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Etchantを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 968



例文

ETCHANT FOR SILICON SUBSTRATE, AND SURFACE PROCESSING METHOD FOR SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

シリコン基板のエッチング液およびシリコン基板の表面加工方法 - 特許庁

ETCHANT FOR GaInP SYSTEM COMPOUND SEMICONDUCTOR AND ETCHING METHOD例文帳に追加

GaInP系化合物半導体用エッチング液およびエッチング方法 - 特許庁

An etchant includes an aqueous solution containing hydrochloric acid, nitric acid, and a cupric ion source.例文帳に追加

塩酸、硝酸及び第2銅イオン源を含むエッチング水溶液とする。 - 特許庁

ETCHANT, ETCHING METHOD, AND SEMICONDUCTOR SILICON WAFER例文帳に追加

エッチング液、エッチング方法及び半導体シリコンウェーハ - 特許庁

例文

At that time, etching is controlled by controlling the temperature or the like of the etchant 5.例文帳に追加

その際、エッチング液5の温度等を制御してエッチングを制御する。 - 特許庁


例文

ALKALI ETCHANT FOR CONTROLLING SURFACE ROUGHNESS OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェーハの表面粗さ制御用アルカリエッチャント - 特許庁

ETCHANT FOR SILICON WAFER AND METHOD OF MANUFACTURING SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハ用エッチング液及びシリコンウェーハの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING COPPER ETCHANT例文帳に追加

銅のエッチング液を用いたプリント配線板の製造方法 - 特許庁

ETCHANT FOR TUNGSTEN-BASED METAL AND REMOVING METHOD FOR SAME METAL例文帳に追加

タングステン系金属のエッチング液および同金属の除去方法 - 特許庁

例文

SELECTIVE ETCHANT AND METHOD OF Ti-W例文帳に追加

Ti−Wの選択的エッチング液及びそのエッチング方法 - 特許庁

例文

ETCHANT COMPOSITION FOR METAL THIN FILM CONTAINING COPPER AS MAIN COMPONENT例文帳に追加

銅を主成分とする金属薄膜のエッチング液組成物 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR MULTIPLE FILM AND ETCHING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

多重膜のエッチング液組成物及びそのエッチング方法 - 特許庁

The etchant composition comprises phosphoric acid, nitric acid, lactic acid and water.例文帳に追加

りん酸、硝酸、乳酸、および水からなるエッチング液組成物。 - 特許庁

A first etchant is an aqueous solution containing hydrochloric acid and nitric acid.例文帳に追加

第1のエッチング液は、塩酸と、硝酸とを含む水溶液とする。 - 特許庁

As the etchant, a potassium hydroxide (KOH) may be used.例文帳に追加

エッチング液として、水酸化カリウム(KOH)を用いることができる。 - 特許庁

ETCHANT FOR THIN SILVER ALLOY FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

銀合金薄膜用エッチング液およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The face azimuth dependency to an etchant can be lost.例文帳に追加

エッチング液に対する面方位依存性を喪失させることができる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ETCHANT USED THEREFOR例文帳に追加

半導体素子の製造方法およびこの方法に使用されるエッチング液 - 特許庁

This etchant contains hydrosilicofluoric acid, water and hydrosilicofluoric acid salt.例文帳に追加

珪フッ化水素酸、水、及び珪フッ化水素酸塩を含有するエッチング液。 - 特許庁

The apparatus has a rotatable spin head on which a substrate is positioned; an etchant supply means that is located above the substrate and sprays the etchant onto the substrate; and an etchant supply controller that controls the etchant supply.例文帳に追加

本発明によるこの装置は、基板が置かれる回転可能なスピンヘッドと、基板の上部に位置し、基板上にエッチング液を噴射するエッチング液供給手段と、エッチング液供給を制御するエッチング液供給制御器を具備している。 - 特許庁

ETCHANT FOR COPPER AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD USING THE SAME例文帳に追加

銅のエッチング液およびそれを用いたプリント配線板の製造方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING ARRAY SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加

エッチング液組成物及びこれを利用したアレイ基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR REGENERATING ETCHANT, ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE例文帳に追加

エッチング液の再生方法、エッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁

To provide an etchant composition of an organic light emitting diode display device.例文帳に追加

有機発光ダイオード表示装置のエッチング液組成物を提供する。 - 特許庁

ETCHANT FOR CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD OF CONDUCTIVE FILM PATTERN例文帳に追加

導電膜用エッチング液および導電膜パターンの製造方法 - 特許庁

ETCHANT FOR CONDUCTIVE FILMS, AND METHOD OF ETCHING CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

導電膜用エッチング液および導電膜のエッチング方法 - 特許庁

THIN-FILM SOLAR CELL AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ETCHANT例文帳に追加

薄膜太陽電池およびその製造方法ならびにエッチング液 - 特許庁

FILM LAMINATE PACKAGE ETCHANT AND ELECTRODE FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

積層膜一括エッチング液およびこれを用いた電極形成方法 - 特許庁

COLORING ETCHANT FOR OBSERVING MICROSTRUCTURE OF STEEL, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

鋼のミクロ組織観察用着色エッチング液およびエッチング方法 - 特許庁

ETCHANT AND MANUFACTURE OF THIN FILM PATTERN BY USE THEREOF例文帳に追加

エッチング液、及びこれを用いる薄膜パターンの製造方法 - 特許庁

In another version, an acidic etchant is used to remove the layer.例文帳に追加

他の態様において、酸性エッチング液を用いて層を除去する。 - 特許庁

In parallel with the supply of the etchant, the wafer is rotated.例文帳に追加

このエッチング液の供給と並行して、ウエハが回転される。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTOR PLATE USING THE SAME例文帳に追加

エッチング液組成物とそれを用いた反射板の製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR REGENERATING ACIDIC ETCHANT例文帳に追加

酸性エッチング液再生方法及び酸性エッチング液再生装置 - 特許庁

To satisfactorily flatten the surface of a substrate by using an etchant.例文帳に追加

エッチング液を用いて基板の表面を良好に平坦化する。 - 特許庁

LIQUID CHEMICAL DEVICE, ETCHING DEVICE, AND METHOD OF MANAGING CONCENTRATION OF ETCHANT例文帳に追加

薬液装置およびエッチング装置ならびにエッチング液濃度の管理方法 - 特許庁

COMPOSITION OF ETCHANT FOR MULTILAYER FILM INCLUDING TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM例文帳に追加

透明導電膜を含む積層膜のエッチング液組成物 - 特許庁

PLASMA ETCHING OF CARBONACEOUS LAYER WITH SULFUR-BASED ETCHANT例文帳に追加

硫黄系エッチャントを用いた炭素質層のプラズマエッチング - 特許庁

ETCHANT/RUST PREVENTIVE AGENT, WIRING BOARD, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

エッチング剤兼防錆剤、配線用基板及びその製造方法 - 特許庁

TREATMENT OF WASTE FERRIC CHLORIDE ETCHANT AND ITS REGENERATION METHOD例文帳に追加

塩化第二鉄エッチング廃液の処理方法及びその再生方法 - 特許庁

A part of this device is an etchant gas source and an exhaust port.例文帳に追加

この装置の一部はエッチング用ガス源および排気口である。 - 特許庁

ETCHANT, REPLENISHMENT SOLUTION AND METHOD FOR PRODUCING COPPER WIRING USING THE SAME例文帳に追加

エッチング剤と補給液及びこれを用いた銅配線の製造方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

エッチング剤組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

The etching step is performed by wet etching in which an etchant is used.例文帳に追加

エッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用いる。 - 特許庁

This is to provide an improved version of a silicon wafer etching method in which an acid etchant and an alkaline etchant are individually stored in a plurality of tanks, and a silicon wafer having a process modified layer formed through a lapping process and a subsequent cleaning process is sequentially immersed in the acid etchant and the alkaline etchant.例文帳に追加

複数のエッチング槽に酸エッチング液とアルカリエッチング液をそれぞれ貯え、ラッピング工程に続いて洗浄工程を経た加工変質層を有するシリコンウェーハを酸エッチング液とアルカリエッチング液とに順次浸漬するシリコンウェーハのエッチング方法の改良である。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR THIN FILM TRANSISTOR ARRAY PANEL例文帳に追加

エッチング液組成物及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

Afterwards, the sacrifice layer 99 is removed with XeF_2 as an etchant.例文帳に追加

その後にXeF_2をエッチェントとして犠牲層99を除去する。 - 特許庁

In performing etching, an etchant which has been refrigerated to have a temperature of 15°C or below is used.例文帳に追加

エッチングは15℃以下に冷却したエッチング液が使用される。 - 特許庁

Part of this device would be an etchant gas source and an exhaust port.例文帳に追加

この装置の一部は、エッチング用ガス源および排気口である。 - 特許庁

例文

ETCHANT NOT CONTAINING CHROMIUM FOR Si SUBSTRATE AND SiGe SUBSTRATE, METHOD FOR REVEALING DEFECT BY USING THIS ETCHANT, AND PROCESS OF PROCESSING Si SUBSTRATE AND SiGe SUBSTRATE BY USING THIS ETCHANT例文帳に追加

Si基板およびSiGe基板用のクロムを含まないエッチング液、そのエッチング液を使用して欠陥を明らかにする方法、およびそのエッチング液を使用してSi基板およびSiGe基板を処理するプロセス - 特許庁

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