「PATTERN DEFECT」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

FIELD PATTERN DEFECT DETECTION METHOD IN SEMICONDUCTOR PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

半導体製造工程におけるＦｉｅｌｄパターン欠陥検出方法 - 特許庁

METHOD FOR REPAIRING DEFECT OF PATTERN FORMED ON TRANSFERRED MASK FOR ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線用転写マスクに形成されたパターンの欠陥修正法 - 特許庁

METHOD FOR REDUCING NUMBER OF DEFECT OF PATTERN COLLAPSE IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法 - 特許庁

To provide a pattern defect inspection apparatus having stable inspection performance.例文帳に追加

検査性能が安定したパターン欠陥検査装置を実現すること。 - 特許庁

This condition is maintained, when an automatic defect classification is performed after the circuit pattern inspection.例文帳に追加

この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁

BLACK INK FOR CORRECTING DEFECT OF FINE COLORED PATTERN, AND COLOR FILTER例文帳に追加

微小着色パターン欠陥修正用黒インキ、及び、カラーフィルター - 特許庁

In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加

この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

LIQUID MATERIAL APPLYING UNIT AND FINE PATTERN DEFECT CORRECTING APPARATUS例文帳に追加

液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置 - 特許庁

CORRECTION METHOD AND CORRECTION COLOR FOR DEFECT PART OF COLOR FILTER PATTERN例文帳に追加

カラーフィルターのパターン欠陥部の補修方法および補修用カラー - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE AND IMAGE SENSOR CALIBRATION METHOD例文帳に追加

パターン欠陥検査装置及びイメージセンサの校正方法 - 特許庁

PATTERN DEFECT CORRECTING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

パターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置 - 特許庁

REPETITIVE PATTERN ERASING METHOD, DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE例文帳に追加

繰り返しパターン消去方法、欠陥検査方法及び装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF PERIODIC PATTERN例文帳に追加

周期性パターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁

DEVICE FOR CORRECTING DEFECT OF RETICLE PATTERN AND CORRECTION METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

レチクルパターンの欠陥修正装置およびその修正方法 - 特許庁

COLORED COMPOSITION AND COLORED PATTERN DEFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

着色組成物およびこれを用いた着色パターン欠陥修正方法 - 特許庁

APPARATUS, METHOD AND PROGRAM FOR ANALYZING DISTRIBUTION PATTERN OF SURFACE DEFECT例文帳に追加

表面欠陥の分布形態解析装置、方法、及びプログラム - 特許庁

TEST PATTERN, AND METHOD OF MONITORING DEFECT USING THE SAME例文帳に追加

テストパターン及びこれを用いる欠陥モニタリングの方法 - 特許庁

BLACK INK FOR CORRECTING MINUTE COLORED PATTERN DEFECT, AND COLOR FILTER例文帳に追加

微小着色パターン欠陥修正用黒インキ、及び、カラーフィルター - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR DEFECT CORRECTION, AND PATTERN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板製造方法 - 特許庁

To provide a pattern defect repairing device where a problem when a laser beam is adopted as a light source of an inspection device of a pattern defect, the defect of a pattern is inspected with higher resolution and the defect of the mask pattern can highly precisely be repaired.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

To inspect the presence/absence of a micro defect caused in a repeat pattern.例文帳に追加

繰り返しパターンに生じた微細な欠陥の有無を、短時間で検査する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING DEFECT OF RESIST PATTERN例文帳に追加

レジストパターンの欠陥検査方法及びその欠陥検査装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING DEFECT GENERATED IN FINE PATTERN ON SUBSTRATE例文帳に追加

基板上の微細パターンに発生した欠陥修正方法と修正装置 - 特許庁

To provide a high-precision pattern position with less defect.例文帳に追加

欠陥が少なくかつ高精度なパタン位置精度を実現する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING DEFECT IN WIRING PATTERN例文帳に追加

配線パターンの欠陥修正方法及び欠陥修正装置 - 特許庁

IMAGE CORRECTING METHOD AND PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD USING SAME例文帳に追加

画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法 - 特許庁

To enhance a function for detecting a defect of a pattern of a sample to be inspected.例文帳に追加

被検査試料のパターンの欠陥を検出する機能を高めること。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING DEFECT IN PATTERN ON OBJECT TO BE INSPECTED例文帳に追加

被検査対象物上のパターンの欠陥検査方法及びその装置 - 特許庁

CORRECTION DEVICE, AND ELECTRONIC CIRCUIT PATTERN DEFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

修正装置及び電子回路のパターン欠陥修正方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT, AND PATTERN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

欠陥修正装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁

A pattern for defect inspection formed of the circuit pattern and a produced defect of a predetermined dimension is formed on the semiconductor wafer, the pattern for defect inspection is detected, prior to the defect inspection of the circuit pattern, and the inspection sensitivity is adjusted, based on the inspection result.例文帳に追加

半導体ウェーハ上に回路パターンとともに所定寸法の作り込み欠陥からなる欠陥検査用パターンを形成し、該回路パターンの欠陥検査に先立って該欠陥検査用パターンを検出し、その検出結果に基づいて検査感度の調整を行う。 - 特許庁

COMMON DEFECT PROCESSING METHOD IN COLOR-FILTER PATTERN INSPECTION MACHINE例文帳に追加

カラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法 - 特許庁

This condition is maintained at automatic defect classification time, after circuit pattern inspection.例文帳に追加

この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING FINE PATTERN DEFECT OF FLAT SURFACE SUBSTRATE AND CORRECTING DEVICE例文帳に追加

平面基板の微細パターン欠陥修正方法および修正装置 - 特許庁

To provide a pattern defect repair apparatus capable of repairing the defect of a higher fineness mask pattern by solving the problem of the case a laser beam is employed as a light source for an inspection apparatus for the pattern defect and by inspecting the defect of the pattern with higher resolution.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE TO DETECT DEFECT IN RETICLE DESIGN PATTERN例文帳に追加

レティクル設計パターン内の欠陥を検出するための方法および装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF CONDUCTOR PATTERN例文帳に追加

導電体パターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁

To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加

基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁

To provide an apparatus for correcting a defect in a pattern, which corrects the defect on a photomask, by applying a pattern correcting material at an adequate size onto the defect in the pattern.例文帳に追加

フォトマスク上の欠陥にパターン修正材料を適切な大きさにて付与して欠陥を修正するパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.例文帳に追加

位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect detector and a pattern defect detecting method capable of detecting a pattern defect without generating detection missing, and allowing the detection without lowering a detection speed, and without separating a defective area.例文帳に追加

パターンの欠陥を漏れなく検出し、検出速度を低下させず、欠陥領域を分離させずに検出可能なパターン欠陥検出装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOMASK PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD AND DETECTING METHOD FOR FINE FIGURE PATTERN例文帳に追加

フォトマスクパタン欠陥検査方法および微細図形パタンの検出方法 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD FOR DETECTING PATTERN DEFECT AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

フォトマスク、そのパターン欠陥検出方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING DEFECT IN PATTERN SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法 - 特許庁