「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

情報データを適宜変更しながら回路パターンも露光できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of performing exposure of a circuit pattern while changing information data as appropriate. - 特許庁

従来ＤＰ露光が不可能であった条件下であってもＤＰ露光を可能にする。例文帳に追加

To enable DP exposure even under conditions under which DP exposure is conventionally impossible. - 特許庁

露光装置において、マスクとガラス基板との間の位置合わせ精度を露光時まで維持できるようにする。例文帳に追加

To maintain the alignment accuracy between a mask and a glass substrate of an exposure device until exposure. - 特許庁

露光装置ＥＸは、露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を備えている。例文帳に追加

The exposure device EX comprises a liquid immersion member 6 in contact with exposure liquid LQ1. - 特許庁

液体ＬＷを介して基板４０を露光する露光装置は、ステージを備える。例文帳に追加

The exposure apparatus for exposing a substrate 40 through liquid LW includes a stage. - 特許庁

近接場露光用マスクの支持固定構造、該支持固定構造を有する近接場露光装置例文帳に追加

SUPPORTING/FIXING STRUCTURE OF MASK FOR PROXIMITY FIELD EXPOSURE, AND PROXIMITY FIELD ALIGNER HAVING THE SAME - 特許庁

露光パラメータ及びレチクルパターンを決定する決定方法、露光方法及びデバイス製造方法。例文帳に追加

DETERMINING METHOD OF DETERMINING EXPOSURE PARAMETER AND RETICLE PATTERN, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

本発明は、マスクに形成されたパターンを介して基板を露光する露光装置である。例文帳に追加

The present invention relates to an exposure apparatus which exposures a substrate through a pattern formed on a mask. - 特許庁

また露光量算出手段が、マイクロローディング効果小区画ごとに露光量を算出する。例文帳に追加

Further, an exposure amount calculating means calculates the exposure amount for each micro loading effect block. - 特許庁

露光精度の向上を図ることができるＥＵＶ露光用ステンシルマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a stencil mask for EUV exposure which can improve exposure accuracy. - 特許庁

露光方法、露光装置、複数の基板上にレジストを塗布する装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE FOR APPLYING RESIST TO PLURAL SUBSTRATES, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

気泡の混入を防止して高品位な液浸露光を行うための露光方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and equipment performing high quality liquid immersion exposure by preventing mixture of a bubble. - 特許庁

露光装置の検査方法、焦点位置を補正する露光方法、および半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD OF INSPECTION ALIGNER, EXPOSURE METHOD FOR CORRECTING FOCUS POSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

発泡レジストを容易にしかも確実に回収できる露光装置及び露光方法とする。例文帳に追加

To provide exposure equipment and an exposure method by which a foaming resist is easily and securely recovered. - 特許庁

液体を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method properly performing exposure processing while maintaining a liquid in a desired state. - 特許庁

液体を介した露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that excellently performs exposure processing and measurement processing through liquid. - 特許庁

照度維持率の低下を抑制した露光装置及び露光装置の点灯方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus and a method for lighting an exposure apparatus, for suppressing decrease in an illuminance retention rate. - 特許庁

露光装置は、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する。例文帳に追加

An exposure apparatus exposes a substrate to an energy beam through a projection optical system and liquid. - 特許庁

予備露光工程では、記録領域を周状に取り囲む外部領域を露光する。例文帳に追加

In the preliminary exposure step, an outer area peripherally enclosing the recording area is exposed. - 特許庁

これにより、液浸法に基づいて基板を露光する際、基板を良好に露光できる。例文帳に追加

Consequently, the substrate can be exposed well when the substrate is exposed based on liquid immersion method. - 特許庁

対象ワーク２３上に所定のマスク１８ａパターンを露光する露光装置１０である。例文帳に追加

An exposure device 10 exposes a pattern of a predetermined mask 18a on a target work 23. - 特許庁

液浸領域を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of achieving satisfactory exposure processing with a liquid immersion region maintained in a desired state. - 特許庁

そして、露光シーケンス判定部は、検出した露光シーケンス期間を示すタイミング情報を生成する。例文帳に追加

Then, the exposure sequence determination part produces timing information showing the detected exposure sequence period. - 特許庁

情報受信部は、カメラから露光シーケンスの終了時点を示す非露光情報を受信する。例文帳に追加

The information receiving part receives non-exposure information showing the completion time point of an exposure sequence from the camera. - 特許庁

露光位置をアナログ的に制御して露光パターンの位置決め精度を向上する。例文帳に追加

To improve positioning accuracy of an exposure pattern by controlling an exposure position in an analog manner. - 特許庁

露光光の光路空間に満たされた液体の漏出を防止できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of preventing leakage of liquid filled in an optical path space of exposure light. - 特許庁

基板上の正確な露光位置を容易に計測できる露光位置計測方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for calculating an exposure position, by which method the accurate exposure position on a substrate can be readily calculated. - 特許庁

本発明はウェーハの露光エネルギー情報を利用した露光用マスクの管理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a management method of an exposure mask which uses exposure energy information of a wafer. - 特許庁

露光装置は、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に露光する。例文帳に追加

The exposure apparatus aims to expose a photosensitive substrate through a mask pattern by means of a projection optical system. - 特許庁

露光精度の確保が可能な露光装置及びデバイス製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure system capable of ensuring exposure precision and a device manufacturing method. - 特許庁

電子線露光において露光時間を短縮し、生産性を上げ、パターン形成のコストを削減する。例文帳に追加

To shorten an exposure time, increase productivity, and decrease a cost for forming a pattern in an electron beam exposure. - 特許庁

露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method capable of preventing deterioration of exposure accuracy and measurement accuracy. - 特許庁

露光光の高NA化に有利な光検知センサを備える露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposing device including an optical detection sensor which is advantageous to high NA in exposure light. - 特許庁

露光の際にパターン形状のばらつきを押さえ込むような露光方式を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure system to suppress variance in pattern forms during exposure. - 特許庁

基板上の露光領域の位置に関して他の基板に倣うことが可能な露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method for determining the position of an exposure region on a substrate by copying another substrate. - 特許庁

シャッタ１４は、露光処理が開始されると開かれ、露光処理が終了すると閉じられる。例文帳に追加

The shutter 14 is opened when exposure processing is started, and is closed when exposure processing is ended. - 特許庁

露光装置は、投影光学系ＰＬと液体とを介して基板Ｐを露光する。例文帳に追加

The aligner exposes a substrate P via a projection optical system PL and liquid. - 特許庁

フレアの影響を考慮して露光精度を向上させる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that improves exposure accuracy in consideration of the influence of flare. - 特許庁

マスクの露光パターンが転写された露光済みの基板ＷＳを、再度、基板ステージで保持する。例文帳に追加

An exposed substrate WS on which the exposure pattern of a mask is transferred is held again on a substrate stage. - 特許庁

ビーム源（７）が、露光マスクを介してウエハに露光用のエネルギビームを照射する。例文帳に追加

A beam source (7) irradiates the wafer with an energy beam for exposure through the exposure mask. - 特許庁

適切に調整された露光系によって露光を行うことが可能な画像記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image recorder capable of performing exposure by an appropriately adjusted exposure system. - 特許庁

フライアイミラー、それを有するＸ線露光装置及びＸ線露光方法例文帳に追加

FLY-EYE MIRROR, AND X-RAY EXPOSURE DEVICE THEREWITH AND X-RAY EXPOSURE METHOD - 特許庁

露光期間判定部は、露光期間を、予め定められた閾値によって判定する。例文帳に追加

The exposure period deciding part decides the exposure period by a predetermined threshold. - 特許庁

これにより、露光中の発熱を抑制することができ、露光精度の向上を図ることが可能となる。例文帳に追加

Consequently, heat generation during the exposure is suppressed to improve exposure precision. - 特許庁

通信手段１１３は、露光制御値を撮像手段１１の露光制御手段１２へ送信する。例文帳に追加

Communication means 113 transmits the exposure control value to exposure control means 12 of the imaging means 11. - 特許庁