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AMYLを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 41



例文

a chemical compound called amyl acetate 例文帳に追加

酢酸アミルという化合物 - EDR日英対訳辞書

Pentyl acetate (alias Amyl acetate) 例文帳に追加

酢酸ペンチル(別名酢酸アミル) - 日本法令外国語訳データベースシステム

a liquid ester derived from amyl alcohol 例文帳に追加

アミル・アルコールから得られた液体エステル - 日本語WordNet

n-Pentyl acetate (alias n-amyl acetate) 例文帳に追加

酢酸ノルマル-ペンチル(別名酢酸ノルマル-アミル) - 日本法令外国語訳データベースシステム

例文

a container of stimulant drug (amyl nitrate or butyl nitrite) 例文帳に追加

覚醒剤(アミル硝酸塩かブチル基亜硝酸塩)の容器 - 日本語WordNet


例文

As the 4 to 11C alcohol, amyl alcohol is preferable.例文帳に追加

炭素数4〜11のアルコールとしてはアミルアルコールが好ましい。 - 特許庁

Preferably, the mixing ratio by weight of t-amyl peroxybenzoate to t-amyl peroxyisononanoate is 95/5 to 20/80.例文帳に追加

ターシャリーアミルパーオキシベンゾエートとターシャリーアミルパーオキシイソノナノエートの混合比が95/5〜20/80(重量比)の比率であることが好ましい。 - 特許庁

The alcohol is at least one chosen from ethanol, isopropyl alcohol and t-amyl alcohol, preferably t-amyl alcohol.例文帳に追加

アルコールが、エタノール、イソプロピルアルコール及びt−アミルアルコールから選ばれた少なくとも1種、特にt−アミルアルコールであることなどが好ましい。 - 特許庁

METHOD FOR SYNTHESIZING LAMELLAR SOLID FROM AMYL ALCOHOL BASE ORGANIC STRUCTURING AGENT例文帳に追加

アミノアルコール型有機構造化剤からラメラ固体を合成する方法 - 特許庁

例文

2,4-DICHLOROBENZYL ALCOHOL AND AMYL METACRESOL AGAINST HIV INFECTIOUS DISEASE例文帳に追加

HIV感染症に対する2,4−ジクロロベンジルアルコール及びアミルメタクレゾール - 特許庁

例文

The packaged food and beverage contains (A) at least one or more kinds of spices selected from ethyl acetate, ethyl butyrate, amyl acetate, amyl butyrate, and amyl valerate, and (B) at least any of acetic acid and vinegar.例文帳に追加

(A)エチルアセテート、エチルブチレート、アミルアセテート、アミルブチレート、およびアミルバレレートから少なくとも1種以上選択される香料と、(B)酢酸または食酢の少なくともいずれかと、を含有することを特徴とする容器詰飲食物を提供する。 - 特許庁

The fuel for an interval combustion engine comprises t-amyl methyl ether as the main component and gasoline and/or a naphtha as subcomponents.例文帳に追加

内燃機関用燃料として、t−アミルメチルエーテルを主成分とするようにする。 - 特許庁

a mixture of amyl alcohols and propanol and butanol formed from distillation of fermented liquors 例文帳に追加

アミルアルコール、プロパノール、ブタノールの化合物で、発酵した液体の蒸留物から生成される - 日本語WordNet

This eating inducing attractant for cockroach is constituted of a diverging soft fruit-based flavor containing two or more components of ethyl acetate, ethyl butyrate, amyl acetate and amyl butyrate as main components.例文帳に追加

主要成分としてエチルアセテート、エチルブチレート、アミルアセテート、アミルブチレートの少なくとも2成分以上を含有する発散性のソフトフルーツ系フレーバーでゴキブリ用喫食誘起性誘引剤を構成する。 - 特許庁

The fountain solution for offset printing comprises water and t-amyl alcohol (2-methyl-2-butanol).例文帳に追加

水とt−アミルアルコール(2−メチル−2−ブタノール)とを含む、オフセット印刷用の湿し水によって解決される。 - 特許庁

The method of manufacturing an alkali metal methylate or n-amyl alcoholate uses a powdery transition metal carbide, nitride, or carbonitride as a catalyst.例文帳に追加

触媒として、粉末形の遷移金属の炭化物、窒化物または炭窒化物を使用する。 - 特許庁

This method for using the eating-inducing attractant for cockroaches is characterized by imparting to a container the eating-inducing attractant which is used for cockroaches and contains an evaporating soft fruit-based flavor comprising at least two of ethyl acetate, ethyl butyrate, amyl acetate, and amyl butyrate as main ingredients.例文帳に追加

主要成分としてエチルアセテート、エチルブチレート、アミルアセテート、アミルブチレートの少なくとも2成分以上を含有する発散性のソフトフルーツ系フレーバーからなるゴキブリ用喫食誘起性誘引剤を容器側に付与する。 - 特許庁

The curing catalyst for BMC and SMC comprises OO-t-amyl- O-(2-ethylhexyl) monoperoxycarbonate.例文帳に追加

OO−t−アミル−O−(2−エチルヘキシル)モノペルオキシカーボネートよりなる、BMC及びSMC用の硬化触媒を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING BURKHOLDERIA CEPACIA IN THE PRESENCE OF TERTIARY BUTANOL OR TERTIARY AMYL ALCOHOL, THE RESULTANT INOCULATED PRODUCT, AND METHOD FOR DECOMPOSING THESE ALCOHOLS例文帳に追加

第3ブタノールまたは第3アミルアルコールの存在下でのBURKHOLDERIACEPACIAの産生方法、産生さた接種体、並びにこれらアルコールの分解方法 - 特許庁

Preferably, 0.5-5.0 mass% vinylene carbonate and 0.5-3.0 mass% cyclophexyl benzene and/or t-amyl benzene are included in the nonaqueous electrolyte.例文帳に追加

好ましくは、非水電解質にビニレンカーボネートを0.5〜5.0質量%、シクロヘキシルベンゼン及び/又はt−アミルベンゼンを0.5〜3.0質量%含有させる。 - 特許庁

The fluoran compound represented by formula (1), such as 3-di(n-amyl)amino-6-methyl-7-(N-p-tolylsulfonylaminocarbonyl)anilinofluoran, is obtained by the reaction of a fluoran compound, e.g. 3-di(n-amyl)amino-6- methyl-7-anilinofluoran, with an isocyanate compound such as p-tolylisocyanate and p-tolylsulfonyl isocyanate.例文帳に追加

3−ジ(n−アミル)アミノ−6−メチル−7−(N−p−トリルスルホニルアミノカルボニル)アニリノフルオランなどの一般式(1)で示されるフルオラン化合物は、例えば3−ジ(n−アミル)アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオランなどのフルオラン化合物とp−トリルイソシアネート、p−トリルスルホニルイソシアネートなどのイソシアネート化合物との反応により得られる。 - 特許庁

The resist composition is prepared by dissolving a base resin component (A) and an oxime sulfonate acid generator (B) in an organic solvent (C) containing methyl n-amyl ketone.例文帳に追加

ベース樹脂成分(A)と、オキシムスルホネート系酸発生剤(B)を、メチルn−アミルケトンを含有する有機溶剤(C)に溶解してなることを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The sheet molding compound comprises a fiber substrate impregnated with an unsaturated polyester resin composition comprising an unsaturated polyester resin, polymerizable monomers, a curing agent, a shrinkage-reducing agent, a polymerization inhibitor, a filler and a thickening agent, where the curing agent comprises t-amyl peroxybenzoate and t-amyl peroxyisononanoate.例文帳に追加

不飽和ポリエステル樹脂、重合性単量体、硬化剤、低収縮剤、重合禁止剤、充填材及び増粘剤を含有する不飽和ポリエステル樹脂組成物を繊維基材に含浸させてなるシート・モールディング・コンパウンドにおいて、前記硬化剤がターシャリーアミルパーオキシベンゾエートとターシャリーアミルパーオキシイソノナノエートからなることを特徴とするシート・モールディング・コンパウンド。 - 特許庁

An organic solvent including one or more kind chosen from propylene glycol monomethyl ether (PGME), methyl amyl ketone (MAK), butyl acetate (BuOAc) and 3-methyl methoxy propionate (MMP) as a main ingredient is used for a resist solvent.例文帳に追加

プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、メチルアミルケトン(MAK)、酢酸ブチル(BuOAc)、3−メチルメトキシプロピオネート(MMP)から選ばれる1種以上を主成分として含む有機溶剤をレジスト溶媒に用いる。 - 特許庁

The resin composition for a coating material comprise ethyl 3-ethoxypropionate, methyl amyl ketone, tert-butyl acetate, 4- chlorobenzotrifluoride, benzotrifluoride, monochlorotoluene or 3,4- dichlorobenzotrifluoride as a solvent and, dissolved therein, a fluorine-containing copolymer.例文帳に追加

3−エトキシプロピオン酸エチル、メチルアミルケトン、酢酸tert−ブチル、4−クロロベンゾトリフルオリド、ベンゾトリフルオリド、モノクロロトルエン、または3,4−ジクロロベンゾトリフルオリドを溶媒とし、該溶媒に含フッ素共重合体を溶解する。 - 特許庁

It is preferable that R1 is hydrogen or a methyl group and R2 and R5 are each a t-butyl group, a t-amyl group or a t-octyl group and R3 and R4 are each a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group or a t-amyl group and R6 is hydrogen.例文帳に追加

(式中、R1は水素またはメチル基を表し、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ独立に炭素数1〜9のアルキル基を表し、R6は水素またはメチル基を表す。) R1が水素またはメチル基であり、R2、R5がt−ブチル基、t−アミル基あるいはt−オクチル基であり、R3、R4がメチル基、エチル基、t−ブチル基あるいはt−アミル基であり、R6が水素であるものが好ましい。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains 100 parts by mass of a hydroxypolyamide having a repeating unit represented by formula (I), 0.01-20 parts by mass of an amyl ester compound and 1-50 parts by mass of a photoacid generator.例文帳に追加

下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド100質量部とアルミエステル化合物0.01〜20質量部と光酸発生剤1〜50質量部を含むポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

An insect-proof agent having repellent performances for the coming flying insect pests comparable to DEET (N,N-diethyl-toluamide) without exerting the adverse effects on the human bodies can be provided by using cinnamyl acetate, amyl cinnamate, and isoamyl cinnamate which are one kind each of cinnamic acid derivatives.例文帳に追加

桂皮酸誘導体の一種である、酢酸シンナミル、アミルシンナメート、イソアミルシンナメートを用いることで、人体に対して悪影響を与えることが無く、DEETに匹敵する飛来害虫忌避性能を有する防虫剤を提供することができる。 - 特許庁

There are disclosed a method for producing polymers, in which a certain polymer composition is characterized by having melt strength (MS) satisfying a specific relational formula and substantially lacking an amyl or methyl branch, while a certain polymer is characterized by having melt strength satisfying another specific relational formula.例文帳に追加

あるポリマー組成物は、アミルまたはメチル分枝を実質的に欠き、および、特定の関係式を満たす溶融強度(MS)を有することにより特徴づけられる、あるポリマーは、別の特定の関係式を満たす溶融強度を有することにより特徴づけられる、ポリマー類の製造方法。 - 特許庁

As for this lithium secondary battery, at an electrolyte and/or a part contacted with the electrolyte such as a negative electrode 3, at least one of sodium acetate, lithium acetate, and sodium benzoate, and at least one of biphenyl, cyclohexyl benzene, 2-fluoro anisole, tert-amyl benzene, and tert-butyl benzene are contained.例文帳に追加

電解質及び/又は負極3などの電解質と接触する部分に、酢酸ナトリウム、酢酸リチウム、および安息香酸ナトリウムのうちの少なくとも1つと、ビフェニル、シクロヘキシルベンゼン、2−フルオロアニソール、ターシャルアミルベンゼン、およびターシャルブチルベンゼンのうちの少なくとも1つとを含有させる。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes an alcohol solvent A, and a solvent B made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Aと、酢酸−n−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Bとを含むレジスト現像剤。 - 特許庁

A transglycosylating reaction with an α-glucosidase can be utilized to thereby effectively produce an α-anomeric selective glycoside which is capsaicin, dihydrocapsaicin, nonylic acid vanillylamide catechin, epicatechin vanillin, hydroquinone, catechol, resorcinol, 3,4-dimethoxyphenol, propanol, butanol, isobutyl alcohol, amyl alcohol or 5-nonyl alcohol.例文帳に追加

α−グルコシダーゼによる糖転移反応を利用することにより、カプサイシン、ジヒドロカプサイシン、ノニル酸バニリルアミド、カテキン、エピカテキン、バニリン、ハイドロキノン、カテコール、レゾルシノール、3,4−ジメトキシフェノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、アミルアルコール、5−ノニルアルコールのαアノマー選択的な配糖体が効率よく製造できる。 - 特許庁

In the formula, R^1 and R^2 are each 1-4C straight-chain or branched alkyl; R^3 is t-butyl or t-amyl; y is 0 or 2; x is 4 when y is 0, and x is 2 when y is 2; and a plurality of R^1 and R^2 may be respectively the same or different.例文帳に追加

式中、R^1、R^2は炭素数1〜4の直鎖又は分岐状アルキル基を表し、R^3はt−ブチル基又はt−アミル基を表し、yは0又は2を表し、xはyが0のときに4であり、yが2のときに2であり、複数存在するR^1、R^2はそれぞれ同一でもよく、異なっても良い。 - 特許庁

The releaser composition for a resin wax film layer comprises 85 wt.% to 98 wt.% of at least one volatile solvent selected from propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and ethyl alcohol, 1 wt.% to 10 wt.% of benzyl alcohol, and 1 wt.% to 5 wt.% of amyl cinnamic aldehyde.例文帳に追加

プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチルアルコールから選ばれる少なくとも1種の揮発性溶剤85重量%乃至98重量%と、ベンジルアルコール1重量%乃至10重量%と、アミルシナミックアルデヒド1重量%乃至5重量%とからなる樹脂ワックス皮膜層の剥離剤組成物。 - 特許庁

The raw solution material includes a raw material liquid prepared by mixing one or more raw organometallic compounds, and one or more organic solvents selected from the group consisting of tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, n-octane, iso-octane, hexane, cyclohexane, pyridine, lutidine, butyl acetate and amyl acetate, and alcohol of 0.1-1,000 ppm as an additive.例文帳に追加

1種又は2種以上の有機金属化合物原料と、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、n-オクタン、イソオクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ピリジン、ルチジン、酢酸ブチル及び酢酸アミルからなる群より選ばれた1種又は2種以上の有機溶媒とを混合してなる原料液に添加剤としてアルコールを0.1〜1000ppmを含む。 - 特許庁

This solution material is prepared by adding 1,500-5,000 ppm Hdpm to a mixture comprising at least one organometallic compound material and at least one organic solvent selected from among tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, n-octane, isooctane, hexane, cyclohexane, pyridine, lutidine, butyl acetate, and amyl acetate.例文帳に追加

1種又は2種以上の有機金属化合物原料と、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、n-オクタン、イソオクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ピリジン、ルチジン、酢酸ブチル及び酢酸アミルからなる群より選ばれた1種又は2種以上の有機溶媒とを混合してなる原料液に添加剤としてHdpmを1500〜5000ppmを含む。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming a resist layer containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene on a substrate; performing rendering or exposure of a predetermined pattern by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a developer containing n-amyl acetate at ≤5°C.例文帳に追加

基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢酸−n−アミルを含む5℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。 - 特許庁

The method for decomposing thermosetting resin involves decomposing the thermosetting resin to the material soluble in the organic solvent by using at least one kind selected from the group of organic compounds consisting of an 11-18C aliphatic monohydric alcohol, a phenol substituted with a 12-18C alkyl group, a monoamine, amyl alcohol and an amino compound, and water at a supercritical or subcritical state.例文帳に追加

本発明の分解方法では、炭素数11〜18の脂肪族1価アルコール、炭素数12〜18のアルキル基で置換されたフェノール、モノアミン、アミノアルコール、およびアミノ化合物よりなる有機化合物の群から選択された少なくとも1種と、水とを用いて、超臨界または亜臨界状態において、熱硬化性樹脂を、有機溶媒可溶物質に分解する。 - 特許庁

The developer used for developing a latent image formed in a film of the copolymer A to from a resist pattern is based on at least one solvent selected from propylene glycol monomethyl ether acetate, amyl acetate and butyl acetate and contains a poor solvent for the copolymer as an auxiliary solvent.例文帳に追加

共重合体Aのフィルムに形成された潜像を現像させてレジストパターンを形成するために用いられる現像液であって、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸アミル及び酢酸ブチルの中から選ばれる少なくとも1種の溶剤を主成分とし、該共重合体に対する貧溶剤を補助溶剤とすることを特徴とするレジストパターン形成用現像液。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A and made of n-amyl acetate, or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−n−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Bとを含む。 - 特許庁

例文

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Bと、酢酸−n−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Cとを含む。 - 特許庁




  
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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