「MP method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The therapeutic composition and the using method, containing MP-52 of bone morphogenetic proteins (BMPs) in an effective amount.例文帳に追加

骨形態形成蛋白ファミリー（ＢＭＰs）であるＭＰ−５２を有効量含有する治療組成物および使用方法。 - 特許庁

Besides, a method of a coarse grain parallel processing by Open MP being a standard API for main storage sharing type multi-processor (SMP) architecture is proposed through the use of circuit division in the method.例文帳に追加

さらに本手法を回路分割を用いて、主記憶共有型マルチプロセッサ(SMP)アーキテクチャ用の標準APIであるOpenMPにより粗粒度並列処理する手法を提案する。 - 特許庁

To provide a wireless communication system and a communication method thereof whereby communication opportunities are evenly provided to subscriber terminals for directly making communication with a wireless base station and subscriber terminals indirectly making communication with the wireless base station via a relay station in wireless data communication adopting the P-MP system.例文帳に追加

P-MP方式の無線データ通信において、無線基地局と直接通信する加入者端末と、中継局を介して間接的に通信する加入者端末とが平等に通信機会を平等に与えられるようにした無線通信システムおよびその通信方向を提供する。 - 特許庁

A method 400 modifying the bias generator includes metal programming either or both of the MP pull-up transistor and the MP pull-down transistor, such that the respective ON resistance of the metal-programmed transistor is combined with an effective ON resistance of the bias generator circuit.例文帳に追加

バイアス発生器を修正する方法４００は、メタル・プログラミングされたトランジスタの各オン状態抵抗が、バイアス発生器回路の実効オン状態抵抗と組み合わされるように、ＭＰプルアップ・トランジスタおよびＭＰプルダウン・トランジスタの一方または両方をメタル・プログラミングすることを含む。 - 特許庁

The total volume of the pore with a porous radius of 0.3-0.6 nm by an MP method may be approximately 10-80 vol% of the integrated porous volume.例文帳に追加

また、ＭＰ法による細孔半径０．３〜０．６ｎｍの細孔の総容積は、上記積算細孔容積に対して、１０〜８０容量％程度であってもよい。 - 特許庁

This method relates to a method for processing an image belonging to the sequence of at least two images IM(t_1), IM(t_2), having surfaces showing an organ or a part of an organ deformed with the lapse of time, called the organ surface including points shown as record points MP corresponding from a certain image to another image in the sequence and showing the features.例文帳に追加

本方法は、系列におけるある画像から別の画像への互いに対応する記録点MPとして示され特徴を示す点を含む臓器表面と呼ばれ、時間経過につれて変形する臓器又は臓器の一部を表す表面を有する少なくとも２つの画像IM(t_1)、IM(t_2)の系列に属する画像を処理する方法に関する。 - 特許庁

In the sewing data producing method, an actual sewing pattern 4 is transferred to a transfer position MP by the part from the retracted position WP to a sewing start position SS of the sewing pattern 1 being changed.例文帳に追加

縫製データ作成方法は、縫いパターン１のうちの退避位置ＷＰから縫い始め位置ＳＳまでの部分を変化させて実縫いパターン４を移動先位置ＭＰに移動する。 - 特許庁

There is provided the fungicide including (A) the porous carbon material and (B) a silver member (silver material) adhered to the porous carbon material, wherein a value of a specific surface area based on a nitrogen BET method is ≥10m^2/g, and a volume of a fine pore based on a BJH method and an MP method is ≥0.1 cm^3/g.例文帳に追加

殺菌剤は、（Ａ）多孔質炭素材料、及び、（Ｂ）該多孔質炭素材料に付着した銀部材（銀材料）から成り、窒素ＢＥＴ法による比表面積の値が１０ｍ^2／グラム以上、ＢＪＨ法及びＭＰ法による細孔の容積が０．１ｃｍ^3／グラム以上である。 - 特許庁

In the method of manufacturing the deformed brass strip, the surface of the deformed brass strip formed to have a deformed cross-section through a working such as rolling or cutting is cleaned by applying cleaning water at 60-100°C under 0.2-3 MP a water pressure on the surface.例文帳に追加

圧延や切削等の加工を経て異形断面に成形された異形銅条２の表面を水温６０〜１００℃、水圧０．２〜３ＭＰａの洗浄水を当てて洗浄する、異形銅条の製造方法。 - 特許庁

The activated carbon fiber may have a BET specific surface area of 1,000-3,000 m^2/g, and a pore of a porous radius of 0.2-1.8 nm by an MP method and an integrated porous volume of 0.4-2 cm^3/g.例文帳に追加

活性炭素繊維は、ＢＥＴ比表面積１，０００〜３，０００ｍ^２／ｇ程度、及びＭＰ法による細孔半径０．２〜１．８ｎｍの細孔の積算細孔容積０．４〜２ｃｍ^３／ｇ程度を有していてもよい。 - 特許庁

Relating to the carbon material for an electric double layer capacitor, the peak is 6 (ml nm^-1 g^-1) or higher in the range of 0.6-1nm of pore radius, in a pore volume distribution curve measured by an MP method using nitrogen adsorption.例文帳に追加

電気二重層キャパシタ用炭素材料は、窒素吸着を用いたＭＰ法により測定した細孔体積分布曲線において、細孔半径が０．６〜１ｎｍの範囲にあるピークが６ｍｌ・ｎｍ^−１・ｇ^−１以上である。 - 特許庁

Also, it is possible to provide the design method of the MP-SoC platform, and it is possible for a designer to perform the valid management of currently processed data and a verification environment in each design process, and to achieve a simple design process.例文帳に追加

また、本発明はさらにＭＰ‐ＳｏＣプラットフォームの設計方法を提供し、設計者は各設計工程において、現有のデータおよび検証環境の有効な管理ができ、容易な設計工程が達成される。 - 特許庁

The moving image encoder 1 converts a prediction residue image I_3 into residue compensation information I_5 by a residue compensation part 6 by an MP (Matching Pursuits) method using two-dimensional bases.例文帳に追加

動画像符号化装置１では、残差補償部６によって、基底記憶部６ｂに記憶された二次元基底を用いたＭＰ（Ｍａｔｃｈｉｎｇ Ｐｕｒｓｕｉｔｓ）法によって、予測残差画像Ｉ_３が残差補償情報Ｉ_５に変換される。 - 特許庁

To provide a fuel injection adjusting apparatus and a injection adjusting method thereof that can inexpensively, simply, and quickly adjust fuel injection amounts Mp, Mm of respective pilot injection and main injection and an pilot interval Tp by fuel injection amount measurement.例文帳に追加

パイロット噴射およびメイン噴射の各燃料噴射量Ｍｐ、ＭｍならびにパイロットインターバルＴｐを噴射量計測により安価で簡単かつ迅速に調整できる燃料噴射調整装置およびその噴射調整方法を提供する。 - 特許庁

In this polishing method, when a soft magnetic layer made of an Fe alloy containing Si and Al is polished, CMP is performed using a first acid slurry, and then MP is performed using a second weak-acid or neutral slurry having a pH different from that of the first slurry.例文帳に追加

Ｓｉ及びＡｌを含むＦｅ合金による軟磁性層を研磨する場合に、酸性の第１のスラリーを用いてＣＭＰを行い、次いで、第１のスラリーとｐＨの異なる弱酸性又は中性の第２のスラリーを用いてＭＰを行う。 - 特許庁

A method for adjusting the electrode area according to the width or the length of a groove formed on the fixed electrode as in a conventional example is not used, but a method for adjusting the electrode area according to the number of auxiliary electrodes SP separated electrically from the main electrode MP by cutting the conductive parts BP is used, to thereby adjust accurately the electrode area.例文帳に追加

従来例のように固定電極に形成される溝の幅や長さで電極面積を調整するのではなく、導電部ＢＰを切断して主電極ＭＰから電気的に切り離される補助電極ＳＰの個数によって電極面積を調整するので、電極面積を精度よく調整することが可能となる。 - 特許庁

The activated carbon for the electrochemical device is configured such that the total sum of pore volume with the slit width available by the MP method being W1-W2 inclusive is ≥15% of the total sum of pore volume whose slit width is ≤2.0 nm, when W1 and W2 meet 1.0 nm≤W1<W2≤2.0 nm.例文帳に追加

本発明の電気化学素子用活性炭は、１．０ｎｍ≦Ｗ１＜Ｗ２≦２．０ｎｍであるＷ１とＷ２に対して、ＭＰ法により得られるスリット幅がＷ１以上かつＷ２以下である細孔容積の総和が、同スリット幅が２．０ｎｍ以下である細孔容積の総和の１５パーセント以上であることを特徴としている。 - 特許庁

In the manufacturing method of the silicon epitaxial wafer, an angle for overlapping the normal vector α of a substrate main surface MP with a normal vector β on the inner side face in the longitudinal direction of the trench 11 filled with the charged epitaxial layer 3 by a minimum rotary angle is defined as a transition face normal angle region.例文帳に追加

基板主表面ＭＰの法線ベクトルαを、充填エピタキシャル層３で満たされるトレンチ１１の長手方向内側面の法線ベクトルβに、最小の回転角度にて重ねるための角度区間を遷移面法線角度域として定義し、トレンチの長手方向の開口エッジをなす領域を、該遷移面法線角度域にて法線ベクトルが連続的に変化する遷移面領域として考える。 - 特許庁