「ION-SPUTTERING」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ION BEAM SPUTTERING APPARATUS, ION BEAM SPUTTERING METHOD, AND ION GUN例文帳に追加

イオンビームスパッタ装置、イオンビームスパッタ方法及びイオンガン - 特許庁

ION BEAM SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

イオンビームスパッタリング装置 - 特許庁

SELF ION SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

セルフイオンスパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING-ION PLATING DEVICE例文帳に追加

スパタイオンプレ−テング装置 - 特許庁

ION BEAM SPUTTERING FILM FORMING DEVICE例文帳に追加

イオンビームスパッタ成膜装置 - 特許庁

ION BEAM SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

イオン・ビ—ム・スパッタ付着システム - 特許庁

SPECIMEN SUPPORT AND ION-SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

試料台及びイオンスパッタ装置 - 特許庁

HIGH-OUTPUT ION SPUTTERING MAGNETRON例文帳に追加

高出力イオンスパッタリングマグネトロン - 特許庁

TARGET FOR ION BEAM SPUTTERING TARGET AND ION BEAM SPUTTERING SYSTEM COMPRISING THE SAME例文帳に追加

イオンビームスパッタ用ターゲットおよびこれを具備するイオンビームスパッタ装置 - 特許庁

SECONDARY ION ANALYZER, AND DEVICE FOR SPUTTERING ION BEAM例文帳に追加

二次イオン分析装置及びイオンビームスパッタ装置 - 特許庁

ION-BEAM SPUTTERING APPARATUS AND ION-BEAM SPUTTERING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

イオンビームスパッタリング装置および該装置を用いたイオンビームスパッタリング方法 - 特許庁

TARGET ELECTRODE FOR MAGNETRON TYPE ION SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロン型イオンスパッタ用ターゲット電極 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR ION BEAM SPUTTERING例文帳に追加

イオンビームスパッタ装置およびイオンビームスパッタ方法 - 特許庁

ION IMPLANTATION METHOD USING SPUTTERING METHOD, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

スパッタ法を用いたイオン注入法及びその装置 - 特許庁

To provide a method for controlling ion density and sputtering rate in a sputtering system.例文帳に追加

スパッタリングシステムにおいてイオン密度とスパッタ率を制御する方法を提供する。 - 特許庁

The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加

選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁

Furthermore, when performing the sputtering, ion bombarding treatment is performed.例文帳に追加

また、このスパッタリングを行う際、イオンボンバード処理を行う。 - 特許庁

A conductive coating treatment is performed by ion beam sputtering.例文帳に追加

導電性コーティング処理はイオンビームスパッタリングにより行う。 - 特許庁

MANUFACTURE OF THIN-FILM GAS SENSOR USING DOUBLE ION BEAM SPUTTERING例文帳に追加

二重イオンビームスパッタリングを用いる薄膜ガスセンサの製造方法 - 特許庁

Ion bombardment is preferably performed before performing the sputtering.例文帳に追加

好ましくは、前記スパッタリングを行う前にイオンボンバード処理を行う。 - 特許庁

The metallic layer 5 is formed by means of sputtering or ion plating.例文帳に追加

金属層５は、スパッタリング又はイオンプレーティングによって形成される。 - 特許庁

TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING OR ION PLATING AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングまたはイオンプレーティング用ターゲット材及びその製造方法 - 特許庁

The above-mentioned covering layer is a silicon layer and formed by ion beam sputtering.例文帳に追加

前記被覆層はシリコン層であり、イオンビームスパッタリングで形成される。 - 特許庁

The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method.例文帳に追加

前記多層膜３，４，６，７は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。 - 特許庁

In the process of depositing the carbon film, the carbon film is deposited using one of an ECR (Electron Cyclotron Resonance) sputtering method, an RF sputtering method, a DC sputtering method, and an ion beam sputtering method.例文帳に追加

カーボン膜を堆積する工程はＥＣＲスパッタ法、ＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、およびイオンビームスパッタ法のうちのいずれかの方法を用いてカーボン膜を堆積すること。 - 特許庁

To provide a fluorescent substance that has excellent sputtering resistance so as to prevent the degradation by ion sputtering and to provide a process for producing the fluorescent substance.例文帳に追加

イオンスパッタによる劣化を防ぐスパッタ耐性に優れた蛍光体及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ion sputtering apparatus to select only the ion having a predetermined energy and irradiate a target with it.例文帳に追加

特定のエネルギを有すイオンのみを選択してターゲットに照射するイオンビームスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

An oxide film is formed by electron beam type ion plating or sputtering in 1-20 μm thickness on a nitride film formed by cathode arc type ion plating.例文帳に追加

カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に酸化膜を１〜２０μｍ形成した膜構造。 - 特許庁

To provide an improved lead layer by diagonal ion beam sputtering and annealing.例文帳に追加

斜めイオンビームスパッタリングとアニーリングにより、改善されたリード層を提供すること。 - 特許庁

The vacuum process is performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like.例文帳に追加

真空プロセスは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等である。 - 特許庁

To prevent re-diffusion into a chamber due to sputtering of an ion bombardment surface of an ion recovering device and/or deposited substances on the ion bombardment surface.例文帳に追加

イオン回収装置のイオン衝突面および／またはイオン衝突面に堆積した物質のスパッタリングによるチャンバ内への再拡散を防止する。 - 特許庁

To provide a limit-ultraviolet lithography apparatus for reducing the corrosion effect of ion sputtering.例文帳に追加

イオンスパッタリングの腐食効果を減少させる極限紫外リソグラフィー装置を提供する。 - 特許庁

The ion density and ions energy in a sputtering system are controlled using the modulated signal.例文帳に追加

この変調信号を用いてスパッタリングシステムのイオン密度とイオンエネルギーを制御する。 - 特許庁

The sputtering process comprises a step of sputtering a conductive member of an increased hardness with ion in order to take out copper from the conductive member.例文帳に追加

スパッタリングプロセスは、導電性部材から銅を取り出すために、増大した硬度の導電性部材をイオンで叩くステップを有する。 - 特許庁

As the energy irradiation, any of sputtering treatment using an inactive material, a sputtering treatment using a chemically active ion, ion milling, and plasma etching can be employed.例文帳に追加

エネルギー照射としては、不活性材料を使用したスパッタリング処理、化学的に活性を有するイオンを使用したスパッタリング処理、イオンミリング、及びプラズマエッチングのうちのいずれかを利用できる。 - 特許庁

To provide a sputtering target which can be used for forming a multilayer film having no mutual diffusion or a mutual reaction in an interface between films formed from two different materials through an ion beam sputtering or magnetron sputtering technique.例文帳に追加

イオンビームスパッタやマグネトロンスパッタ法で形成された、異なる２種類の膜材料界面で相互拡散や相互反応のない多層膜が形成可能なスパッタリングターゲットの提供。 - 特許庁

The process is, for example, a reverse sputtering process for physically etching the opening edge of the via hole by ion bombardment.例文帳に追加

例えばイオン衝撃でビアホール開口縁部を物理的にエッチングする逆スパッタ工程である。 - 特許庁

At this time, vapor-phase growth such as vacuum deposition, sputtering, laser ablation, and ion plating is used.例文帳に追加

このとき、真空蒸着，スパッタリング，レーザーアブレーション，イオンプレーティング等の気相成長法を用いる。 - 特許庁

An ion-enhanced physical vapor deposition is augmented by sputtering to deposit multi-component materials.例文帳に追加

イオン強化物理蒸着が、複数成分材料を堆積させるのにスパッタリングにより増大される。 - 特許庁

If the depot attaches inside the gap 64, the ions scraped out from the gap 64 through ion sputtering.例文帳に追加

隙間６４内部にデポが付着していれば、イオンスパッタにより隙間６４の外へ掻き出される。 - 特許庁

A residual gallium layer 3 on the surface of the thin piece 6 cut by the focused ion beam apparatus is removed by sputtering a gas cluster ion beam 1 such as argon.例文帳に追加

アルゴンなどのガスクラスターイオンビーム1のスパッタで、集束イオンビーム装置で切り出した薄片6の表面の残留ガリウム層3の除去を行う。 - 特許庁

The obtained die stock for forming is formed into a required shape by a working method such as ion milling and ion sputtering to obtain a die for forming.例文帳に追加

得られた成形用金型素材をイオンミリング、イオンスパッタリングなどの加工方法にて所要形状に成形して成形用金型を得る。 - 特許庁

To provide an ion generation thick-film substrate which can improve efficiency of resistance to sputtering against ion collisions, and an electronic printing device using the same.例文帳に追加

イオン衝突に対する耐スパッタ性能を改善できるイオン発生厚膜基板とこれを用いた電子式印刷装置を提供すること。 - 特許庁

The conductive membrane is formed on the substrate by a deposition method, a sputtering method, or an RF ion plating method.例文帳に追加

蒸着法、スパッタ法、ＲＦイオンプレーティング法により基板上に導電性の膜を形成する。 - 特許庁

For example, the DLC film can be formed by the ion-plating method and the sputtering method using graphite as a target.例文帳に追加

例えば、ＤＬＣ膜は、黒鉛をターゲットとしたイオンプレーティング法やスパッタリング法により形成できる。 - 特許庁