| 意味 | 例文 |
Design Patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1574件
The method for printing the building plate prints a design pattern on a design surface 21 of the building plate 2.例文帳に追加
建築板2の意匠面21に柄模様を印刷する方法。 - 特許庁
A pattern layout is divided into plural design layers.例文帳に追加
パターンレイアウトを複数の設計層に分割する。 - 特許庁
PATTERN DATA CREATION SYSTEM AND PATTERN DATA CREATION METHOD OF CLOTHES DESIGN例文帳に追加
服飾デザインの型紙データ作成システムおよび型紙データ作成方法 - 特許庁
PATTERN CORRECTION DEVICE, PATTERN OPTIMIZATION DEVICE, AND INTEGRATED CIRCUIT DESIGN DEVICE例文帳に追加
パターン修正装置、パターン最適化装置及び集積回路設計装置 - 特許庁
Simulation for forming the transfer pattern is performed on the basis of the design pattern (DT103).例文帳に追加
設計パターンに基づいて、転写パターン形成のシミュレーションを行う(DT103)。 - 特許庁
Also, the pattern accuracy of the mask pattern is reverse calculated from the design margin M.例文帳に追加
また、この設計マージンMからマスクパターンのパターン精度を逆算する。 - 特許庁
Since the simulation pattern created is similar to the design pattern in terms of its hierarchical structure, the simulation pattern is compared with the design pattern to increase the speed of comparison with the design pattern and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.例文帳に追加
作成したシミュレーションパターンは設計パターンと階層構造が近似するため、シミュレーションパターンと設計パターンとを比較することで、設計パターンとの比較を高速化できるとともに、設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できる。 - 特許庁
a pattern or design used for decoration 例文帳に追加
装飾のためにほどこす図形や色の組み合わせ - EDR日英対訳辞書
To provide melon bread applied with a picture, a design or a pattern.例文帳に追加
絵や柄、模様を施したメロンパンを提供する。 - 特許庁
The external design pattern 20 and the internal design pattern 26 are obtained by corrugating their surface, etc.例文帳に追加
外側デザインパターン20や内側デザインパターン26は例えば表面に凹凸を施すことによって得られる。 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, METHOD FOR SETTING PARAMETER, DESIGN PATTERN CORRECTING APPARATUS, PARAMETER SETTING APPARATUS, AND PROGRAM例文帳に追加
設計パターン補正方法、パラメータ設定方法、設計パターン補正装置、パラメータ設定装置、及びプログラム - 特許庁
Shows you how to use the Design Pattern wizard to easily apply a schema design pattern to an XML schema file. 例文帳に追加
「デザインパターン」ウィザードを使用し、XML スキーマファイルにスキーマデザインパターンを簡単に適用する方法を示します。 - NetBeans
METHOD OF GENERATING DESIGN LAYOUT PATTERN OF SEMICONDUCTOR AND APPARATUS FOR GENERATING FIGURE PATTERN例文帳に追加
半導体設計レイアウトパタン生成方法および図形パタン生成装置 - 特許庁
METHOD OF GENERATING DESIGN LAYOUT PATTERN OF SEMICONDUCTOR AND APPARATUS FOR GENERATING GRAPHIC PATTERN例文帳に追加
半導体設計レイアウトパタン生成方法および図形パタン生成装置 - 特許庁
In pattern step-up 1, a left symbol or a right symbol is changed from the design of a pattern 1 to the design of a pattern 2 in a pattern table (S205).例文帳に追加
図柄ステップアップ1では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける1のパターンのデザインから2のパターンのデザインに変更する(S205)。 - 特許庁
In pattern step-up 2, the left symbol or the right symbol is changed from the design of the pattern 2 to the design of a pattern 3 in the pattern table (S206).例文帳に追加
図柄ステップアップ2では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける2のパターンのデザインから3のパターンのデザインに変更する(S206)。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGNING METHOD OF ITS PATTERN, AND PROGRAM FOR PATTERN DESIGN例文帳に追加
半導体装置並びにそのパターン設計方法及びパターン設計用プログラム - 特許庁
In pattern step-up 4, the left symbol or the right symbol is changed from the design of the pattern 4 to the design of a pattern 5 in the pattern table (S208).例文帳に追加
図柄ステップアップ4では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける4のパターンのデザインから5のパターンのデザインに変更する(S208)。 - 特許庁
METHOD FOR PERFORMING PATTERN DECOMPOSITION FOR FULL CHIP DESIGN例文帳に追加
フルチップ設計のパターン分解を行うための方法 - 特許庁
The copy pattern data is copied to the copy destination design data.例文帳に追加
コピーパターンデータをコピー先の設計データにコピーする。 - 特許庁
DUMMY PATTERN DESIGN METHOD, INFORMATION PROCESSOR, AND PROGRAM例文帳に追加
ダミーパタン設計方法、情報処理装置およびプログラム - 特許庁
PATTERN EXTRACTION CALCULATION ALGORITHM, DESIGN PROGRAM, AND SIMULATOR例文帳に追加
パターン抽出計算アルゴリズム、設計プログラム及びシミュレータ - 特許庁
In addition, reference images are created from pattern design data.例文帳に追加
また、パターンの設計データから参照画像を作成する。 - 特許庁
DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, PHOTOMASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンの設計方法、フォトマスク及び半導体装置 - 特許庁
Please send the draft for the new clothing design to the pattern maker.例文帳に追加
新しい服のデザイン案をパタンナーへ送ってください。 - Weblio英語基本例文集
According to the decision, drawing of the design pattern at the time of the watermark design printing is performed (S3303), or drawing of the design pattern at the time of the overlap design printing is performed (S3306).例文帳に追加
この決定に応じて、透かし地紋印刷時の地紋パターン描画を行い(S3303)、または、重ね地紋印刷時の地紋パターン描画を行う(S3306)。 - 特許庁
A design circuit pattern which realizes the design circuit on a semiconductor substrate is prepared.例文帳に追加
設計回路を半導体基板上で実現する設計回路パタンが用意される。 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING PATTERN, PATTERN CORRECTING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN CORRECTING PROGRAM AND DESIGN PATTERN例文帳に追加
パターン補正方法、パターン補正システム、マスク製造方法、半導体装置製造方法、パターン補正プログラム、及び設計パターン - 特許庁
Then points on the contour line of the pattern figure in the design pattern data are corrected.例文帳に追加
次に、設計パターンデータのパターン図形の輪郭線上の各点を補正する。 - 特許庁
A design pattern or a pattern of design template for use in pattern matching is weighted so that a region of low reliability pattern and a region of high reliability pattern can be discriminated.例文帳に追加
パターンマッチングに使用するデザインパターン又はデザインテンプレートのパターンに重みを付し、信頼性の低いパターンの領域と信頼性の高いパターンの領域を重みにより区別可能にする。 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加
マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁
An original design pattern is altered till difference between an objective pattern and a simulation pattern becomes below a specified value.例文帳に追加
目標パターンとシミュレーションパターンとの差異が規定値以下になるまでオリジナル設計パターンが変更される。 - 特許庁
DESIGN CORRECTION METHOD, DESIGN PATTERN GENERATING METHOD, AND PROCESS PROXIMITY CORRECTION METHOD例文帳に追加
設計パターン補正方法と設計パターン作成方法及びプロセス近接効果補正方法 - 特許庁
METHOD FOR CREATING PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING DESIGN LAYOUT AND METHOD FOR VERIFYING PATTERN DATA例文帳に追加
パターンデータ作成方法、設計レイアウト作成方法及びパターンデータ検証方法 - 特許庁
To design a semiconductor device wherein densities of a dummy pattern and a design pattern are made uniform in all the parts of a semiconductor chip.例文帳に追加
ダミーパターンと設計パターンとの密度を、半導体チップの全部分において均一化した半導体装置を設計する。 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, AND PROGRAM例文帳に追加
設計パターン補正装置、設計パターン補正方法、及びプログラム - 特許庁
METHOD, DEVICE AND PROGRAM FOR CHECKING DESIGN DATA PATTERN FOR PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスク用設計データパターンチェック方法、装置及びプログラム - 特許庁
PHOTOMASK DESIGN METHOD, PATTERN PREDICTION METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加
フォトマスクの設計方法、パターン予測法方法およびプログラム - 特許庁
To provide a method for checking design data pattern for photomask, in which easily and efficiently checking design data pattern for photomask.例文帳に追加
フォトマスク用設計データパターンを簡単かつ効率的にチェックできるフォトマスク用設計データパターンチェック方法を提供する。 - 特許庁
DESIGN PATTERN VERIFICATION METHOD OF PHOTOMASK FOR MULTIPLE EXPOSURE TECHNOLOGY例文帳に追加
多重露光技術用フォトマスクの設計パタン検証方法 - 特許庁
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