「2光子吸収」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

また、本発明の光重合性組成物を２光子吸収材料としてもよい。例文帳に追加

Further, this photopolymerization composition may be used as a 2 photon absorption material. - 特許庁

多重量子井戸構造の電界吸収形光変調器１と偏光子２とを備えている。例文帳に追加

The optical wavelength transforming equipment is provided with an electroabsorption modulator 1 having a multiple quantum well structure and a polarizer 2. - 特許庁

第1のパルスを多光子励起パルス、第2のパルスを吸収モニターパルスと呼ぶ。例文帳に追加

The first pulse is called the "multiple-photon excitation pulse", and the second pulse is called the "absorption monitor pulse". - 特許庁

比較的低パワーのレーザーを用いて２光子吸収を惹起できるような高感度の2光子吸収式光学的情報記録媒体を提供する。例文帳に追加

To provide a two-photon absorption system optical information recording medium having such high sensitivity that two-photon absorption can be brought about using a relatively low power laser. - 特許庁

同時２光子吸収により情報を記録する２光子記録媒体であって、同時２光子吸収により情報を記録可能な記録層に用いられる記録材料に少なくとも（１）３次元架橋構造を有する高分子マトリックス、（２）２光子吸収化合物、（３）重合開始剤、（４）重合性化合物を含むことを特徴とする２光子３次元記録媒体。例文帳に追加

The two-photon recording medium, in which information is recorded by simultaneous two-photon absorption, is characterized in that a recording material used for the recording layer in which information can be recorded by simultaneous two-photon absorption contains at least (1) a polymer matrix having a three-dimensional crosslinked structure, (2) a two-photon absorption compound, (3) a polymerization initiator and (4) a polymerizable compound. - 特許庁

（２）少なくとも、２光子吸収により発色体潜像を生成する第１の工程と、その発色体潜像に光を照射して発色体の線形吸収に基づく重合を起こすことにより、屈折率差を形成して記録する第２の工程を有する２光子吸収光記録方法。例文帳に追加

The method (2) for optical recording by two-photon absorption has at least a first step of forming a latent image of a chromophore by two-photon absorption and a second step of recording through the refractive index difference produced by irradiating the latent image of the chromophore with a desirable light and causing polymerization based on linear absorption of the chromophore. - 特許庁

励起したい蛍光分子の２光子吸収断面積が大きな波長帯域１には第１の位相関数を、蛍光を抑制したい分子の２光子吸収断面積が大きな波長帯域２には第２の位相関数を用いることにより選択的励起を行う。例文帳に追加

Selective excitation is performed by applying the first phase function to a wavelength band 1 in which the two-photon absorption cross-sectional area of fluorescent molecules to be excited is large and a second phase function to a wavelength band 2 in which the two-photon absorption cross-sectional area of molecules of which fluorescence is desired to be suppressed is large. - 特許庁

透明基板１の少なくとも一主面上に、光吸収異方性を有する金属粒子層２と透明誘電体層３とを設けてなる偏光子であって、前記金属粒子層２の金属がＣｕ，Ａｇであり、前記透明誘電体層３中にＳｎを分散させた偏光子である。例文帳に追加

The polarizer is composed by disposing a metal particle layer 2 having a light absorption anisotropy and a transparent dielectric layer 3 on at least one principal plane of a transparent substrate 1, wherein the metals of the metal particle layer 2 are Cu and Ag, and Sn is dispersed in the transparent dielectric layer 3. - 特許庁

負の固有複屈折値を有する層（ａ）を含んでなるλ／４波長板１と、負の二軸性位相差板２と、偏光子３とを備え、これらが、前記層（ａ）の遅相軸１ｘと前記偏光子の吸収軸３ｘとのなす角度が４５±２度となるように積層されてなる偏光板である。例文帳に追加

The polarizing plate includes a quarter-wave plate containing a layer (a) having a negative intrinsic birefringence value, a negative biaxial retardation plate 2, and a polarizer 3, which are laminated so that a slow axis 1x of the layer (a) and an absorption axis 3x of the polarizer form an angle of 45±2°. - 特許庁

積層導波路型記録媒体１は、光を導波させるコア層３と、二光子吸収材料で構成される記録層４と、クラッド層２とが多重に積層されて構成される。例文帳に追加

In the layered waveguide type recording medium 1, core layers 3 guiding light, recording layers 4 constituted of a two photon absorption material and clad layers 2 are layered in a multiple shape. - 特許庁

多光子吸収工程によってゲッタリングシンク４を形成した後で、シリコンウェーハ２を鏡面研磨する（ポリッシング工程：図４（ｂ）参照）。例文帳に追加

A gettering sink 4 is formed by a multiphoton absorption step, and thereafter a silicon wafer 2 is subjected to mirror-surface polishing (a polishing step as shown in Fig.4(b)). - 特許庁

偏光子フィルムの片面あるいは両面に積層して使用される偏光子保護フィルムであり、（１）７０℃・９０％ＲＨにおける透湿度が５００ｇ／ｍ^^2・２４ｈｒ以下の基材フィルム層および（Ｂ）基材フィルム層の少なくとも一方の面上に付設した紫外線吸収層を有する偏光子保護フィルム。例文帳に追加

The protective film is a polarizer protective film disposed on one face or both faces of a polarizer film and has (1) a base film layer having ≤500 g/m^2.24 hr moisture permeability at 70°C and 90% RH and (2) a UV absorbing layer disposed on at least one face of the base film layer. - 特許庁

シリコンウェーハ２を鏡面研磨するポリッシング工程によって、前工程である多光子吸収工程においてレーザビームの照射により生じたシリコンウェーハ２の一面２ａの微細な傷（アブレーション）は完全に除去される（図４（ｂ）参照）。例文帳に追加

By the polishing step of subjecting the silicon wafer 2 to mirror-surface polishing, a minute flaw (abrasion) on one surface 2a of the silicon wafer 2 caused by irradiation of a laser beam in the multiphoton absorption step being a previous step is perfectly removed (as shown in Fig.4(b)). - 特許庁

一対の基板１，２と光が入射する側の防塵ガラス１２の内部に集光点を結ぶようにレーザ光を照射して多光子吸収を発生させ、各基板１，２，１２の内部に表示領域Ｄを囲むように額縁状にそれぞれ遮光性を有する改質層７，８，１３を形成した。例文帳に追加

Multiphoton absorption is carried out by such irradiation with laser light that points of light convergence are formed in the pair of substrates 1 and 2 and the dust-proof glass 12 on the side where the light is made incident and modified layers 7, 8, and 13 having light shield properties are formed in the substrates 1, 2, and 12 in a frame shape enclosing a display region D. - 特許庁