「Etchant」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

By stripping the photoresist and exposing the transparent material (14) to a second isotropic etchant, the radius of each lens shape is increased.例文帳に追加

フォトレジストを剥離して、透過材料を第２の等方性エッチャントに曝すことにより、レンズ形の半径が拡大される。 - 特許庁

An etching device supplies an etchant to a coating layer coating a main surface of a substrate to process the coating layer.例文帳に追加

エッチング装置は、基板の主表面を被覆する被覆層にエッチング液を供給して被覆層を加工する装置である。 - 特許庁

ETCHANT, THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE, AND DISPLAY UNIT例文帳に追加

エッチング液、薄膜トランジスタ・アレイ基板、薄膜トランジスタ・アレイ基板の製造方法および表示装置 - 特許庁

Etchant passages (50, 54, 56, 58) are arranged on the second substrate (40) except at least the paste schedule region (44) of the semiconductor thin film (20).例文帳に追加

第２の基板（４０）の、少なくとも半導体薄膜（２０）貼り付け予定領域（４４）外にエッチング液通路（５０、５４、５６、５８）を設ける。 - 特許庁

To the peripheral edge part of the surface of a wafer W where the copper film is formed, an etchant is supplied from a second washing liquid supply nozzle 331.例文帳に追加

銅膜が形成されているウエハＷの表面の周縁部に、第２洗浄液供給ノズル３３１からエッチング液が供給される。 - 特許庁

The etchant is based on a mixture mainly comprising sulfuric acid, nitric acid, and acetic acid.例文帳に追加

本発明のエッチング液は、硫酸、硝酸、酢酸を主成分とする混合液でベースとなるエッチング液を作製する。 - 特許庁

In addition, when an inorganic acid is added to the hydrofluoric acid, polyhydric carboxylic acid, and hydrogen peroxide solution, the etching rate of the etchant is improved.例文帳に追加

またフッ化水素酸、多価カルボン酸及び過酸化水素水に無機酸を加えると特にエッチング速度が高められる。 - 特許庁

To provide a laminate for a wiring board having low coefficient of water absorption and coefficient of thermal expansion and capable of being efficiently machined by an alkaline etchant.例文帳に追加

吸水率及び熱膨張係数が低く、アルカリ性エッチング液によって効率的に加工できる配線基板用積層体の提供。 - 特許庁

In the process for forming the cavity 25, the SiGe layer 11 is etched while etchant is in contact with the dummy pattern DP.例文帳に追加

空洞部２５を形成する工程では、ダミーパターンＤＰにエッチング液を触れさせながらＳｉＧｅ層１１をエッチングする。 - 特許庁

In one embodiment, a workpiece is disposed within an etchant solution having a composition comprising a dilute acid and a non-ionic surfactant.例文帳に追加

１つの実施形態において、加工物は、希酸と非イオン性界面活性剤を含む組成物を有するエッチャント溶液内に配置される。 - 特許庁

Wet etching with an etchant having selectivity for AlGaAs is used for etching of the remaining first guide layer.例文帳に追加

第１のガイド層の残余のエッチングには、ＡｌＧａＡｓに選択性を有するエッチャントによるウェットエッチングが用いられる。 - 特許庁

To provide a method of plasma-etching a feature part in a carbonaceous layer with an etchant gas mixture including molecular oxygen (O_2) and gas including a carbon sulfur terminal ligand.例文帳に追加

分子酸素（Ｏ_２）と炭素・硫黄末端リガンドを含むガスとを含むエッチャントガス混合物を用いた炭素質層のエッチングである。 - 特許庁

Thus, a wafer rotating speed is accelerated, the supply amount of the etchant is reduced, and the etching width is reduced.例文帳に追加

このため、ウエハ回転速度を上げたりエッチング液の供給量を少なくすることができ、エッチング幅を小さくすることができる。 - 特許庁

To increase the life of a pump for supplying plating solution, etchant or the like in a device for plating, etching or the like.例文帳に追加

メッキ装置やエッチング装置等において、メッキ液やエッチング液等を供給するためのポンプの寿命を長くする。 - 特許庁

Accordingly, SO_2 is employed as etchant gas and He, Ar or the like is employed as the carrier gas in the dry etching of the organic reflection preventing film.例文帳に追加

その為に、有機反射防止膜のドライエッチングに、エッチャントガスとしてＳＯ２、キャリアガスとしてＨｅ又はＡｒ等を用いる。 - 特許庁

The wafer W is held on the substrate holding plane 11a, with an active face facing downwards, and is supplied with an etchant E from the upper side.例文帳に追加

ウエハＷは活性面を下方に向けて基板保持面１１ａ上に保持され、上面側からエッチング液Ｅが供給される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a vibrator, for manufacturing the vibrator regardless of a process of diffusion and properties and the state of a wet etchant.例文帳に追加

拡散のプロセスやウェットエッチング液の性質、状態によらずに振動子を作製するための製造方法を提供する。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

エッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

The metal layer 26 is etched by a second etchant having etching operation stronger to the metal layer 26 than the conductive film 18.例文帳に追加

金属層２６に対して導電膜１８に対するよりも強いエッチング作用のある第２のエッチャントによって、金属層２６をエッチングする。 - 特許庁

As a result, the composition of the etchant can be controlled in real time even in etching of the thinner and more precise printed circuit board etc.例文帳に追加

これにより、より薄く精密なプリント配線基板等のエッチングでもリアルタイムでエッチング液の組成を制御できる。 - 特許庁

This spin etcher etches a wafer 2A being rotated with an etchant which is mode to flow from the top side of the wafer 2A.例文帳に追加

ウェハを回転させながら、ウェハの上側からエッチング液を流してウェハの上面をエッチングするスピンエッチャーである。 - 特許庁

The hydraulic pressure of the etchant is detected by hydraulic pressure sensors 10 and 11 at the retention part, to detect its specific gravity from the detected hydraulic pressure difference.例文帳に追加

滞留部の液圧センサ１０、１１はエッチング液の液圧を検出し、この液圧差から比重を検出する。 - 特許庁

By utilizing the crack 52, an etchant is introduced and, thereby, unnecessary parts on the optical multilayer film 41G as well as the mask layer 31 are reliably removed.例文帳に追加

このクラック５２を用いて、エッチャントを導入してマスク層３１と、それと共に光学多層膜４１Ｇの不要な部分を確実に除去する。 - 特許庁

Simultaneously therewith, high frequency plasma is formed inside the chamber to produce an etchant S_B, and the metal film 101 is subjected to etching.例文帳に追加

それと同時に、チャンバ内に高周波プラズマを形成してエッチャントＳ_Ｂを生ぜしめ、金属膜１０１をエッチングする。 - 特許庁

Consequently, a gate electrode 4 can be protected by restraining soaking of etchant when a porous anode oxide film 6 is removed by wet etching.例文帳に追加

このことにより、多孔質陽極酸化膜６をウェットエッチで除去するときに、エッチャントの染み込みを抑制し、ゲート電極４を保護できる。 - 特許庁

An etchant composition for a crystalline transparent conductive film is made of an aqueous solution containing a fluorine compound of 1 to 10 wt.%.例文帳に追加

１〜１０重量％のふっ素化合物を含有する水溶液からなる結晶質透明導電膜用のエッチング液組成物。 - 特許庁

To provide a treatment device that achieves a reduction in device stop time by facilitating automation of replacement of an etchant.例文帳に追加

エッチング液の交換を自動化し易くし、装置の停止時間の短縮を図ることを目的とした処理装置を提供する。 - 特許庁

In a fourth process, the substrate 20 is removed from the laminated material 70, by using an etchant or a polishing agent including liquid.例文帳に追加

第四工程では、エッチャント又は液体を含む研磨剤を用いて基板１０を積層体７０から除去する。 - 特許庁

To process a liquid crystal display device into thin structure without causing a defect due to entry of an etchant between stuck substrates.例文帳に追加

貼り合わせ基板間へのエッチング液侵入による不良を発生させることなく、液晶表示装置の薄型加工を行う。 - 特許庁

Then the silicon oxide interlayer film sections 62 and 68 are removed by dipping the substrate 2, having the formed opening 74 in an etchant containing at least aqueous hydrofluoric acid.例文帳に追加

この開口部74が形成された基板を少なくともフッ化水素酸を含むエッチング溶液に浸し、シリコン酸化物層間膜部62、68を除去する。 - 特許庁

After a trench 7 has been formed by dry etching, a wet etching treatment is performed using a mixed solution of H2O2 and HF as an etchant.例文帳に追加

ドライエッチングを用いてトレンチ７が形成された後に、H_2O_2とHFとを含む混合液をエッチャントとして用いて、ウェットエッチングが実行される。 - 特許庁

An azole compound having a benzene ring is incorporated into an etchant containing iron (III) chloride and oxalic acid.例文帳に追加

塩化鉄（III）およびシュウ酸を含有するエッチング液に、さらにベンゼン環を有するアゾール化合物を含有せしめる。 - 特許庁

According to such a device, etching is performed by using an etchant including a compound which reacts with copper to form an insoluble substance.例文帳に追加

かかる装置により、銅と反応して不溶性の物質を形成する化合物を含むエッチング液を用いてエッチングを行う。 - 特許庁

To improve stability of the step when etching a layer containing copper and a layer containing titanium by using a non-hyperhydrating etchant.例文帳に追加

銅を含む層とチタニウムを含む層とをエッチングする時に、非過水系のエッチング液を使用して工程の安定性を向上させる。 - 特許庁

On the undersurface 121 of the shield plate 12, openings 122a, 122b, 122c for discharging an etchant, pure water and nitrogen gas, respectively, are formed.例文帳に追加

遮断板１２の下面１２１には、それぞれエッチング液、純水および窒素ガスを吐出する開口１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃが形成されている。 - 特許庁

A glass board 1, including a patterned chromium layer 2 and a resist layer 3 on a surface, is immersed in an etchant 4 and wet-etched.例文帳に追加

パターニングされたクロム層２及びレジスト層３を表面に有するガラス基板１をエッチング液４に浸しウェットエッチングする。 - 特許庁

To provide a nozzle for performing highly precise etching with respect to an object to be treated, and also to provide an etchant supply device.例文帳に追加

被処理物に対して高精度のエッチング処理を行うことができるノズル、エッチング液供給装置を提供する。 - 特許庁

When being patterned, the metal foil is lined with the peeling film and withstands injection pressure of an etchant.例文帳に追加

パターニングの際には金属箔は剥離フィルムによって裏打ちされており、エッチング液の噴射圧に耐える。 - 特許庁

To provide an etchant which ensures small side etch, little unevenness of an etched side face and small environmental load.例文帳に追加

サイドエッチが小さく、エッチング側面の凹凸が少なく、かつ環境負荷が小さいエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide a method of analyzing a process solution for semiconductor processing, especially determining a silicon concentration in an etchant solution of a silicon wafer.例文帳に追加

半導体加工処理溶液の分析、特にケイ素ウエハのエッチング剤溶液中のケイ素濃度を決定する方法を提供する。 - 特許庁

The normalized value is compared with a predetermined response value and the flow of etchant gas into the chamber is controlled in response thereto.例文帳に追加

正規化された値を所定の応答値と比較し、それに応じて室へのエッチャント・ガスのフローを制御する。 - 特許庁

The nozzle 4 for supplying the etchant to a work surface to be treated includes a nozzle body 41 constituted of an internal tube 412 having a delivery outlet for delivering the etchant and an external tube 411 having a suction inlet for sucking the etchant delivered from the delivery outlet, and a heating means 42 for allowing the etchant, which is delivered from the delivery outlet at prescribed time and supplied to the surface to be treated, to have a temperature gradient.例文帳に追加

ワークの被処理面にエッチング液を供給するノズル４は、エッチング液を送出する送出口を有する内管４１２および送出口から送出されたエッチング液を吸引する吸引口を有する外管４１１とから構成されるノズル本体４１と、所定時刻に送出口から送出され被処理面に供給されるエッチング液に温度勾配を設けることのできる加熱手段４２とを有する。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which can form a fine pattern without causing a defect in the shape.例文帳に追加

形状不良なしに微細な回路パターンを形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

The normalized value is compared with a predetermined response value, and depending on the comparison result, the flow of etchant gas into the chamber is controlled.例文帳に追加

正規化された値を所定の応答値と比較し、それに応じて室へのエッチャント・ガスのフローを制御する。 - 特許庁

To provide an electronic device which has a structure preventing an etchant from easily flowing to the exterior of a cover part covering a cavity part in which an MEMS structure is located.例文帳に追加

ＭＥＭＳ構造体が内在する空洞部を覆う被覆部の外にエッチング液が流出し難い構造の電子装置を提供する。 - 特許庁