「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。例文帳に追加

An exposure apparatus exposes a substrate through a projection optical system and the liquid. - 特許庁

露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus suppressing occurrence of defective exposure. - 特許庁

露光領域１１Ｃと露光領域１１Ｄとの継ぎ目を４２とする。例文帳に追加

A joint between the exposure region 11C and the exposure region 11D is assumed as the joint 42. - 特許庁

露光装置、露光方法、および微細パターンを有するデバイスの製造方法例文帳に追加

ALIGNER, ALIGNING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE HAVING FINE PATTERN - 特許庁

露光装置及び露光装置の光学系のミュラー行列を測定する方法例文帳に追加

ALIGNER AND METHOD OF MEASURING MUELLER MATRIX OF OPTICAL SYSTEM OF ALIGNER - 特許庁

光効率が向上される露光方法及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method and apparatus which can increase light efficiency. - 特許庁

基板を良好に効率良く多重露光できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of excellently executing multiple exposure of a substrate. - 特許庁

位置合わせ方法及び該方法を使用する露光装置及び露光方法例文帳に追加

ALIGNMENT METHOD AND EXPOSURE SYSTEM AND METHOD USING IT - 特許庁

露光装置、露光方法、及び微細パターンを有するデバイスの製造方法例文帳に追加

ALIGNER, ALIGNING METHOD, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE HAVING FINE PATTERN - 特許庁

露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。例文帳に追加

An exposure apparatus exposes a substrate via a projection optical system and a liquid. - 特許庁

露光領域１１Ａと露光領域１１Ｂとの継ぎ目を３２とする。例文帳に追加

A joint between the exposure region 11A and the exposure region 11B is assumed as the joint 32. - 特許庁

露光後の基板上の露光量均一性を良好にする。例文帳に追加

To improve the uniformity of light exposure on a substrate after the light exposure. - 特許庁

高精度な露光を行なうことができる露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of exposure capable of exposing with high degree of accuracy. - 特許庁

露光装置における露光条件の決定に有利な技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique advantageous for determining an exposure condition in an exposure device. - 特許庁

露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus suppressing the occurrence of an exposure defect. - 特許庁

精度が高く、露光時間も短縮できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that exhibits high accuracy and reduces exposure time. - 特許庁

さらに、上記露光方法を用いたインナードラム露光装置を提供する。例文帳に追加

Furthermore, the inner drum exposing device using the exposing method is provided. - 特許庁

露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of suppressing occurrence of poor exposure. - 特許庁

多重露光方式の露光ヘッドの回路規模を縮小する。例文帳に追加

To reduce the circuit scale of an exposure head of a multiple exposure system. - 特許庁

液浸露光におけるダミー露光に有利な技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology which is advantageous for dummy exposure in immersion exposure. - 特許庁

露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device preventing the degradation of exposing accuracy and measuring accuracy. - 特許庁

露光装置のメンテナンスを効率的に行いつつ液浸露光を実行する。例文帳に追加

To perform immersion exposure while efficiently maintaining an exposing apparatus. - 特許庁

基板を効率良く多重露光できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of highly efficiently executing multiplex exposure of a substrate. - 特許庁

露光工程における露光位置で、ステージ駆動特性を計測する。例文帳に追加

The stage drive performance is measured at the exposure position in the exposure step. - 特許庁

露光条件決定部１６３は、異なる複数の露光条件を決定する。例文帳に追加

An exposure condition determining section 163 determines a plurality of different exposure conditions. - 特許庁

露光装置、露光方法、および微細パターンを有するデバイスの製造方法例文帳に追加

ALIGNER, ALIGNING METHOD, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE HAVING MICROPATTERN - 特許庁

露光不良の発生を抑制可能な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that suppresses the occurrence of poor exposure. - 特許庁

露光装置の好適な露光条件を簡単に決定すること。例文帳に追加

To easily determine ideal exposure conditions in a lithography. - 特許庁

露光パターンを生成し縮小させた該露光パターンで基板を露光するマスクレス露光方法であって、前記露光時に、前記露光パターンのエッジを強調処理することを特徴とする。例文帳に追加

The maskless exposure method of generating an exposure pattern and exposing a substrate with a reduced exposure pattern thereof is such that in subjecting an edge of the exposure pattern to emphasis processing during the exposure. - 特許庁

露光方法は、液体を介して基板上の感光膜を第１露光光で露光する液浸露光処理を含む。例文帳に追加

The exposure method includes a liquid immersion exposure treatment in which a photosensitive film on a substrate is exposed to a first exposure light through a liquid. - 特許庁

露光装置及びその露光装置により製造されたデバイス、並びに露光方法及びその露光方法を用いてデバイスを製造する方法例文帳に追加

ALIGNER, DEVICE MANUFACTURED WITH THE SAME, EXPOSURE METHOD, AND A MANUFACTURE OF DEVICE USING THE METHOD - 特許庁

画像露光装置において、露光面上における露光画像の画素サイズを小さく絞り、高い鮮鋭度の露光画像を実現する。例文帳に追加

To reduce the pixel size in an exposed image on the exposure surface of an image exposing apparatus for realizing exposed images having high sharpness. - 特許庁

そして、露光制御手段８により、レーザビーム３０ａの露光面６上での主走査方向の露光位置および露光量を補正する。例文帳に追加

Further, the exposing position and the exposing quantity of the laser beam 30a in a main scanning direction on the exposure face 6 are corrected with an exposure control means 8. - 特許庁

第１露光及び第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッド１６の走査露光によって行う。例文帳に追加

Each of first exposure and second exposure is performed by scanning exposure of an exposure head 16 emitting a plurality of light beams. - 特許庁

投影露光における露光量は、キャリアフィルムを剥離せずに露光する場合の露光量に比べ１.０５〜２.０倍が好ましい。例文帳に追加

An exposure quantity in the projection exposure is preferably 1.05-2.0 times an exposure quantity when exposing without peeling the carrier film. - 特許庁

比較的大きな領域の露光が可能な露光方法及び比較的大きな領域の露光が可能で小型化が可能な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method by which a relatively large area can be exposed, and to provide an exposure apparatus that can be made compact and can expose a relatively large area. - 特許庁

６０ｆｐｓにおいて、１／６０秒露光の通常露光画像と１／２４０秒露光の短時間露光画像をローリングシャッタにて交互に撮影する。例文帳に追加

A normal exposure image of 1/60-second exposure and a short-time exposure image of 1/240-second exposure are alternately photographed at 60 fps by using a rolling shutter. - 特許庁

マスク欠陥を低減しつつ、高信頼性の微細パターン露光が達成できる露光装置及び露光方法、露光用マスク、半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device and an exposure method capable of achieving highly reliable fine pattern exposure while reducing mask defect. - 特許庁

複数の露光ヘッドで感光材料を露光する露光装置及び露光方法において、「筋むら」の無い良好な画像を得る。例文帳に追加

To obtain a favorable image having no stripe irregularity in an exposure apparatus and an exposure method which expose a photosensitive material by using a plurality of exposure heads. - 特許庁

露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。例文帳に追加

An exposure device EX is an immersion exposure device for exposing a substrate P with exposing light EL via fluid LQ. - 特許庁

光露光部１０と電子ビーム露光部１２の接続部に、光と電子ビームの双方で露光する二重露光部１６を設ける。例文帳に追加

In this pattern forming method, a double exposed part 16 exposed by both a light and an electron beam is arranged at the connecting part of a light exposing part 10 and an electron beam exposing part 12. - 特許庁

投影光学系および液体を介して基板を露光する液浸露光装置においてダミー露光のためにダミー露光基板３０が使用される。例文帳に追加

A dummy exposure substrate 30 is used for the dummy exposure in an immersion exposure apparatus which exposes a substrate via a projection optical system and liquid. - 特許庁

セル基板を複数枚、１枚の露光基板に割付けて露光する複数枚取り露光基板の露光処理のスループットを向上させることができる基板露光方法および基板露光装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide s substrate exposing method and substrate exposing device capable of improving the throughput of the exposing process of plural sheet layout exposing substrates to be laid out to one sheet of the exposing substrate inwhich a plurality of cell substrates are arranged and to be exposed. - 特許庁

露光装置は、所定幅を有するロールフィルム状の被露光体Ｔを露光ステージ５０上に送り込んで、マスクの回路パターンを被露光体に露光する露光装置である。例文帳に追加

The exposure apparatus feeds a body T to be exposed in a roll film shape having a prescribed width onto an exposure stage 50 and exposes the circuit pattern of a mask to the body to be exposed. - 特許庁

この算出された時間を用いて露光タイミング算出部が露光開始タイミングを算出し、この露光開始タイミングに従って、露光制御部は露光装置に露光開始を指示する信号を出力する。例文帳に追加

An exposure timing calculation part calculates exposure start timing by using the calculated time, and an exposure control part outputs a signal for designating start of exposure to the exposure device in accordance with the calculated exposure timing. - 特許庁