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Etchantを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 968



例文

To provide an etchant not containing chromium for a Si substrate and SiGe substrate, a method for revealing a defect by using this etchant, and a process for processing the Si substrate and the SiGe substrate by using this etchant.例文帳に追加

Si基板およびSiGe基板用のクロムを含まないエッチング液、このエッチング液を使用して欠陥を明らかにする方法、およびこのエッチング液を使用してSi基板およびSiGe基板を処理するプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide an etchant regeneration system capable of regenerating an etchant so that the content of a dissolved substance in an etchant in a processing tank where etching processing is carried out is precisely controlled to a constant value.例文帳に追加

エッチング処理が行われる処理槽内のエッチング液中の溶存物質の含有量が精度良く一定にコントロールされるようにエッチング液を再生できるエッチング液再生システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a gate electrode, having a vertical side shape by overetching films etched by a first etching step by using a mixed etchant of a fluorine etchant and a chlorine etchant.例文帳に追加

フッ素系エッチャントと塩素系エッチャントとの混合エッチャントを用いて第1エッチングステップを過度エッチングすることによって垂直した側面形状を有するゲート電極を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nozzle preventing a device from corroding with an etchant by receiving the etchant having not been sucked fully from a suction opening, to provide an etchant supply device equipped with the nozzle, and to provide an etching method.例文帳に追加

吸引口から吸引しきれなかったエッチング液を受けることにより、エッチング液による装置の腐食を防止することのできるノズル、このノズルを備えたエッチング液供給装置およびエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide an apparatus which can be prevented from being broken by the leakage or the splashing of an etchant caused by abnormal decomposition of hydrogen peroxide in the etchant when etching a substrate having a metallic layer containing copper by the etchant containing hydrogen peroxide solution.例文帳に追加

過酸化水素水を含むエッチング液により銅を含む金属層を有する基板をエッチング処理する場合に、エッチング液中の過酸化水素の異常分解が原因となってエッチング液の漏洩や飛散が起こり装置が破損することを防止できる装置を提供する。 - 特許庁


例文

To target an etchant of a silicon nitride film using a phosphoric acid aqueous solution, and very easily remove silicon compounds produced in the etchant to make it further suitable for an industrial process, and reduce regeneration expenses of the etchant.例文帳に追加

燐酸水溶液を使用する窒化珪素膜のエッチング液を対象とし、該エッチング液中において生成する珪素化合物の除去が極めて容易で、工業的プロセスに一層適し、エッチング液の再生処理経費を低減すること。 - 特許庁

To prolong the service life of an etchant in an etching method where an etchant composed essentially of ferric chloride is supplied to a material to be etched while circulating the etchant and also to stabilize the quality of the material to be etched after the etching treatment.例文帳に追加

被エッチング材に対し塩化第二鉄を主成分とするエッチング液を循環しながら供給するエッチング方法において、エッチング液の使用寿命を延ばし、且つエッチング処理後の被エッチング材の品質を安定させること。 - 特許庁

To provide an etchant and an etching method leaving no bubble of the etchant and no etching residues resulting from the etchant, after an etching and being capable of etching a transparent conductive film with good timing, in the etching of the transparent conductive film.例文帳に追加

透明導電膜のエッチングにおいて、エッチング後、エッチング液の泡およびエッチング剤に由来するエッチング残渣を全く残さず、ジャストタイムでエッチングすることができるエッチング液およびエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

When such a multilayer film is immersed in an etchant for dissolving the Mo layers 3, since the etchant infiltrates, while successively dissolving the Mo layers 3 from the layer on the surface side, the Mo/Si multilayered film can be peeled off in a very short period of time, even if an etchant that does not dissolve the Si layers is used 4.例文帳に追加

このような多層膜を、Mo層3を溶かすエッチング液に浸漬すると、表面側の層から順にMo層3を溶かしながらエッチング液が侵入して行くので、Si層4は溶かさないエッチング液を用いても、ごく短時間でMo/Si多層膜を剥離することが可能になる。 - 特許庁

例文

With an etchant passage 89 reaching to the first layer left, a cover resist 87 is arranged at a resist space 81, an etchant is acted on the first layer through the etchant passage, and the first layer, second layer and third layer are removed at a time.例文帳に追加

第1層に達するエッチャント通路89を残して、レジストスペース81にカバーレジスト87を配置し、エッチャント通路を通して第1層にエッチャントを作用させ、第1層、第2層及び第3層を一度に除去する。 - 特許庁

例文

Gas, such as air, containing oxygen or the oxygen is blown into the etchant in order to increase the diffusion rate of the components at the reaction boundary of the lead-containing copper alloy material and the etchant during immersion and to prevent the readhesion of the copper alloy to the treated surface, by which the etchant is stirred.例文帳に追加

浸漬中、鉛含有銅合金材とエッチング液との反応界面での成分の拡散速度を大きくすることと、処理面への鉛化合物の再付着を防止することを目的に、エッチング液に空気等の酸素を含む気体又は酸素を吹込み、撹拌する。 - 特許庁

An iodine etchant, a sulfuric acid etchant, and a sulfuric acid etchant are each used as etchants for a p-AlGaAs window layer 6a, a p-GaAs layer 5a, and an n-AlInP lower clad layer 4a respectively.例文帳に追加

p‐AlGaAs窓層6aのエッチャントとしてヨウ素系エッチャントを、p‐GaAs層5aのエッチャントとして硫酸系エッチャントを、n‐AlInP下クラッド層4aのエッチャントとしてリン酸系エッチャントをそれぞれ用いる。 - 特許庁

In a bevel-etching apparatus, a nozzle 3 that sucks and discharges etchant and a receptacle 5 for recovering etchant are integrated; and when the bevel portion 2 of a wafer is etched, the etchant is received by the receptacle 5, and recycled and measured and discharged to a predetermined place by the nozzle 3, and then the nozzle and the receptacle are cleaned automatically.例文帳に追加

エッチング液を吸引、吐出するノズルとエッチング液を受ける皿とを合体して、エッチング液を捕捉し、ウエハのベベル部をエッチングした後にエッチング液をノズルが回収計量して指定場所に液を吐出しノズルと受皿を自動洗浄することを特徴とする。 - 特許庁

This gallium nitride layer becomes insoluble or hardly soluble to the etchant of the gallium arsenic semiconductor.例文帳に追加

この窒化ガリウム層は、ガリウム砒素半導体のエッチング液に対して不溶あるいは難溶となる。 - 特許庁

At that time, alkali solution is used for etchant to which ion system surfactant is added.例文帳に追加

このとき、エッチング液にはイオン系界面活性剤が添加されたアルカリ溶液を用いる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT, SEMICONDUCTOR ETCHANT, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT例文帳に追加

半導体レーザ素子、半導体エッチング液および半導体レーザ素子の製造方法 - 特許庁

To provide a nickel etchant which can suppress the corrosion of metal other than nickel, particularly that of copper.例文帳に追加

ニッケル以外の金属、特に銅の浸食を抑制できるニッケルのエッチング液を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ETCHING SILICON SUBSTRATE, ETCHANT FOR SILICON SUBSTRATE AND ETCHING DEVICE OF SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

シリコン基板のエッチング方法、シリコン基板のエッチング液、シリコン基板のエッチング装置 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING AND RECOVERING INDIUM FROM INDIUM-CONTAINING FERRIC CHLORIDE ETCHANT WASTE例文帳に追加

インジウム含有塩化第二鉄エッチンク廃液からのインジウムの除去方法および回収方法 - 特許庁

LIQUID ETCHANT FOR WET-ETCHING RESIN MEMBRANE AND ETCHING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

樹脂膜のウエットエッチング用エッチング液及びそれを用いて成るエッチング方法 - 特許庁

ETCHANT FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR AND METHOD OF ETCHING THE COMPOUND SEMICONDUCTOR USING THE SAME例文帳に追加

化合物半導体のエッチング液及びそれを用いた化合物半導体のエッチング方法 - 特許庁

ETCHANT AND ETCHING METHOD FOR AlGaAs-BASED COMPOUND SEMICONDUCTOR LAYER, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

AlGaAs系化合物半導体層用エッチング液、エッチング方法および半導体基板 - 特許庁

To provide a multilayer-film mirror that allows a multilayer film to be simply peeled off, using an etchant.例文帳に追加

エッチング液を用いて簡単に多層膜を剥離することが可能な多層膜反射鏡を提供する。 - 特許庁

The wet etchant is an aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, organic acid, and further cations.例文帳に追加

リン酸、硝酸、有機酸、さらには陽イオン成分を含有する水溶液からなるウエットエッチング液。 - 特許庁

ETCHANT FOR SPRAY METHOD AND PRODUCTION METHOD FOR SUITABLE ELECTRONIC CIRCUIT BOARD USING THE SAME例文帳に追加

スプレー法用エッチング液及びそれを用いて好適な電子回路基板の製造方法 - 特許庁

As an etchant for a TiW film 4, a solution having an ionization tendency Al>TiW>CrSi is used.例文帳に追加

また、TiW膜4のエッチング液として、イオン化傾向がAl>TiW>CrSiとなる溶液を用いる。 - 特許庁

ETCHANT AND REPLENISHMENT SOLUTION THEREFOR, AND ETCHING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

エッチング液、その補給液、それらを用いるエッチング方法及び配線基板の製造方法 - 特許庁

The GaAs (111) A substrate 1 is removed by wet etching by ammonia based etchant.例文帳に追加

GaAs(111)A基板1をアンモニア系エッチャントによるウェットエッチングによって除去する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR TREATING SILICON IN WET CHEMICAL MANNER BY USING ETCHANT例文帳に追加

エッチング液を用いてシリコンを湿式化学的に処理するための方法および装置 - 特許庁

SILICON WAFER ETCHANT COMPOSED OF HIGH PURITY ALKALINE, AND ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高純度アルカリからなるシリコンウェハーエッチング液及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁

To provide a wet etchant used for etching in an aluminum-based metal wiring.例文帳に追加

アルミニウム系金属配線のエッチングに使用するウエットエッチング液を提供すること。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR AMORPHOUS ITO TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

アモルファスITO透明導電膜用エッチング液組成物及びエッチング方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF HYBRID INTEGRATED CIRCUIT DEVICE AND ETCHANT LEAVING DEVICE WITH ROLLER例文帳に追加

混成集積回路装置の製造方法およびローラーを有したエッチング液残留装置。 - 特許庁

To efficiently conduct wet etching in a short time by a small quantity of an etchant.例文帳に追加

少量のエッチング液で、ウェットエッチングを効率よく短時間で行う。 - 特許庁

ETCHANT, ITS MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID INJECTION HEAD例文帳に追加

エッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁

The etchant is formed of HF, deionized water, and anionic surfactant.例文帳に追加

HFと、純水と、陰イオン性界面活性剤と、から形成されるエッチング液。 - 特許庁

A second etchant is an aqueous solution containing hydrochloric acid and salt iron (III).例文帳に追加

また、第2のエッチング液は、塩酸と、塩鉄(III)とを含む水溶液とする。 - 特許庁

The process to spray the etchant 20 is performed while the base substrate 10 is carried to the diagonal upper direction.例文帳に追加

エッチング液20を噴射する工程を、ベース基板10を斜め上方に搬送しながら行う。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR ITO FILM, AND METHOD OF ETCHING ITO FILM USING THE SAME例文帳に追加

ITO膜用のエッチング液組成物、および、それを利用したITO膜のエッチング方法 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material which is not damaged by etchant or plating liquid.例文帳に追加

エッチング液又はメッキ液によるダメージのない電磁波シールド材を提供することを目的とする。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SHADOW MASK, AND ETCHANT FILTERING DEVICE FOR SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスクの製造方法及びシャドウマスク用のエッチング液ろ過装置 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR FORMING METAL WIRING FOR THIN-FILM TRANSISTOR LIQUID DISPLAY DEVICE例文帳に追加

薄膜トランジスタ液晶表示装置用金属配線形成のためのエッチング液組成物 - 特許庁

During etching, etchant damages a passivation layer on a wafer somewhat.例文帳に追加

エッチング中に、エッチング液がウェーハ上の不活性化層をいくらか損傷してしまう。 - 特許庁

A part of an etchant circulated in a circulation channel flows into the retention part of a detecting tube 24.例文帳に追加

循環路を循環するエッチング液の一部は検知管24の滞留部に流れ込む。 - 特許庁

ETCHANT, ROUGHENING TREATING METHOD FOR SILICON-WAFER SUBSTRATE SURFACE AND ETCHING EQUIPMENT例文帳に追加

エッチング液、シリコンウエハ基板面の粗面化処理方法、及びエッチング装置 - 特許庁

Defect etchant having high defect selectivity for Si 16 is used in this method.例文帳に追加

この方法は、Si16において高い欠陥選択性を有する欠陥エッチング液を用いる。 - 特許庁

ETCHANT, ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID INJECTION HEAD例文帳に追加

エッチング液及びエッチング加工方法並びに液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁

The etchant can be used at an external temperature without damaging a metal element on the substrate surface.例文帳に追加

エッチング液は、基体表面上の金属要素を傷つけることなく、外界温度で使用可能である。 - 特許庁

To provide a method for efficiently regenerating an etchant by enhancing the effective use rate of hydrogen peroxide.例文帳に追加

過酸化水素の有効使用率を高め、効率的にエッチング液を再生する方法を提供する。 - 特許庁

例文

With H3PO4 as the etchant, the SiN film is etched to form an opening 7.例文帳に追加

H_3PO_4をエッチング液としてSiN膜をエッチングし、開口7を形成する。 - 特許庁

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