「PATTERN DEFECT」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

To provide a lost pattern for casting with which cast defect caused by defective gas vent is reduced in a lost pattern casting method.例文帳に追加

消失模型鋳造法において、ガス抜き不良による鋳造欠陥を低減できる鋳造用消失模型を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for effectively forming a highly reliable pattern on a substrate by compensating for a defect of mask.例文帳に追加

マスクの欠陥を補償して基板上に信頼性の高いパターンを効率よく形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The line width of the pattern of the absorbing film 4 adjacent to a pattern defect correcting portion is made narrow, thereby improving the reflection rate.例文帳に追加

パターン欠陥修正部に隣接する吸収膜４のパターンの線幅を狭くすることにより、反射率を向上させることができる。 - 特許庁

To reduce the generation of a defect of a pattern in a coating development treatment system to form a pattern on a wafer.例文帳に追加

ウェハ上にパターンを形成する塗布現像処理システムにおいて，パターンに関する不具合の発生を低減する。 - 特許庁

When some conductor pattern 31 has a short circuit defect, a current flows through the conductor pattern 31 to generate heat.例文帳に追加

導電体パターン３１に短絡欠陥がある場合は、その導電体パターン３１に電流が流れて発熱する。 - 特許庁

TREATING AGENT FOR DECREASING CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST PATTERN DEFECT AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジストパターンディフェクト低減用処理剤及びそれを用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁

In such a case, a pattern which also can be observed by the ion beam defect correcting device is selected as the pattern of alignment.例文帳に追加

このとき、位置あわせのパターンはイオンビーム欠陥修正装置でも観察可能なものを選んでおく。 - 特許庁

The system then prints the test pattern, scans the pattern and determines an image quality parameter to automatically discriminate an image defect.例文帳に追加

次に、システムはテストパターンを印刷し、パターンをスキャンし、イメージ品質パラメータを決定して自動的にイメージ欠陥を識別する。 - 特許庁

To provide a pattern inspecting device with in the bubbles of a base film are not erroneously recognized as the defect of a pattern.例文帳に追加

ベースフィルムの気泡をパターンの欠陥と誤認識することのないパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, a defect of the wiring pattern 22b can be found and the wiring pattern is eliminated, so that the end point of polishing can be confirmed.例文帳に追加

配線パタ−ン２２ｂの欠陥を見つけることができ配線パタ−ンが無くなることで研磨終点が確認できる。 - 特許庁

To eliminate an influence of a pseudo-defect generated by an error in a pattern inspection condition to enhance the sensitivity of pattern inspection.例文帳に追加

パターン検査条件の誤差により発生する疑似欠陥の影響を排除してパターン検査の感度を高めること。 - 特許庁

To provide a pattern inspecting apparatus for precisely and efficiently detecting a defect, and inspecting a pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

精度よく効率的に欠陥を検出することができる、半導体デバイスのパターンを検査するパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem a defect signal is missed and sensitivity is degraded by light scattered by a pattern in the irregular circuit pattern portion.例文帳に追加

不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。 - 特許庁

Inspection of existence of a defect in each divided pattern region is performed by using the inspection standard of each registered pattern region (S7).例文帳に追加

その分割された各パターン領域の欠陥の有無の検査を、その登録されている各パターン領域ごとの検査基準を用いて行う（Ｓ７）。 - 特許庁

The memory test circuit constitutes a part of a test pattern, executes the test to a memory 2 according to a pattern mode signal for specifying the partial pattern consisting of a plurality of operation and stores the pattern mode signal in a defect information storing register 17 as the part of the defect information.例文帳に追加

本発明にかかるメモリテスト回路は、テストパタンの一部を構成し、複数の動作からなる部分パタンを指定するパタンモード信号に応じてメモリ２に対するテストを実行するとともに、パタンモード信号を不良情報の一部として不良情報格納レジスタ１７に格納するものである。 - 特許庁

To provide a resist composition, a resist layer, an imprint method, a pattern forming body, and their associated technique in which there is not a peel-off defect or a pattern defect over the whole pattern forming body, a pattern shape and a remained film are uniform, and productivity is improved for short peel-off time.例文帳に追加

パターン形成体の全面にわたって、剥離不良やパターン不良がなく、パターン形状及び残膜を均一なものとし、短い剥離時間で生産性を向上させるレジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、及びこれらに関連する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve the problem that it is difficult to grasp occurrence tendency of a defect since a defect size becoming fatal is miniaturized with miniaturization of a pattern and manufacturing tolerance which is originally not a defect is detected when sensitivity of a fault inspecting device is improved for detecting the minimal defect in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおいて，パターン微細化に伴い，致命となる欠陥サイズも微小化しており，微細な欠陥を検出するために欠陥検査装置の感度を上げると，本来は欠陥ではない製造公差などを検出してしまい，欠陥の発生傾向を捕らえることが困難となる。 - 特許庁

Furthermore, in the scanning charged particle microscope for semiconductor test and semiconductor measurement, by using a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like by using the image after image restoration, measurement precision improvement and high precision of defect detection and defect classification or the like become possible.例文帳に追加

さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁

To provide a method for sorting a defect distribution which can accurately sort defect distributions on substrates, even when the positional displacement or size of a defect on a substrate to be inspected is changed with respect to a known defect distribution pattern as a sorting reference.例文帳に追加

分類の基準となる既知の欠陥分布パターンに対して検査対象となる基板上の欠陥の位置ズレや大きさの変化が発生する場合であっても、基板上の欠陥分布を精度良く分類できる欠陥分布分類方法を提供すること。 - 特許庁

Focused ion beam used as the pattern defect correcting means allows ion implantation into the buffer layer 3 of the portion having the corrected pattern defect.例文帳に追加

パターン欠陥修正手段として用いる集束イオンビームにより、パターン欠陥が修正された部分の緩衝膜３にはイオンが注入されている。 - 特許庁

Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.例文帳に追加

続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁

Thereafter, pattern data optimized for the defect inspecting machine are generated from the pattern data according to the divided region determined according to a defect inspecting machine file format.例文帳に追加

その後、この図形データから欠陥検査機用のファイルフォーマットで決まる分割領域に合わせて、改めて、前記欠陥検査機用に最適化した図形データを生成する。 - 特許庁

To detect a defect at the optimal sensitivity for each pattern region by dividing the pattern regions precisely and dynamically and changing the defect inspection method and sensitivity for each region.例文帳に追加

パターン領域を精密かつ動的に分けて、領域毎に欠陥検査方式や感度を切り替えることによって、パターン領域毎に最適な感度での欠陥検出を可能とする。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method capable of performing defect inspection simply, quickly and surely, even when performing the defect inspection of a pattern of a sample having a large region.例文帳に追加

大領域の試料のパターンの欠陥検査を行う場合であっても、簡便、迅速、確実に欠陥検査を行うことができるパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加

チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

A defect inspection apparatus inspects the defect on a module board by comparing the image pattern picked up by an image pickup apparatus 20 with a reference pattern image of a reference module board previously stored.例文帳に追加

画像読取装置２０で読取った画像パターンと予め記憶されている基準モジュール基板の基準パターン画像と比較対照することにより、モジュール基板の欠陥を検査する欠陥検査装置である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that avoids a defect of a transfer pattern caused by a defect in charging a mask material in a pattern formed on a template in an imprinting method.例文帳に追加

インプリント法において、テンプレートに形成されたパターンへのマスク材料の充填不良に伴う転写パターンの不良を回避する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correction of a white defect in a mask pattern, capable of precisely correcting the white defect without damaging a photomask by using near field light, and to provide a mask pattern.例文帳に追加

フォトマスクがダメージを受けることなく、精度よく、白欠陥の修正を可能とする、近接場光を用いたマスクパターンの白欠陥修正方法およびマスクパターンを提供する。 - 特許庁

The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).例文帳に追加

リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する（Ｓ３〜Ｓ５）。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING PATTERN DEFECT OF KEYBOARD OF VARIOUS ELECTRONIC DEVICES, AND COMPUTER- READABLE RECORDING MEDIUM WHERE PATTERN DEFECT INSPECTION PROGRAM IS RECORDED例文帳に追加

各種電子機器のキ—ボ—ドのパタ—ン欠陥検査方法及びパタ—ン欠陥検査システム並びにパタ—ン欠陥検査プログラムを記録したコンピュ—タ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To prevent losing of a defect correcting material in a washing precess of carbon-based contamination in a method for correcting pattern defects and a pattern defect correcting device.例文帳に追加

パターン欠陥修正方法及びパターン欠陥修正装置に関し、炭素系汚染の洗浄プロセスにおける欠陥修正材料の消失を防止する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for correcting a defect in a pattern substrate capable of stably correcting the defect and a manufacturing method of a pattern substrate.例文帳に追加

安定して欠陥を修正することができるパターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法を提供すること。 - 特許庁

For example, a lateral line defect pattern 2 of a central part is displayed by dots of a relatively slightly dense halftone display, and lateral line defect pattern 2 except them is displayed by dots of a halftone display near a relatively white display.例文帳に追加

たとえば、中央部の横方向線欠陥パターン２を相対的にやや濃い中間調表示のドットとし、それ以外の横方向線欠陥パターン２を相対的により白表示に近い中間調表示のドットとする。 - 特許庁

The image feature amount is calculated from an inspection image of a semiconductor wafer, pattern region division is performed, and the inspection method and sensitivity (defect inspection threshold) preset for each pattern region are changed, thereby performing the defect inspection.例文帳に追加

半導体ウェハの検査画像から画像特徴量を算出し、パターン領域分割を行い，予めパターン領域毎に設定した検査方式及び感度（欠陥検出閾値）を切り替えて欠陥検出を行う。 - 特許庁

The mask pattern are macroprojected on the wafer 9 and the macroprojected pattern on the wafer 9 are subjected to the defect inspection, by which the defect inspection of the mask is performed.例文帳に追加

ウエハ９上にマスクパターンを拡大投影し、ウエハ９上の拡大投影パターンを欠陥検査することによりマスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁

To achieve a defect inspection apparatus capable of accurately inspecting micro foreign matter or defect at a high speed for an inspection target substrate in which a repetitive pattern and a non-repetitive pattern are mixed.例文帳に追加

繰り返しパターンと非繰り返しパターンとが混在する被検査対象基板に対して、微小な異物または欠陥を高速で、しかも高精度に検査できる欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

A pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the thickness of the buffer film 3 on a portion below the pattern defect is thinned to form a film thin portion 5.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の下方にある部分の緩衝膜３の膜厚を薄くして膜薄部５を形成する。 - 特許庁

Thus, the device 1 can accurately detect a defect of the pattern of the other die while removing the defect of the pattern of the die as the reference.例文帳に追加

これにより、欠陥検出装置１では基準とされるダイのパターンの欠陥の影響を除きつつ、他のダイのパターンの欠陥を精度よく検出することができる。 - 特許庁

The pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the line width of the absorbing film 4 of a portion adjacent in a horizontal direction of the pattern defect is made narrow.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の水平方向隣にある部分の吸収膜４のパターンの線幅を狭くする。 - 特許庁

To eliminate the reduction of the throughput of defect inspection, and further, obtain a more improved mask yield and the more improved dimension-controllability of a transcription-pattern, etc., than conventional ones, by performing the division of the pattern in consideration of its defect redundancy.例文帳に追加

欠陥冗長性を考慮したパターン分割を行うことによって、欠陥検査のスループット低下を招くことなく、しかもマスク歩留まりや転写パターンの寸法制御性等を従来よりも向上させる。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for inspecting defect of a resist pattern capable of easily detecting a defect caused only by a resist formation process by comparing the surface of a resist pattern efficiently.例文帳に追加

レジストパターン表面を効率よく比較し、レジスト形成工程に起因する欠陥のみを容易に検出するレジストパターンの欠陥検査方法及びその欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask inspection method for performing rapid pattern inspection by suppressing detection of a pseudo defect included in a mask pattern and reliably detecting a real defect.例文帳に追加

マスクパターンに含まれる擬似欠陥の検出を抑制し、実欠陥を確実に検出しすることによって、迅速なパターン検査を行うことが出来るマスク検査方法を提供する。 - 特許庁

As a defect of a reticle pattern can be corrected by the defect correction mechanism while in-situ observing a transferred image by the optical emulation system, the reticle pattern can be efficiently corrected while avoiding a problem such as excessive correction.例文帳に追加

光学エミュレーションシステムにより転写像をその場観察しながら、欠陥修正機構によりレチクルパターン欠陥を修正できるので、過修正などの問題を回避しつつ、効率的にレチクルパターンの修正ができる。 - 特許庁

To provide a pattern substrate defect correction method and device to reliably correct a defect, and to provide a pattern substrate manufacturing method.例文帳に追加

確実に欠陥を修正することができるパターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法を提供する。 - 特許庁