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Dual Layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 180件
a single-sided/dual-layer DVD 例文帳に追加
片面 2 層 DVD - 研究社 英和コンピューター用語辞典
HIGH-DENSITY DUAL-LAYER OPTICAL DISC例文帳に追加
高密度デュアルレイヤ光ディスク - 特許庁
The capacity of a single-sided/dual-layer DVD is 8.5 GB. 例文帳に追加
片面 2 層 DVD の容量は 8.5 GB だ - 研究社 英和コンピューター用語辞典
DUAL LAYER BUS ARCHITECTURE FOR SYSTEM-ON-A-CHIP例文帳に追加
システムオンチップのためのデューアル階層バス構造 - 特許庁
LIGHT EMITTING DIODE WITH DUAL DOPANT CONTACT LAYER例文帳に追加
デュアルドーパント接触層を有する発光ダイオード - 特許庁
To provide a light emitting diode having a dual dopant contact layer.例文帳に追加
デュアルドーパント接触層を有する発光ダイオードに関する。 - 特許庁
The core (51) is of dual layer type consisting of the resin fiber layer (52a) and an inorganic fiber layer.例文帳に追加
また、芯材(51)は樹脂繊維層(52a)と無機繊維層との複層であることを特徴とする。 - 特許庁
DUAL STRIPE SPIN VALVE SENSOR WITHOUT ANTIFERROMAGNETIC PINNING LAYER例文帳に追加
反強磁性ピン止め層を有さないデュアル・ストライプ・スピン・バルブ・センサ - 特許庁
ANTENNA WITH ELECTRIC CONDUCTIVE LAYER AND DUAL BAND EMITTER THEREWITH例文帳に追加
導電層を有するアンテナおよびアンテナを含む2帯域送信器 - 特許庁
To obtain a dual-layer vertical magnetic recording medium suitable for high density recording.例文帳に追加
高密度記録に適した二層垂直磁気記録媒体を得る。 - 特許庁
MASK LAYER AND DUAL DAMASCENE INTERCONNECT STRUCTURE IN SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置のマスク層および二重ダマシーン相互接続構造 - 特許庁
MASK LAYER AND INTERCONNECTION STRUCTURE FOR MANUFACTURING DUAL DAMASCENE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
デュアルダマシン半導体製造のためのマスク層及び相互接続構造 - 特許庁
PROCESSING OF DUAL LAYER SIGNAL IN LAYERED MODULATION DIGITAL SIGNAL SYSTEM例文帳に追加
レイヤード変調デジタル信号システムにおけるデュアルレイヤ信号の処理 - 特許庁
TWO STEP ETCHING OF BOTTOM ANTI-REFLECTIVE COATING LAYER IN DUAL DAMASCENE APPLICATION例文帳に追加
デュアルダマシン用途における下面反射防止コーティング層の2ステップエッチング - 特許庁
DUAL CHARGE TRANSPORT LAYER AND PHOTOCONDUCTIVE IMAGING MEMBER INCLUDING THE SAME例文帳に追加
二重電荷輸送層およびそれを含む光導電画像形成部材 - 特許庁
DUAL-CORE COMPRISING ZERO GRADIENT CENTER AND POSITIVE GRADIENT OUTER CORE LAYER例文帳に追加
ゼロ勾配のセンタおよび正勾配の外側コア層を有する二重コア - 特許庁
DUAL WORK FUNCTION DEVICE HAVING STRESSOR LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
ストレッサ層を有するデュアル仕事関数デバイスおよびその製造方法 - 特許庁
ACTIVATED CHARCOAL FOR ELECTRODE OF ELECTRODE DUAL LAYER CAPACITOR AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加
電気二重層コンデンサの電極用活性炭およびその製造法 - 特許庁
The first wiring layer 33 is a single damascene structure, and the second wiring layer 32 is a dual damascene structure.例文帳に追加
第1配線層部33は、シングルダマシン構造であり、第2配線層部32は、デュアルダマシン構造である。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY ARRAY WITH DUAL-LAYER METAL LINE例文帳に追加
二層金属ラインを有する薄膜トランジスタディスプレイアレイを製造するための方法 - 特許庁
CMOS STRUCTURE USING SELF-ALIGNED STRESSED DUAL LAYER AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
自己整合されたデュアル応力層を用いるCMOS構造体及び方法 - 特許庁
To attain a dual frequency shared antenna by single power supply and single layer structure.例文帳に追加
単一給電で且つ単層構造の2周波共用アンテナを実現する。 - 特許庁
The dual-depth buried oxide layer facilitates the formation of an asymmetrical semiconductor structure.例文帳に追加
デュアル・デプス埋め込み酸化物層は、非対称半導体構造を容易にする。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING COPPER DUAL DAMASCENE STRUCTURE BODY ON SEMICONDUCTOR BASE LAYER SURFACE例文帳に追加
半導体基層の表面上に銅デュアルダマシン構造体を形成する方法 - 特許庁
To form a multi-level wiring layer of dual damascene structure effectively using a low permittivity film in a via contact layer or a wiring layer.例文帳に追加
ビアコンタクト層や配線層に低誘電率膜を用いて有効にデュアルダマシン構造による多層配線層を形成する。 - 特許庁
The porous semiconductor layer 16 is a dual-layer structure which consists of a porous titanium oxide layer 16a and a titanium oxide layer 16b denser than the porous titanium oxide layer 16a.例文帳に追加
多孔質半導体層16は、多孔質な酸化チタン層16aと多孔質な酸化チタン層16aよりも緻密な酸化チタン層16bからなる2層構造である。 - 特許庁
TAPE WIRING SUBSTRATE HAVING DUAL METAL LAYER AND CHIP-ON-FILM PACKAGE USING THE SAME例文帳に追加
デュアル金属層を有するテープ配線基板及びそれを用いたチップオンフィルムパッケージ - 特許庁
To provide a dual channel single-layer polysilicon EPRON device and its driving method.例文帳に追加
デュアルチャンネル単層ポリシリコンEPROM装置及びその駆動方法を提供する。 - 特許庁
Next, at least one dual layer, constituted of an undoped amorphous silicon layer and a dopant single layer, is attached by LPCVD.例文帳に追加
次に、アンドープ・アモルファスシリコン層とドーパント単層とからなる少なくとも1つのデュアル層が、LPCVDプロセスによって付着される。 - 特許庁
DUAL-LAYER OPTICAL RECORDING MEDIUM, ITS RECORDING AND PLAYBACK METHOD, AND OPTICAL RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS例文帳に追加
2層型光記録媒体及びその記録再生方法、並びに光記録再生装置 - 特許庁
METHOD OF FORMING CONTACT STRUCTURE IN LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL LAYER USING DUAL DAMASCENE PROCESS例文帳に追加
デュアルダマシン工程を利用した低誘電率物質層内のコンタクト構造形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR RESIST LOWER-LAYER FILM FORMATION, AND METHOD OF FORMING DUAL-DAMASCENE STRUCTURE USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物及びそれを用いたデュアルダマシン構造の形成方法 - 特許庁
The first mask structure and the second mask structure are formed so as to include a dual mask layer and an etching mask layer, respectively.例文帳に追加
各々デュアルマスク層とエッチングマスク層とを含むように第1マスク構造物及び第2マスク構造物を形成する。 - 特許庁
To provide a dual layer holographic color filter which achieves a liquid crystal display having low power consumption and capable of superior color reproduction, and to provide a transmissive liquid crystal display using the dual layer holographic color filter.例文帳に追加
低消費電力でかつ優れた色再生が可能な液晶ディスプレイが実現可能である2層式ホログラフィックカラーフィルタと、それを使用した透過型液晶ディスプレイを提供する。 - 特許庁
The dual-layer optical fiber buffer encasement is wrapped with a reinforcement yarn and stored in an outer protective jacket.例文帳に追加
2層光ファイババッファ容器は補強ヤーンに包まれ外側保護ジャケット内に収められている。 - 特許庁
SYSTEM FOR FORMING PATTERN VAPOR DEPOSITION LAYER FROM COMPRESSED FLUID AT DUAL CONTROL VAPOR DEPOSITION CHAMBER例文帳に追加
二重制御蒸着室において圧縮流体からパターン蒸着を形成するためのシステム - 特許庁
To reduce the time until the start of reproduction of a dual-layer disk from the time of its loading on a player.例文帳に追加
デュアルレイヤディスクをプレーヤに装填してから再生開始するまでの時間を短縮する。 - 特許庁
DUAL-GATE SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING BARRIER LAYER CONTAINING NITROGEN AND OXYGEN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
窒素および酸素含有障壁層を有するデュアルゲート半導体装置およびその製造方法 - 特許庁
To provide a method for forming a dual damascene feature in a porous low k dielectric layer.例文帳に追加
多孔質低k誘電体層内にデュアルダマシン特徴を形成する方法が提供される。 - 特許庁
The light emitting diode includes a substrate, a light emitting stacked structure formed on the substrate, a dual dopant contact layer formed on the light emitting stacked structure, and a transparent conducting oxide layer formed on the dual dopant contact layer.例文帳に追加
この発光ダイオードは、基板、基板上に形成された発光積層構造物、発光積層構造物上に形成されたデュアルドーパント接触層、及びデュアルドーパント接触層上に形成された透過導電性酸化層を有している。 - 特許庁
To prevent a lower-layer wiring layer from being damaged related to a manufacturing method for a semiconductor device comprising a wiring element of a dual damascene structure at the upper part of the lower-layer wiring layer.例文帳に追加
本発明は下層配線層の上部にデュアルダマシン構造の配線要素を備える半導体デバイスの製造方法に関し、下層配線層の損傷を防止することを目的とする。 - 特許庁
Further, in the plasma etching step, a dual damascene trench etching step of forming a via and a trench in connection with a wiring layer on an insulating layer provided on the wiring layer mediating a liner layer is performed.例文帳に追加
また、プラズマエッチング工程では、配線層の上にライナー層を介して設けた絶縁層に配線層につながるビアおよびトレンチを形成するデュアルダマシントレンチエッチング工程が行われる。 - 特許庁
To form the same recirculated exhaust gas layer as a recirculated exhaust gas layer in a direct injection engine, in a dual injection type engine.例文帳に追加
デュアルインジェクション方式のエンジンにおいて、直噴エンジンにおける還流排出ガスの層と同等の還流排出ガスの層を形成する。 - 特許庁
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