「PATTERN DEFECT」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

An incident beam is made to get incident into a printed wiring board with wiring and an insulator on its surface by a laser beam source 62, the surface is scanned with the incident beam, and fluorescence from the surface of the printed wiring board is detected by a camera unit 50, so as to inspect a defect in a conductive part pattern existing in the surface of the printed wiring board.例文帳に追加

表面に配線と絶縁体が存在するプリント配線板にレーザ光源62により入射光を入射させ、その表面を入射光で走査して、プリント配線板の表面からの蛍光をカメラユニット50で検知し、プリント配線板の表面にある導体部パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element capable of forming an organic layer having the excellent linearity of the end of a pattern on a substrate without causing a transfer defect that a part of an ink layer to be transferred and removed is left on a blanket, in a manufacturing method of an organic EL element using letterpress reversing offset printing.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のない有機層を形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This pattern defect correcting method includes an application step to apply a base part 31 to the defective part 32 of a rib 83 formed on a substrate, a step to reshape the applied base part 31, a step to bake the shaped base part 31, a step to further apply correcting paste on the baked base part 31, and a step to bake the applied correcting paste.例文帳に追加

パターン欠陥修正方法は、基板上に形成されたリブ８３の欠損部３２にベース部３１を塗布する塗布ステップと、塗布されたベース部３１を整形するステップと、整形されたベース部３１を焼成するステップと、焼成されたベース部３１の上に、さらに修正ペーストを塗布するステップと、さらに塗布された修正ペーストを焼成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition suitable as a color filter material, being good in developability and in image and line formability, preventing a coloring composition from remaining on a non-pixel part on a substrate after developing (development residue), a pattern defect of a pixel part and/or peeling, and having high productivity, and a color filter formed using the photosensitive coloring composition.例文帳に追加

現像性および画像画線形成性が良好で、現像後の基板上の非画素部への着色組成物の残留（現像残渣）や画素部のパターン欠け及び／または剥れがなく、高生産性のカラーフィルタ材料として好適な感光性着色組成物及びこれを用いて形成されるカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

This defect-inspecting semiconductor substrate comprises a base film 1 laid on a semiconductor substrate 13, the base film 1 is intended to raise the film surface contrast of a film forming region 22 to a no-film forming region 23 on a pattern 12 with respect to inspecting light, as compared with the contrast of the semiconductor substrate 13 surface to the film surface of the forming region 22.例文帳に追加

欠陥検査用半導体基板は、半導体基板１３に下地膜１を設けたもので、下地膜１は、パターン１２の膜形成部２２の膜面と非膜形成部２３との検査光に対するコントラストが、半導体基板１３表面と膜形成部２２の膜面とのコントラストより大きくするようなものである。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner which can output a good gold color in the image formation of an electrophotographic system and can faithfully reproduce intricate electric circuits with high resolution of wiring circuits without the occurrence of an electric conduction defect when used for wiring pattern generation by the electrophotographic system, and to provide a liquid developer containing the toner and an image forming method using the developer.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成において、良好な金色を出力することができ、また電子写真方式による配線パターン作成に用いた場合、導通不良を起こさず配線回路の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現することができる静電潜像現像用トナー、該トナーを含有する液体現像剤、及び該現像剤を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.例文帳に追加

ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥（特異点）を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain three images which are to be compared in double detection through main scanning toward the same direction, and to perform main scanning in both the normal and reverse directions, in defect inspection for scanning a sample surface on which a repeated pattern where a plurality of basic patterns are repeated is formed, and comparing each image on corresponding parts of the plurality of respective basic patterns.例文帳に追加

複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium capable of attaining large recording capacity, free from a winding form defect and output reduction due to generation of a radial pattern, free from generation of fine scraped powder in high speed running, having improved clogging of a magnetic head and dropout, having satisfactory running durability and electromagnetic transducing characteristics and advantageously used especially for recording computer data.例文帳に追加

大きな記録容量を達成出来ると共に、上記のような放射状パターン発生による巻き姿不良や出力低下の発生がなく、また、高速走行時等での微小削れ粉の発生がなく、磁気ヘッドの目詰まりやドロップアウトが良化し、良好な走行耐久性及び電磁変換特性を有する特にコンピューターデーター記録用として有利に用いられる、磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask detecting device and a photomask detecting method, capable of satisfactorily conducting a performance evaluation and a defect inspection of a large-sized photomask, and to provide a method of manufacturing a photomask for a liquid crystal device using the photomask detecting device and the photomask detecting method, and a pattern transferring method.例文帳に追加

大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を提供し、これらフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を用いた液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

The defect part is detected from the changing rate of a brightness gradient of a gradation pattern acquired by projecting the inspection object surface through a screen 3 where plural regular-hexagonal patterns are printed closely in the honeycomb shape and the concentric gradation patterns are printed on the respective regular-hexagonal patterns.例文帳に追加

複数個の正六角形のパターンが隙間なくハニカム状に印刷されて、これら正六角形の個々のパターンに同心円状のグラデーションパターンが印刷されたスクリーン３を介して検査対象面を投影して得られるグラデーションパターンの明暗勾配の変化率から欠陥部分を検出する。 - 特許庁

Further, since conventionally the connection test has been conducted between the logic section and the line address, the column address in the whole LSI operation test resulted in low defect detection rate; however it can be conducted in a scan test and a test pattern which has a high detection rate of the circuit defects can be created automatically.例文帳に追加

さらには、ロジック部とメモリ間の行アドレス及び列アドレスの接続テストを従来は、ＬＳＩ全体の実動作テストで行っていたため、回路の故障検出率を低かったが、この発明によりスキャンテストにより行うことができ、回路の故障検出率が高いテストパターンを自動で作成することができる。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a design support system, a design method, a design support program and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit, with which occurrence of a design pattern that is a main cause of a circuit defect and is difficult to be lithography-processed can be suppressed, dispersion due to manufacture fluctuation is suppressed and yield can be improved.例文帳に追加

回路不良要因であるリソグラフィー処理困難な設計パターンの発生を抑制でき、製造変動によるばらつきを抑制して歩留まりの向上を図ることが可能な半導体集積回路の設計支援システム、半導体集積回路の設計方法、半導体集積回路の設計支援プログラム、半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

The ink for correcting the defect of the fine colored pattern comprises at least a coloring agent, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent, in a compounding amount of the above solvent of 25-70 wt.% based on the entire weight, and has viscosity of the ink of 40-300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用インキである。 - 特許庁

By setting a hue applied by ink jet coating to a color approximate to a representative color (a color largest in an area ratio) of gravure printing performed later, the defect of the printing pattern due to gravure-offset printing is inconspicuous, a frame phenomenon due to ink jet coating is concealed and finish quality is enhanced sharply.例文帳に追加

インクジェット塗装によって着色する色相については、後から行うグラビア印刷の代表色（面積比率の最も大きな色）に近似の色とすることで、グラビアオフセット印刷による印刷柄抜けが目立たず、インクジェット塗装による額縁現象が隠蔽されて、仕上がり品質が大幅に向上する。 - 特許庁

Besides, since the inter-layer insulating film 6 is formed between the respective terminals as well, even when etching is performed for the etching time for the ITO formed on the inter-layer insulating film 6, no ITO is left between the terminals, the ITO can be patterned through one time of resist pattern forming process and etching process, and the occurrence of a leak defect between terminals can be prevented.例文帳に追加

また、各端子間にも層間絶縁膜６が形成されているため、層間絶縁膜６上に形成されたＩＴＯに対するエッチング時間でエッチングを行っても端子間にＩＴＯが残ることなく、一回のレジストパターン形成工程及びエッチング工程でＩＴＯのパターン形成を行うことができ、端子間のリーク不良の発生を防止できる。 - 特許庁

After an aerial wiring of a metal deposited film is formed by FIB-CVD in an X direction and a Y direction on an isolated pattern to eliminate the influences due to charge-up, the aerial wiring of the metal deposited film in the X and Y directions is used as a marker for correcting the drift during fabrication, and a defect is corrected, while the drift is corrected.例文帳に追加

孤立したパターンにX方向及びY方向にFIB-CVDで金属デポジション膜空中配線を形成してチャージアップの影響を無くした状態で、X方向及びY方向の金属デポジション膜空中配線を加工時のドリフト補正のマーカーとして使用し、ドリフト補正を行いながら欠陥を修正する。 - 特許庁

A digital virtual test system including a semiconductor simulation model and an LSI tester simulation model includes a determination means for comparing and determining whether an address signal for accessing a memory function model in the semiconductor simulation model accesses a predetermined address in an address range of the memory function model or not to detect a defect of a test pattern using the LSI tester or the LSI tester simulation model.例文帳に追加

半導体シミュレーションモデルとＬＳＩテスタシミュレーションモデルを含むデジタルヴァーチャルテストシステムにおいて、半導体シミュレーションモデルのメモリ機能モデルをアクセスするアドレス信号が、メモリ機能モデルのアドレス範囲のうち所定のアドレスをアクセスしたかどうかを比較判定する判定手段を設けてＬＳＩテスタまたはＬＳＩテスタシミュレーションモデルを使用したテストパターンの不備を検出する。 - 特許庁

This circuit is provided with a memory 10 provided with an additional memory cell for storing defective data bit information on a memory cell, a comparing circuit 20 comparing output data DATO of the memory 10 with its expected value EXP for each data bit, and a BIST circuit 30 generating a required and sufficient test input pattern for detecting the defect of memory cells constituting the memory 10 and the expected value EXP and controlling test sequence.例文帳に追加

メモリセルの不良データビット情報を格納するための付加メモリセルを備えたメモリ１０と、そのメモリ１０の出力データＤＡＴＯとその期待値ＥＸＰをデータビットごとに比較する比較回路２０と、そのメモリ１０を構成するメモリセルの不良を検出するために必要十分なテスト入力パターンおよび上記期待値ＥＸＰを発生しテストシーケンスをコントロールするＢＩＳＴ回路３０とを備えた。 - 特許庁