「ETCHING GAS」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ETCHING GAS SUPPLY METHOD AND ETCHING DEVICE例文帳に追加

エッチングガスの供給方法及びエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING GAS AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加

ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング排ガス処理装置 - 特許庁

It is preferable that the second etching gas contains the gas for which the etching gas is diluted by the Ar gas.例文帳に追加

第２エッチングガスは、エッチングガスをＡｒガスで希釈したガスを含むことが好ましい。 - 特許庁

A mixed gas of Cl_2 gas with O_2 gas is used as the etching gas.例文帳に追加

エッチングガスには、Ｃｌ_2ガスおよびＯ_2ガスを含む混合ガスを用いる。 - 特許庁

It is preferable that the first etching gas contains the gas for which an etching gas is diluted by the Xe gas or the gas mixture of the Xe gas and an Ar gas.例文帳に追加

第１エッチングガスは、エッチングガスをＸｅガス又はＸｅガスとＡｒガスとの混合ガスで希釈したガスを含むことが好ましい。 - 特許庁

As the etching gas, halogen-based gas is used.例文帳に追加

また、エッチングガスとして、ハロゲン系ガスを用いる。 - 特許庁

GAS INJECTOR AND ETCHING APPARATUS PROVIDED WITH THE GAS INJECTOR例文帳に追加

ガスインジェクタおよびこれを有するエッチング装置 - 特許庁

ETCHING GAS FLOW CONTROLLER AND CONTROL METHOD OF LOCAL DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

局所ドライエッチング装置のエッチングガス流制御装置及び方法 - 特許庁

In this method of dry etching, CH2F2 is used as an etching gas at the time of dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング時に、エッチングガスとしてCH_2F_2を用いることを特徴としている。 - 特許庁

Etching of tungsten is performed by using etching gas obtained by affixing CF-based gas to etching gas based on NF3 or SF6.例文帳に追加

ＮＦ_３またはＳＦ_６ベースのエッチングガスに、ＣＦ系ガスを添加したエッチングガスを使用してタングステンのエッチングを行う。 - 特許庁

Before a target etching depth is reached, the etching gas is changed from the SF_6/O_2/Ar mixed gas to Cl_2 gas for additional etching.例文帳に追加

目標エッチング深さに達する前に、エッチングガスをＳＦ_６／Ｏ_２／Ａｒ混合ガスからＣｌ_２ガスに切り換えて追加エッチングを行う。 - 特許庁

At this time, a mixed gas composed of chlorine gas, argon gas and nitrogen gas is used for an etching gas.例文帳に追加

この際、エッチングガスとして、塩素ガス、アルゴンガスおよび窒素ガスからなる混合ガスを使用する。 - 特許庁

In the case of an anisotropic etching process, mixed gas of nitrogen and oxygen is used as the etching gas.例文帳に追加

異方性エッチング処理を行う場合、エッチングガスとして窒素と酸素との混合ガスを用いる。 - 特許庁

Gas of a fluorine system is used as etching gas in this first etching process step.例文帳に追加

この第１エッチング工程では、エッチングガスとしてフッ素系のガスを用いる。 - 特許庁

USED ETCHING GAS TREATING METHOD AND USED ETCHING GAS TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

使用済みエッチングガス処理方法および使用済みエッチングガス処理装置 - 特許庁

Next, etching gas is changed to a gas of NH3 system, and the etching of the first layer film 18 is carried out.例文帳に追加

次にエッチングガスをＮＨ３系のガスに切り替えて、第１層膜１８のエッチングを行う。 - 特許庁

In the etching process, a first etching process employs dry etching in which etching gas is used and a second etching process employs wet etching in which etching liquid is used.例文帳に追加

エッチング工程において、第１のエッチング工程は、エッチングガスによるドライエッチングを用い、第２のエッチング工程はエッチング液によるウエットエッチングを用いる。 - 特許庁

The etching used to form the second recess 37A is isotropic etching and uses a mixture gas of SF_6/O_2/Cl_2/HBr as an etching gas.例文帳に追加

第２リセス３７Ａを形成するエッチングは等方性エッチングであり、エッチングガスには、ＳＦ_６／Ｏ_２／Ｃｌ_２／ＨＢｒの混合ガスを用いる。 - 特許庁

The heating reaction unit 101 takes in mixed gas G1 containing exhaust gas from a dry etching device with SF_6 gas as an etching gas.例文帳に追加

加熱反応部１０１は、ＳＦ_６ガスをエッチングガスとしたドライエッチング装置からの排気を含む混合ガスＧ１を取り込む。 - 特許庁

As an etching gas, a gas mixture containing a halogen gas and an oxygen gas is used.例文帳に追加

エッチングガスとしてハロゲンガスと酸素ガスを含む混合ガスを用いる。 - 特許庁

It is also preferable that the etching gas contains the gas mixture of a fluorocarbon gas and an O_2 gas.例文帳に追加

エッチングガスは、フロロカーボンガスとＯ_２ガスとの混合ガスを含むことが好ましい。 - 特許庁

As the etching gas, a mixed gas containing a Br_2 gas and a Cl-based high molecular gas is used.例文帳に追加

エッチングガスにはＢｒ_２ガスとＣｌ系の高分子ガスとを含む混合ガスを用いる。 - 特許庁

And then, etching is performed by chlorine gas.例文帳に追加

次に、塩素ガスを用いてエッチングする。 - 特許庁

Main etching gas contains NF_3 and Cl_2.例文帳に追加

主なエッチングガスは、ＮＦ_３及びＣｌ_２を含む。 - 特許庁

To obtain TFE gas suitable for dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングに好適なＴＦＥガスを得る。 - 特許庁

GAS SPOUTING PLATE FOR PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング装置のガス噴出し板 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND ITS REACTANT GAS SUPPLY METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置およびその反応ガス供給方法 - 特許庁

GAS DISPERSING PLATE OF DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置のガス分散板 - 特許庁

GAS-JETTING BOARD OF PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング装置のガス吹き出し板 - 特許庁

The dry etching gas contains CF_3C_F=CH_2.例文帳に追加

ＣＦ３ＣＦ＝ＣＨ２を含むドライエッチングガス。 - 特許庁

SYSTEM FOR PROCESSING EXHAUST GAS OF DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング排ガス処理装置 - 特許庁

Only HF is used as an etching gas.例文帳に追加

エッチングガスとしてHFのみが使用される。 - 特許庁

GAS BLOW-OUT PLATE OF PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加

プラズマエッチング装置のガス吹き出し板 - 特許庁

An etching gas is introduced in the reaction chamber 10.例文帳に追加

反応室１０は、内部にエッチングガスが導入される。 - 特許庁

To exhaust gas in a dry etching system efficiently.例文帳に追加

ドライエッチング装置などの排気を効率よく行う。 - 特許庁

MASK ETCHING PLASMA REACTOR WITH VARIABLE PROCESS GAS DISTRIBUTION例文帳に追加

可変処理ガス分布マスクエッチングプラズマリアクタ - 特許庁

A methane-containing gas, for example, is desirable as an etching gas.例文帳に追加

エッチングガスとしては、例えばメタン（ＣＨ4 ）を含むものが好ましい。 - 特許庁

In this case, a gas containing carbon is mixed with an etching gas.例文帳に追加

このとき，エッチングガスにカーボンを含有するガスを混合させる。 - 特許庁

GAS CHARGING MEANS FOR PLASMA ETCHING APPARATUS AND GAS SHOWER PLATE例文帳に追加

プラズマエッチング装置用のガス導入手段及びガスシャワープレート - 特許庁

Plasma etching is performed by diluting PFC gas with a rare gas.例文帳に追加

ＰＦＣ気体を希ガスで希釈して、プラズマエッチングを行う。 - 特許庁

The reactive etching gas is a component of a continuously flowing gas flow.例文帳に追加

反応性エッチングガスは、連続的に流れるガスフローの成分である。 - 特許庁

The secondary gas is a gas for etching the base film 110.例文帳に追加

第２のガスは、下地膜１１０をエッチングするためのガスである。 - 特許庁

In etching steps, a first etching step is performed by wet etching in which an etchant is used, and a second etching step is performed by dry etching in which an etching gas is used.例文帳に追加

エッチング工程において、第１のエッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用い、第２のエッチング工程はエッチングガスによるドライエッチングを用いる。 - 特許庁

That is, processes from processing of the conductive film to the etching by using the semiconductor etching gas are continuously performed in the same chamber and the etching by using the semiconductor etching gas is performed before removing the etching mask.例文帳に追加

すなわち、導電膜の加工から半導体エッチング用のガスで行うエッチングまでを同一チャンバー内で連続して行い、半導体エッチング用のガスで行うエッチングはエッチングマスクを除去する前に行う。 - 特許庁