「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

所望の露光パターンに対して露光位置がずれてしまうことを抑制し、所望の露光パターンに従って高精度で露光領域を形成することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner which suppresses misalignment of an exposure position from a desired exposure pattern and which can form an exposure region with high accuracy according to a desired exposure pattern. - 特許庁

ウエハＷの中央部を露光する場合には、単位露光領域１１〜１４を含む露光領域の全体のアライメントを実施し、露光領域の全体を露光する（図６（ａ）参照）。例文帳に追加

When the central part of a wafer W is exposed, all exposure regions including unit exposure regions 11-14 are aligned and all exposure regions are exposed (refer to Figure (a)). - 特許庁

また、本発明は、素子形成領域を分割露光によって形成するための一露光分に対応した露光パターン領域と、露光パターン領域における分割露光の継ぎ目部分に設けられるマークとを有するマスクである。例文帳に追加

A mask includes an exposure pattern area corresponding to one exposure for forming the element formation area by divided exposure and a mark formed on a joint part of divided exposure in the exposure pattern area. - 特許庁

スループットを向上させるとともに、露光むらを低減した露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a scanning exposure apparatus that reduces uneven exposure while improving throughput. - 特許庁

要求露光量精度を満たしながらスループットの向上に寄与する露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner that contributes to improvement in throughput while satisfying requested exposure amount precision. - 特許庁

ビーム幅を一定に保ちながら露光量を変更することができる電子ビーム露光装置および電子ビーム露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam exposure device for modifying an amount of exposure while holding beam width constant, and to provide an electron beam exposure method. - 特許庁

最終露光以外のフィルムに対する複数の書込を有するフィルム露光・電子露光併用のカメラ例文帳に追加

CAMERA USING BOTH FILM EXPOSURE AND ELECTRONIC EXPOSURE WITH PLURAL WRITING WITH REFERENCE TO FILM OTHER THAN FINAL EXPOSURE FRAME - 特許庁

露光装置のステージ移動軸の直交度を露光処理中に正確に検出することが可能な露光方法を低コストに提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method at lost cost which is capable of accurately detecting the orthogonality of a stage-moving shaft of an exposure apparatus during exposure processing. - 特許庁

マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置のうちから特定の露光装置である特定号機（号機Ａ）を任意に選定する。例文帳に追加

A specific machine (machine A) that is a specific aligner is arbitrarily selected from among a plurality of aligners for exposing a substrate to light via a mask pattern. - 特許庁

露光処理と現像処理とを同時に行っても、現像部における比較的ラフな搬送に起因する露光部での走査露光時のずれを解消する。例文帳に追加

To eliminate the deviation during scan exposure in an exposure section occurring in relatively rough conveyance in a development section even if an exposure processing and development processing are simultaneously performed. - 特許庁

θ方向のズレ量を補正して、露光精度を向上することができるスキャン露光装置およびスキャン露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a scan exposure apparatus and a scan exposure method for improving exposure accuracy by correcting displacement in the θ-direction. - 特許庁

可変形成マスクを用いた走査型露光装置であって、パターンに応じた最適な解像度で露光することができる走査型露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning exposure apparatus using a variable forming mask, the apparatus that can perform exposure with optimum resolution according to a pattern. - 特許庁

露光装置を改造することなく特定の波長をカットしたパターン露光を行うことで微細なパターン形成が可能な露光マスクを提供する。例文帳に追加

To provide an exposure mask capable of forming a fine pattern by applying pattern exposure blocking a specified wavelength without modifying an exposure device. - 特許庁

パルス状の露光ビームを出力するエネルギ源を有する露光装置において、露光量制御精度を高めることを主な課題としている。例文帳に追加

To enhance exposure control accuracy in an aligner for outputting a pulse-like exposure beam. - 特許庁

クリーニング装置は、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置内の所定部材をクリーニングする。例文帳に追加

The cleaning device cleans a prescribed member in an exposure device which exposes a substrate to exposure light through a liquid. - 特許庁

比較的小さい占有スペースで被露光基板の表面全体にマスクパターンを露光することのできる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure system capable of exposing a mask pattern over the entire surface of a substrate to be exposed with a relatively small occupancy space. - 特許庁

走査露光する際、投影光学系の結像特性を効率良く精度保証範囲内にに納めて露光処理できる露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method which can efficiently keep the image forming characteristic of a projection optical system keeping within an accuracy assurance range, when scanning exposure is performed. - 特許庁

液浸露光装置における計測部を用いた計測精度の劣化を抑え、基板を良好に露光することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device where the degradation of measurement precision using a measuring part in a liquid immersion exposure device is suppressed and a substrate can sufficiently be exposed. - 特許庁

安価に製造でき、露光性能を大幅に向上することができる露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that can be inexpensively manufactured and is significantly improved in the exposure performance, and to provide an exposure method. - 特許庁

長秒露光における露光中の露光状態を知ることができる撮像装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an imaging device that can know exposure state under exposure in a long second exposure. - 特許庁

基板の撓みを抑制して、露光精度を向上する露光方法及び基板の製造方法並びに露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method, a method for manufacturing a substrate, and an exposure apparatus for improving exposure accuracy while preventing deflection of a substrate. - 特許庁

良品質の露光像を短いタクト時間且つ低コストな装置構成で実現することのできる露光装置及び露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus and an exposure method for attaining a high-quality exposure image in a short tact time with an inexpensive apparatus configuration. - 特許庁

分割露光の際に、倍率レイアウトを自動的に決定することができ、露光作業の効率化が可能な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device that can automatically determine a magnification layout in divided exposure to make exposing operation efficient. - 特許庁

ワークとマスクとのギャップを均一化するようにチルト補正して、露光精度を向上する近接露光装置及び近接露光方法。例文帳に追加

To provide a proximity exposure device and a proximity exposure method that improve exposure precision by making tilt correction so as to make the gap between a workpiece and a mask uniform. - 特許庁

簡易な構造であっても、マスクパターンを高い精度で基板表面に露光することができる露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of accurately transferring a mask pattern to a substrate surface by exposure even with a simple structure, and an exposure method. - 特許庁

露光不良を抑制することができる露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus, an exposure method and a method of manufacturing a device, which suppress poor exposure. - 特許庁

基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化する。例文帳に追加

To reduce the scale of a proximity exposure apparatus that exposes a surface of a substrate by dividing the surface into a plurality of exposure regions. - 特許庁

光源からの光を可及的に有効利用して映像管の被露光面を短時間で露光することのできる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of exposing the surface to be exposed of a video tube in a short time by utilizing light from a light source as effectively as possible. - 特許庁

露光装置６４は、露光装置６４を垂直方向に投影した露光装置配置領域Ｃが転写領域Ｔ内に位置するように配置する。例文帳に追加

An exposure device 64 is disposed such that an exposure device disposition area C obtained by vertically projecting the exposure device 64 is within the transfer area T. - 特許庁

そして、露光量分布データに基づいて、露光位置における主走査方向に関する露光量のばらつきをなくす補正量を算出する。例文帳に追加

Based on the exposure quantity distribution data, a correction quantity is calculated for eliminating the variation of the exposure quantity in the scanning direction at the exposure position. - 特許庁

半導体レーザを高精細露光に適した光源に変換し、より高精細な露光を可能とするレーザ露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser exposure device for achieving higher definition exposure by converting a semiconductor laser into a light source more suitable for high definition exposure. - 特許庁

両光学系の露光量を調整することにより、露光量Ａと露光量Ｂの強度比を最適化することができる。例文帳に追加

The intensity ratio between the luminous exposures A and B of the optical systems 10 and 50 can be optimized by adjusting the luminous exposures A and B. - 特許庁

露光時のウエハの温度を安定化させ、また、ウエハを搬送する際の搬送時間を短縮した露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device that stabilizes the wafer temperature during exposure and shortens the time required for wafer transportation and an exposure method it employs. - 特許庁

本発明は、液浸露光に用いられる液体の酸素濃度を低減させることができる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an exposure device and method capable of reducing the oxygen concentration in the liquid for use in immersion lithography. - 特許庁

基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実施することができるエッジ露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an edge exposure system that can perform good exposure on the edge of a substrate by exposing the edge to the light having a uniform intensity distribution. - 特許庁

最終露光後、フィルム巻き戻しを遅延させフィルム再書込を可能とするフィルム露光、電子露光併用カメラを提供する。例文帳に追加

To provide a camera for both film exposure and electronic exposure in which image magnetic rewrite-in on a film strip adjacent to a finally exposed frame is attained by delaying the rewinding of the film after the last exposure. - 特許庁

安価に製造でき、露光印字性能を大幅に向上することができる露光印字装置及び露光印字方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure printing device which can be manufactured at a low cost and can be remarkably improved in exposure printing performance, and also to provide an exposure printing method. - 特許庁

ユーザの負担を軽減し、消費電力を抑え、基板のどの場所も均一な積算露光量で露光することができる露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an aligner capable of lightening user's burden, restraining power consumption and exposing any place on a substrate with uniform integrated exposure. - 特許庁

露光装置の露光量の調整が可能な範囲について、露光量に対応する画像濃度を示すパターン画像を印刷して配列する。例文帳に追加

Within a range capable of regulating the quantity of exposure of an exposing unit, a pattern image indicative of the image density corresponding to the quantity of exposure is arranged. - 特許庁

固体撮像素子の露光状態を制御する露光制御回路１１は、各垂直走査期間毎に露光制御の条件を更新する。例文帳に追加

An exposure control circuit 11 for controlling the exposure state of a solid-state image pickup element updates the condition of exposure control at every vertical scanning period. - 特許庁

良品質の露光像を短いタクト時間且つ低コストな装置構成で実現することのできる露光装置及び露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus and an exposure method for obtaining an exposure image of high quality in a short tact time in an inexpensive apparatus configuration. - 特許庁

被露光面12の全体に光を拡大して照射する場合に比べて、露光時間を短縮して露光効率を高め、小形化する。例文帳に追加

To enhance exposure efficiency and realize size reduction, by shortening exposure time compared with a case where magnified light is irradiated to the whole of an exposed surface. - 特許庁

露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射することによって、基板を露光する。例文帳に追加

The exposure device exposes the substrate by irradiating the substrate with an exposure light via the projection optical system and the liquid. - 特許庁

基板と保持部材との温度差に起因する露光不良の発生を抑制し、露光処理を良好に実行できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of satisfactorily executing exposure processing by preventing fault in exposure due to a difference in temperature between a substrate and a holding material. - 特許庁

露光光の制限機能とコンタミネーションの捕集機能を併せ持ったブラインドを有する露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner and a method for exposure having a blind with an exposure light limiting function and a contamination collecting function together. - 特許庁