「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

面付け用のカラーフィルタパターンを感光層が形成された処理基板にパターン露光するインラインの露光装置において、１台の露光ラインで効率良く異種のカラーフィルタパターンを露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an exposure device for exposing efficiently different kinds of color filter patterns with one exposure line, in the exposure device for pattern-exposing the color filter patterns for imposition on a treated substrate formed with a photosensitive layer, and to provide an exposure method for the different kinds of patterns. - 特許庁

露光装置を小型化することができるようにする。例文帳に追加

To miniaturize an exposure apparatus. - 特許庁

デフォーカスに起因する露光不良の発生を防止する。例文帳に追加

To prevent generation of defective exposures caused by defocusing. - 特許庁

ΔＤ＜Ｄ２であれば、露光する旨決定する。例文帳に追加

If ΔD<D2, to proceed exposure is decided. - 特許庁

露光装置内でウエハを位置決めする装置を提供する。例文帳に追加

To provide equipment for positioning a wafer inside an exposure device. - 特許庁

多重露光に要する時間を短くする。例文帳に追加

To shorten the time required for double exposure. - 特許庁

これにより露光光でフォトレジストを所望のパターンで露光しつつ、露光した領域を赤外線ヒーター１３で加熱することができる。例文帳に追加

As a result, the heating of the exposed region with the IR heater 13 is made possible while the photoresist is exposed at desired patterns by the exposure light. - 特許庁

光の露光量が第１露光量より大きい第２露光量である場合、開口部４６はフォトレジスト４３を貫通する。例文帳に追加

When the exposure amount of light is a greater second exposure amount than the first exposure amount, the opening 46 penetrates through the photoresist 43. - 特許庁

露光装置のレンズディストーションの影響を最小化する必要がない場合には、特に露光装置を割り付けることなく露光処理を行う。例文帳に追加

When it is not necessary to minimize the influences of the lens distortion of the aligners, exposure processing is executed without allocating the aligners. - 特許庁

露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべきパターンに対して効率よく定めることができる電子ビーム露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam projection exposure system for efficiently determining the sectional shape of an electron beam for exposing to a pattern to be exposed to light. - 特許庁

各コラムセルの露光データを迅速に作成できる電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam exposure device for quickly producing exposure data for respective column cells, and an electron beam exposure method. - 特許庁

露光コントローラ1302は、画像データに基づいて変調光源1206を制御して多数の露光機会に感光媒体を選択的に露光する。例文帳に追加

The photosensitive medium is selectively exposed in many exposure chances by an exposure controller 1302 controlling the modulation light source 1206 based on image data. - 特許庁

ＥＵＶ露光において、露光光より長波長の光の影響を防止できるミラーおよびそれを用いた露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a mirror capable of preventing influence of light having longer wavelength than exposure light in EUV exposure, and an exposure device using the mirror. - 特許庁

インデクサーによるワークのインデックス時にワークの新たな被露光部位を露光位置に正確に位置決めできる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner in which a new exposed part of a work can be accurately positioned at an exposure position when an indexer indexes the work. - 特許庁

光の透過効率や遮断効率が優れた露光装置用液晶フォトマスク並びにこれを用いた露光装置及び露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a liquid crystal photomask for an exposure device excellent in transmission efficiency and cutoff efficiency for light, the exposure device, and an exposure method. - 特許庁

比較的簡単な構造で、露光エネルギー量が大きく、大面積の露光が可能な偏光露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polarization exposure device relatively simple in structure, large in exposure energy and capable of performing a large area exposure. - 特許庁

単一ショットと多重露光との組み合わせにより、特定領域を高い寸法精度で露光し、他の領域を高い位置精度で露光する。例文帳に追加

To expose a specific region with high dimension precision, and to expose the other region with high position precision in accordance with the combination of a single shot and multiple exposure. - 特許庁

露光装置２０は、露光ヘッドＨと、露光ヘッドＨをＹ矢印方向に案内する案内レールＧＬを備えている。例文帳に追加

An exposure device 20 is equipped with an exposure head H, and a guide rail GL which guides the exposure head H in a direction of an arrow mark Y. - 特許庁

最終露光後のフィルム巻き戻しを遅延させフィルム再書込を可能とするフィルム露光、電子露光併用カメラ例文帳に追加

CAMERA FOR BOTH EXPOSURE AND ELECTRONIC EXPOSURE WHICH ENABLES FILM REWRITE-IN BY DELAYING FILM REWINDING AFTER LAST EXPOSURE - 特許庁

継ぎ精度を高めることなく良好な結像性能をもって、大きな露光領域を走査露光することのできる走査露光方法。例文帳に追加

To provide a scanning exposure method which is capable of scanning and exposing a large exposure region with good imaging performance without enhancing joint accuracy. - 特許庁

露光検証部１５は、作成された露光データに対し、そのパラメータを用いた露光検証を行い、エラー箇所を抽出する。例文帳に追加

To the created exposure data, an exposure verification part 15 performs exposure verification by using the parameter, and extracts an error. - 特許庁

そして、露光工程で露光マスクをパターン孔の端部が順次重なるように配設してレジストフィルムを繰り返し露光する。例文帳に追加

The resist film is repeatedly exposed with the exposure mask arranged in the exposure process so that an end part of a pattern hole is sequentially overlapped. - 特許庁

このようなレンズ収差測定用露光マスクの露光パターン１を、投影レンズを介してホトレジストに投影し、ホトレジストを露光する。例文帳に追加

The exposure pattern 1 for the lens aberration measuring exposure mask is projected to a photoresist via a projection lens for exposing the photoresist. - 特許庁

露光期間分割部（１１０）はマニュアル設定による長秒時露光用の撮影モードを選択したとき、露光期間を複数分割する。例文帳に追加

The exposure period division section (110) divides an exposure period into a plurality of divisions when selecting a photographing mode for long time-second exposure by manual settings. - 特許庁

また、露光開始時点から露光終了時点までの全区間に亘ってズームレンズを駆動することで、露光間ズームの効果を十分に発揮させる。例文帳に追加

Furthermore, by driving the zoom lens from the start of exposure to the end of exposure, a sufficient zooming effect can be obtained during exposure. - 特許庁

従来考えられている電子線露光装置に比して微細な線幅のパターンを露光転写可能な電子線露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam exposure apparatus that can expose and transfer a pattern of finer line width, as compared with an electron beam exposure apparatus of conventional conception. - 特許庁

次に、ミラーチップ１２上に形成されたカバーＰＲの一部を、第１露光工程と同一のレチクルを用いて露光する（第２露光工程）。例文帳に追加

Next, part of the cover PR formed on a mirror chip 12 is exposed using the same reticle as used in the primary exposure step (secondary exposure step). - 特許庁

タンタル合金膜２７を形成する際に、露光工程において基板本体１１ａを露光領域１１Ａ、１１Ｂに分割し、分割露光を行う。例文帳に追加

When a tantalum alloy film 27 is formed, a board main body 11a is divided into exposure regions 11A and 11B during an exposure process for split exposure. - 特許庁

ＥＵＶ露光装置又は高真空雰囲気下で光学素子を用いて露光を行うことができる露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an EUV aligner or an aligner capable of performing exposure using an optical element under high vacuum atmosphere. - 特許庁

長時間露光の撮影に必要な時間を、単純計算で第１の露光時間（Ｔ１）と第２の露光時間（Ｔａ）との合計とすることができる。例文帳に追加

Time required for photographing of long-period exposure can be the sum of the first exposure time (T1) and the second exposure time (Ta) by simple calculation. - 特許庁

この描画座標系ベクタデータを、露光装置に固有の露光座標に適合した露光座標系ベクタデータに変換する。例文帳に追加

The vector data of a drawing coordinate system is transformed into vector data of an exposure coordinate system matching the exposure coordinate intrinsic to the exposure apparatus. - 特許庁

露光ヘッドはフレキシブル基板に低輝度露光用発光部Ｈａ１と高輝度露光用発光部Ｈａ２を形成する。例文帳に追加

The exposure head has a light emitting part for low-luminance exposure Ha1 and a light emitting part for high-luminance exposure Ha2 formed at a flexible substrate. - 特許庁

露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposing device capable of exposing a substrate efficiently and preferably in the case of applying an immersion method in the exposing device. - 特許庁

このため、ミックス・アンド・マッチを行う際に、スキャン露光装置で１度に露光が可能なショット領域を一度に露光することができる。例文帳に追加

Thus, when conducting the mix-and-match, the shot region which can be exposed all at once in the scan aligner 1 can be exposed all at once. - 特許庁

露光装置は、射出面と基板の表面との間の第１液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。例文帳に追加

The exposure apparatus exposes the substrate with the exposure light from the emission surface through the first liquid between the emission surface and the surface of the substrate. - 特許庁

継ぎ合わせ露光をスムーズに行うことができ、良好な画面合成品質を得ることができる露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner and an exposing method by which joint exposure is smoothly performed and an excellent picture synthesizing quality is obtained. - 特許庁

このとき、第１ライン露光器６４、及び第２ライン露光器６６共に、露光用コンピュータ６８から入力する画像信号は同じもので良い。例文帳に追加

The image signals inputted to the first line exposing device 64 and the second line exposing device 66 from the computer 68 for exposure can be identical. - 特許庁

継ぎ精度を高めることなく良好な結像性能をもって、大きな露光領域を走査露光することのできる露光装置。例文帳に追加

To provide an aligner which can scan and expose a large exposure region with satisfactory imaging performance without enhancing jointing accuracy. - 特許庁

露光光の吸収による発熱によるミラーの変形を抑え、安定した露光を行うことができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device for exposure that performs stable exposures by preventing deformation of a mirror, due to heat generation caused by absorption of exposing light. - 特許庁

多重露光を行う際にパターン欠陥を低減できる液浸多重露光方法及び液浸露光システムを提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide an immersion multiple exposure method capable of reducing pattern defects in executing multiple exposure; and an immersion exposure system. - 特許庁

露光装置は、パターンを基板に露光する露光本体装置と、この本体装置に接続される複数の周辺装置とを備えている。例文帳に追加

This aligner is provided with the exposure main body apparatus wherein a pattern is exposed on a substrate, and a plurality of the peripheral apparatuses to be connected with the main body apparatus. - 特許庁

かさ上げ露光量Ｅａ分の露光量調節は，画素ごとの露光強度を調節することにより行う。例文帳に追加

The adjustment of the amount of the exposure for the raising portion of the amount of the exposure Ea is performed by adjusting the exposure intensity of every pixel. - 特許庁

ＥＵＶ光を露光光源としながらも、高精度なアライメントを行うことができる露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus and an exposure method capable of performing highly accurate alignment even though EUV light is used as an exposure light source. - 特許庁

露光精度を高めることができる投影光学系、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a projection optical system, an exposure apparatus, an exposure method, and a device manufacturing method, capable of enhancing exposure accuracy. - 特許庁

エッジショットの露光を行っても、露光光及び液浸水に耐性のある露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner which has resistance to exposure light and liquid immersion even when exposure to an edge shot is performed. - 特許庁