光光源１の露光光は、引き回し光学系２、照明光学系３ａ〜３ｄ、投影光学系４を経てウエハＷを露光する。例文帳に追加

A wafer W is exposed to the light from an exposure light source 1 through an arranged optical system 2, lighting optical systems 3a to 3d, and the projection optical system 4. - 特許庁

良好な露光精度が得られると共にタクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure unit able to obtain satisfactorily exposure accuracy and also shorten tact time, and an exposure method using the same. - 特許庁

露光開始位置の近傍における露光ムラの発生を防止できる表示パネル用の基板およびこの基板への露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate for a display panel, in which occurrence of uneven exposure in the vicinity of an exposure starting position is prevented, and an exposing method for the substrate. - 特許庁

露光装置は、露光ヘッドから射出される光ビームにより記録媒体を走査露光して、記録媒体の表面に画像を彫刻する。例文帳に追加

The exposure apparatus carries out the scanning exposure of a recording medium with optical beams emitted from an exposure head to engrave an image on the surface of the recording medium. - 特許庁

露光装置の大型化を抑制し、荷電粒子線を用いてマスクレス露光方式で効率的にターゲットを露光する。例文帳に追加

To expose a target efficiently by a maskless exposure system using a charged particle beam while suppressing increase in the size of an exposure device. - 特許庁