「NM」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The preferable thickness of the InAs layer or the InSb layer is 3 nm to 10 nm.例文帳に追加

ＩｎＡｓ層又はＩｎＳｂ層の好ましい厚みは３ｎｍから１０ｎｍである。 - 特許庁

The maximum peak of a micro pore size distribution of the combined particle is in a range of 1 nm to 200 nm.例文帳に追加

この複合粒子は、細孔分布の最大ピークが1nmから200nmまでの範囲にある。 - 特許庁

More preferably, an average particle diameter of the silver particles is ≥3 nm and ≤100 nm.例文帳に追加

また、銀粒子の平均粒径が３ｎｍ以上１００ｎｍ以下であるのが好ましい。 - 特許庁

This rubber composition contains fine powder silica of 5 nm to 30 nm in primary particle size.例文帳に追加

このゴム組成物は、一次粒子直径が５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の微粉シリカを含んでいる。 - 特許庁

The second titanium oxide coating layer suitably has ≥20 nm and ≤100 nm thickness.例文帳に追加

ここで、二次酸化チタン被覆層は厚みが２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが望ましい。 - 特許庁

Also disclosed is a dendritic substance wherein the thickness of the stem is 20 to 500 nm and the thicknesses of the branches are 5 to 200 nm.例文帳に追加

前記幹部の太さが20nm〜500nm、枝部の太さが5nm〜200nmの範囲である樹状物質。 - 特許庁

The electron supply layer 12 is formed by setting an Al composition ratio and a film thickness to 10-18[%] and 5-15 [nm], respectively.例文帳に追加

電子供給層１２は、Ａｌ組成比率を１０〜１８[％]とし、膜厚を５〜１５[nm]として形成する。 - 特許庁

The electron supply layer 15 is formed, by setting the Al composition ratio and film thickness to 10-18[%] and 5-15 [nm], respectively.例文帳に追加

電子供給層１５は、Ａｌ組成比率を１０〜１８[％]とし、膜厚を５〜１５[nm]として形成する。 - 特許庁

Film thickness of the metal layer 6 is preferably 1 nm or more and 2 nm or less.例文帳に追加

金属層６の膜厚は、１ｎｍ以上２ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The preferable oxide particles are of the particle diameter of the order of nanometers, say 2 to 100 nm and more preferably 2 to 40 nm.例文帳に追加

酸化物粒子の粒径は好ましくは２〜１００ｎｍ、より好ましくは２〜４０ｎｍである。 - 特許庁

The reflection film has ≤0.5 nm arithmetic average roughness Ra and ≥25 nm thickness.例文帳に追加

反射膜の算術平均粗さＲａは０．５ｎｍ以下であり、反射膜の厚さは２５ｎｍ以上である。 - 特許庁

Further, the wavelength λ of the light entering the Faraday rotator is set to be 1,030 nm to 1,090 nm.例文帳に追加

又、ファラデー回転子に入射する光の波長λは1030nm以上かつ1090nm以下に設定する。 - 特許庁

The size of the crystal grains in each phase 1 and 2 is 5 to 100 nm, preferably, 10 to 40 nm.例文帳に追加

各相１，２の結晶粒のサイズは、５〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜４０ｎｍである。 - 特許庁

Therein, Rth(λ) means a retardation (nm) in the thickness direction at wavelength λ nm.例文帳に追加

但し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を意味する。 - 特許庁

For the magnetic multilayer film 4, the non-magnetic film 13 includes Ag whose film thickness is ≥6 nm and ≤20 nm.例文帳に追加

この磁性多層膜４は、非磁性膜１３が、膜厚６ｎｍ以上２０ｎｍ以下のＡｇからなる。 - 特許庁

The average primary particle size of the oxide particles is ≥10 nm and <100 nm.例文帳に追加

酸化物微粒子の平均一次粒子径は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満である。 - 特許庁

-0.494×t_Ru+4.30≤t_Si≤-0.494×t_Ru+5.70 (1), 2.5 nm≤t_Ru≤3.5 nm (2).例文帳に追加

−０．４９４×ｔ_Ru＋４．３０≦ｔ_Si≦−０．４９４×ｔ_Ru＋５．７０（１）２．５ｎｍ≦ｔ_Ru≦３．５ｎｍ（２） - 特許庁

To create haze, the sizes are within the range of from about 380 nm to about 720 nm.例文帳に追加

ヘイズを作り出すためには、サイズは約３８０ｎｍ〜約７２０ｎｍの範囲内である。 - 特許庁

The particle diameter of the electroconductive polymer particle is preferably 60 nm or less, and more preferably 30 nm or less.例文帳に追加

前記導電性ポリマー粒子の粒径は６０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がさらに好ましい。 - 特許庁

The film thickness d of the recording layer lies within the range indicated by an inequality: 10 nm≤d≤30 nm.例文帳に追加

前記記録層の膜厚ｄは、好ましくは、次の式 １０ｎｍ≦ｄ≦３０ｎｍ で示される範囲にある。 - 特許庁

The photocatalytic layer 3 is formed with a thickness of not more than 100 nm, e.g. 20 nm.例文帳に追加

この光触媒層３は、厚さ１００ｎｍ以下、例えば２０ｎｍに形成されている。 - 特許庁

The fluorescent spectrum emitted from the fluorescence emitter 11 is set in the range of from 400 nm to 1,100 nm.例文帳に追加

蛍光発光部材１１が発光する蛍光スペクトルは400nm〜1100nmの範囲に設定されている。 - 特許庁

In addition, the surface roughness of the flat surface body is preferably within a range of 0.01-1.0 nm.例文帳に追加

また、平坦表面体の表面粗さは、0.01〜1.0 nmの範囲内にあることが好ましい。 - 特許庁

The thickness of the vapor-deposited layer of aluminum oxide can be made to 20 nm to 300 nm.例文帳に追加

酸化アルミニウム蒸着層の厚みを２０ｎｍ〜３００ｎｍとすることができる。 - 特許庁

A phase difference value of the uniaxially oriented film 102 is between 150 nm and 650 nm.例文帳に追加

一軸性延伸フィルム１０２の位相差値は、１５０〜６５０ｎｍの間である。 - 特許庁

Thickness of the plate crystal layer is 20 nm or more and 1,000 nm or less.例文帳に追加

前記板状結晶層の厚さが、２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。 - 特許庁

The projection height H of the projecting part patterns 16 is about 20 nm and the projection width W is about 20 nm.例文帳に追加

突起部パターン１６の突起高さＨは２０ｎｍ、突起幅Ｗは２０ｎｍである。 - 特許庁

An average diameter of the through-holes 10a is 10 nm or more and less than 100 nm.例文帳に追加

貫通孔１４ａの平均径は１０ｎｍ以上、且つ、１００ｎｍ未満である。 - 特許庁

It is preferable that the retardation value of the layer structure 5 is >0 nm and is ≤60 nm.例文帳に追加

層構造５のリタデーション値は、０ｎｍより大きくて６０ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Thickness of a hole transport layer 52 is above 150 nm, preferably above 170 nm.例文帳に追加

正孔輸送層５２の厚みを１５０ｎｍを超える値、好ましくは１７０ｎｍ以上とした。 - 特許庁

A light source having a fine emission area of 10 nm×10 nm is thus obtained.例文帳に追加

したがって、１０ｎｍ×１０ｎｍの微細な発光領域の光源を得ることができる。 - 特許庁

For example, the glass can emit fluorescence in a wide band of 380-650 nm by the excitation of ultraviolet rays having wavelengths of ≤350 nm.例文帳に追加

例えば、350nm以下の紫外線の励起により、380から650nmの広帯域に渡り蛍光を発する。 - 特許庁

The film thickness of the insulating layer 3 is 0.64 nm, and that of the conductive layer 4 is 50 nm.例文帳に追加

絶縁層３の膜厚が０．６４ｎｍであり、導体層４の膜厚が５０ｎｍである。 - 特許庁

(2) The photosensitive silver halide particles have an equivalent spherical diameter of between 10 nm and 50 nm.例文帳に追加

（２）前記感光性ハロゲン化銀粒子の球相当径が、１０nm以上５０nm以下であること。 - 特許庁

Light source comprises LED having 550-670 nm, preferably 590 nm, at its peak.例文帳に追加

光源としては、550〜670nmにピークを有するLED、好ましくは590nmにピークを有するLEDを用いるとよい。 - 特許庁

For example, the mean particle diameter R of the colloidal particle 3 is ≥70 nm and ≤238 nm.例文帳に追加

コロイド粒子３の平均粒径Ｒは、たとえば７０ｎｍ以上２３８ｎｍ以下である。 - 特許庁

It is desirable that the thickness of the film 124 is 2 nm or more but 6 nm or less.例文帳に追加

被膜部１２４の厚みは、２ｎｍ以上６ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The thickness of both the bit line 20 and the word line 10 is larger than 10 nm and smaller than 100 nm.例文帳に追加

ビット線２０およびワード線１０は、いずれも１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の厚みを有する。 - 特許庁

The tightly adhering layer 2 is composed of silicon(Si), and the thickness is set to be not less than 1 nm and not more than 10 nm.例文帳に追加

密着層２はケイ素（Ｓｉ）からなり、厚さは１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲内である。 - 特許庁

Each of the first layers has a thickness of 0.5 nm or more and 10 nm or less.例文帳に追加

複数の第１の層の厚さは、それぞれ０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The guide layer of a III nitride compound semiconductor laser diode is built into a superlattice structure, formed by laminating five layers of AlGaN layers having thicknesses of 10 nm and InN layers, having thicknesses of 10 nm upon another.例文帳に追加

ガイド層を、10nm厚のAlGaNと10nm厚のInNとを5層積層した超格子構造とした。 - 特許庁

The former component has the λmax in 330-360 nm and the latter in 360-390 nm.例文帳に追加

前者のλmaxは３３０〜３６０ｎｍの範囲であったが、後者のそれは３６０〜３９０ｎｍであった。 - 特許庁

It is preferable that the mean surface roughness Ra of the film is at a value from 5 nm to 120 nm.例文帳に追加

また、フィルムの平均表面粗さＲａは５ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The FePt layer is preferably 1-3 nm thick and the Ag layer 2-5 nm thick.例文帳に追加

ＦｅＰｔ層の層厚は１〜３ｎｍ、Ａｇの層厚は２〜５ｎｍが好ましい。 - 特許庁

An average film thickness of the Pt layer preferably ranges from 0.5 nm or more to 2 nm or less.例文帳に追加

Ｐｔ層の平均膜厚が０．５ｎｍ以上２ｎｍ以下であるのが好ましい。 - 特許庁